「light pattern」を含む例文一覧(7056)

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  • As for the manufacturing method of the light control film, a light control pattern is formed on a transparent substrate by an ink jet system.
    透明基体上に、インクジェット方式によりライトコントロール用のパターンを形成することを特徴とするライトコントロールフィルムの製造方法。 - 特許庁
  • To form a light distribution pattern suitable for cornering without causing glare against an oncoming vehicle, and without increasing a light chamber size and cost.
    対向車へのグレアを生じさせることも灯室サイズやコストを増加させることもなく、コーナリングに適した配光パターンを形成する。 - 特許庁
  • To provide a photomask that expresses a large number of grayscale levels even in a gray tone mask having a binary pattern composed of a light-transmitting region and a light-shielding region.
    光透過領域及び遮光領域からなる２値パターンのグレートーンマスクにおいても、多くの階調数を表現する。 - 特許庁
  • Subsequently, the formed resist film 102 is irradiated with an exposure light comprising extreme ultraviolet light in a selective manner to achieve pattern exposure.
    続いて、形成されたレジスト膜１０２に、極紫外線からなる露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。 - 特許庁
  • To make the inspection of pattern defects possible in a photomask using a resist as a light shield by a photomask defect inspection device which detects transmitting light.
    レジストを遮光体としたホトマスクにおいて、透過光検出型のホトマスク欠陥検査装置によるパターン欠陥検査を可能にする。 - 特許庁
  • Then, the reflecting sheet 2 is pasted to the light guide plate body 4 by a pasting action of the paste ink which has formed the light scattering pattern 3.
    該反射シート２を、前記光散乱パターン３を形成した糊インクの貼着作用をもって導光板本体４に貼着する。 - 特許庁
  • To provide a master disk on which minute ruggedness pattern is formed without making exposed light to short wave light and to provide a manufacturing method thereof.
    微細な凹凸パターンが露光光を短波長化することなく形成されている原盤及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • MANUFACTURING METHOD OF MOLD FOR MOLDING FINE PATTERN, OPTICAL PART MOLDED USING MOLD AND LIGHT CONTROL PLATE FOR SURFACE LIGHT SOURCE ELEMENT
    微細パターン成形用金型の製造方法、並びにこの金型を用いて成形した光学部品および面光源素子用光制御板 - 特許庁
  • A light blocking pattern is located on the lower side of the first boundary surface and blocks incidence of artificial light on a peripheral part of the transmissive window.
    光遮断パターンは、第１境界面の下部に位置して透過窓の周辺部に人工光が入射することを遮断する。 - 特許庁
  • A pattern drawn on the photomask is transferred to the exposure surface of the belt-shaped substrate with light 51 of a light source 47 of an optical system device 45.
    フォトマスクに描かれたパターンは、光学系装置４５の光源４７の光５１によって帯状基板の露光面に転写される。 - 特許庁
  • The pattern forming apparatus is equipped with the photosensitive laminate and includes at least a light illuminating means and a light modulating means.
    前記感光性積層体を備えており、光照射手段と光変調手段とを少なくとも有するパターン形成装置である。 - 特許庁
  • To prevent quality degradation of a pattern image of information light reproduced from interference fringes generated by deviation of a radiation position of reference light.
    参照光の照射位置のズレにより、干渉縞から再生される情報光のパターン像の質が低下することを防止する。 - 特許庁
  • To provide a light emitting element package which visualizes a liquid repellent pattern without deteriorating luminescence properties, and to provide a method for manufacturing the light emitting element package.
    発光特性を低下させずに、撥液パターンを可視化することのできる発光素子パッケージおよびその製造方法を提供する - 特許庁
  • The light selection reflecting pattern layer 4 may be laminated on the light selection reflecting layer 6 or on the rear face side of the substrate 2.
    光選択反射パターン層４を積層する位置は、光選択反射層６上でもよく、あるいは、基材２の背面側でもよい。 - 特許庁
  • To decrease an influence of a light having a wavelength different from that of a pattern light of an EUV exposure to improve an accuracy of a lithography.
    ＥＵＶ露光におけるパターン光と異なる波長の光の影響を低減することができ、パターン転写精度の向上をはかる。 - 特許庁
  • The degree of the light control function of the optical film changes within a plane of the optical film corresponding to an alignment pattern of the plurality of light emitters.
    光学フィルムの光制御機能の強さは、複数の発光体の配列パターンに応じて、当該光学フィルムの面内で変化する。 - 特許庁
  • To provide an inexpensive line scanner device having a simple structure, which can read a pattern of colors using light-emitting diodes as a light-receiving element.
    発光ダイオードを受光素子として利用し、色のパターンを読み取ることのできる安価で簡単な構造のラインスキャナを提供する。 - 特許庁
  • To provide a light-shielding screen device capable of performing different light-shielding from conventional one and forming a pattern on a window by a screen.
    従来とは異なる遮光を行うことができるうえ、スクリーンによって窓に模様を形成できる遮光スクリーン装置を提供する。 - 特許庁
  • A pattern sensor 7 includes a regular reflection light-emitting element 201, a diffused reflection light-emitting element 202 and a photodetector 204.
    パターン検知センサ７は、正反射光用発光素子２０１、乱反射光用発光素子２０２および受光素子２０４を備えている。 - 特許庁
  • A test pattern 96 is recorded on a land 90 with a predetermined recording light quantity, and test patterns 98 and 99 are recorded on grooves 92 and 94 with various recording light quantities.
    ランド90に予め定めた記録光量でテストパターン96を記録し、グルーブ92,94に種々の記録光量でテストパターン98,99を記録する。 - 特許庁
  • It had a dyed pattern called yuhata, and dark red and purplish green for women of First Rank and higher, while the women of lower rank wore dark red, light purple, and light or deep green.
    纈（ゆはた）といって染め模様のあるもので、一位以上は蘇芳深浅の紫緑、それ以下は蘇芳浅紫浅深緑。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • In addition, the light reversing pattern layer 4 may be laminated at a site on the light selective reflecting layer 6 or on the back of the base material 2.
    光反転パターン層４を積層する位置は、光選択反射層６上でもよく、あるいは、基材２の背面側でもよい。 - 特許庁
  • Light leaking from the V-shaped groove is reflected by the dot-pattern on the back surface of a dot sheet light emitter and is returned to the original V-shaped groove.
    Ｖ字溝より洩れた光は、ドット面状発光体裏面上にあるドットパターンに反射して元のＶ字溝に復帰する。 - 特許庁
  • As a result, when it is the display pattern in which a background color is a light color (the display pattern in which the luminance of the background color is high), a display control part 76 changes it to the display pattern in which the background color is a deep color (the display pattern in which the luminance of the background color is low).
    その結果、背景色が薄色の表示パターン（背景色の輝度が高い表示パターン）であれば、表示制御部７６は背景色が濃色の表示パターン（背景色の輝度が低い表示パターン）に変更する。 - 特許庁
  • An adjustment pattern is formed so that dot pattern formation conditions for forming the digital pen dot pattern are changed to be in conformity with the change of the environmental conditions, and the light reflection property of the formed adjustment pattern is detected.
    デジタルペン用のドットパターンを形成するためのドットパターン形成条件を環境条件の変化に適合するように変更するために、調整パターンを形成し、形成された調整パターンの光反射特性を検出する。 - 特許庁
  • An exposure method for transferring an exposure light pattern to an object surface includes: a pattern formation step of forming a pattern; a projection step of projecting the pattern on the object surface using a projection optical system; and an adjustment step of dividing the pattern according to the shape of the projection region on which the pattern is projected on the object surface.
    露光光のパターンを対象面に転写する露光方法であって、パターンを形成するパターン形成ステップと、投影光学系を用いてパターンを対象面に投影する投影ステップと、対象面のうちパターンが投影される投影領域の形状に応じて、パターンを分割する調整ステップとを含む。 - 特許庁
  • In a predetermined position on a paper carrying path, a light emitting part 44 for irradiating light from an LED light source 45 on the surface of paper being carried and a light receiving part 47 provided with an image sensor 48 receiving light reflected from paper surface within a certain region B irradiated with light to read a brightness pattern and converting the brightness pattern to an electrical signal are provided.
    用紙搬送経路上の所定位置に、搬送中の用紙の表面にＬＥＤ光源４５から光を照射する発光部４４と、光が照射される一定領域Ｂ内の用紙表面から反射する光を受光して明暗パターンを読み取り、電気信号に変換するイメージセンサー４８を有する受光部４７と、を備えている。 - 特許庁
  • Here, the light-emitting parts 22 are so arranged that major diameters D of adjacent oval shapes of irradiation light overlap each other, so that an outside contour line of the light distribution pattern formed by the irradiation light emitted from each light-emitting part 22 can be formed into a circular shape with smaller unevenness and a circular and uniform light distribution pattern as a whole can be obtained.
    このとき、隣接する長円形状の照明光の長径Ｄ同士が重なるように発光部２２を配置したので、各発光部２２から発せられる照射光により形成される配光パターンの外側輪郭線を、凹凸の少ない円形状とすることができ、全体として円形で均一な配光パターンを得ることができる。 - 特許庁
  • The light-shielding signal control circuit 208 sets a pattern region S1 that receives the information reproducing light and a non-light shielding region S2 that receives reference reproducing light in the light-shielding liquid crystal panel 40, and sets the highest transmittance for the pixel of the pattern region S1 and sets the lowest transmittance for the pixel of the non-light shielding region S2.
    遮光用信号制御回路２０８は、遮光用液晶パネル４０に情報再生光が入射するパターン対応領域Ｓ１および参照再生光が入射する非遮光対応領域Ｓ２を設定し、パターン対応領域Ｓ１の画素の透過率を最高値に、非遮光対応領域Ｓ２の画素の透過率を最低値に設定する。 - 特許庁
  • The metal pattern formed resin substrate 1 is irradiated with exciting light a1 and visible light a2 at the same time to get the light emitted from the resin surface 2 of the metal pattern formed resin substrate 1 and the visible light reflected by the metal patterns 3 detected by a detection system having no sensitivity to the exciting light but having sensitivity to fluorescence, phosphorescence or visible light.
    金属パターン形成樹脂基板１に励起光ａ１及び可視光ａ２を同時に照射し、金属パターン形成樹脂基板１の樹脂表面２から発せられる光及び金属パターン３が反射する可視光を、励起光に対する感度を有さず、前記蛍光又は燐光、及び可視光に対する感度を有する検出系で検出する。 - 特許庁
  • The image-focusing lenses 30, 30 and the reflecting mirror 40 form the light distribution pattern corresponding to the array of the plurality of LEDs 22, ... in the light source array 20, and expand respective irradiation ranges of the plurality of LEDs 22, ... in the light distribution pattern at a prescribed magnification distribution, while transforming the light emitted from the light source array 20 into parallel light.
    結像レンズ３０，３０及び反射鏡４０は、光源アレイ２０における複数のＬＥＤ２２，…の配列に対応した配光パターンを形成するとともに、光源アレイ２０から出射された光を平行光に変換しつつ、配光パターンにおける複数のＬＥＤ２２，…の各照射範囲を所定の倍率分布で拡大させる。 - 特許庁
  • The light emitting time adjusting section 20 has a light emitting time fine-adjusting unit 40, and forms a light emitting pattern of a gauss shape, for example, using many individual measured values, and thus theoretically, optionally fragments the actually occurring light emitting time delay by the center of gravity of a light receiving pattern to which it belongs comparing with a physically enabled light emitting time.
    更に発光時点調整部２０は発光時間微調整ユニット４０を有し、多数の個別測定値を使って例えばガウス形状の発光パターンを形成することにより、実際に生じている発光時間遅延を、物理的に可能な発光時点と比べて、属する受光パターンの重心により理論的に任意に細分化する。 - 特許庁
  • The light diffraction structure transfer sheet 1 comprises a transfer layer 12 in which a light diffraction structure 12a with a first pattern is formed, laminated on a substrate sheet 10 and a pattern region 12b in which a second pattern different from the first pattern is formed, is built in the light diffraction structure 12a at a size as not visible with naked eyes.
    基材シート１０上に第１のパターンを有する光回折構造１２ａが形成された転写層１２が積層された光回折構造転写シート１であって、光回折構造１２ａには、前記第１のパターンと異なる第２のパターンが形成されたパターン領域１２ｂが肉眼では視認できない大きさで組込まれている。 - 特許庁
  • This instrument has a grid pattern projection device 6 formed as a unit and equipped with a grid pattern 609 arranged on the optical path of light from a light source device 14 and having slit-shaped light transmission parts formed at fixed-interval pitches, and with a projection optical system 611 for projecting a grid pattern image formed by the grid pattern 609 to a specimen 3 at a prescribed angle.
    光源装置１４からの光の光路に配置される、スリット状の光透過部を一定間隔のピッチで形成した格子パターン６０９、この格子パターン６０９より形成される格子パターン像を標本３に対し所定角度傾けて投影する投影光学系６１１を具備したユニット化された格子パターン投影装置６を有する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask by which a residual light shielding layer film on a translucent phase shift pattern in an effective region can be detected in an inspection process by decreasing the reflectance of the surface of the light shielding pattern on the translucent phase shift pattern in the effective region than the reflectance of the surface of the light shielding pattern in the peripheral part.
    有効領域の半透明位相シフトパターン上の遮光パターン表面の反射率を外周部の遮光パターン表面の反射率より低くすることにより、検査工程での有効領域の半透明位相シフトパターン上の遮光層膜残りの検出を可能にしたハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • A direction angle of an individual pattern light forming the projected pattern light is calculated by the computer 3, based on an intensity value of the projected pattern light detected from the picked-up image, an intensity distribution is divided, a depth distance is calculated based on a phase value in each measuring point of a divided pattern, and the three-dimensional information is thereby obtained precisely.
    コンピュータ３により、撮像された画像から検出された投影パターン光の強度値から投影パターン光を形成している個別パターン光の方向角が算出されるとともに強度分布が分割され、分割されたパターンの各計測点における位相値から奥行き距離が算出されるので、精度の高い三次元情報を得ることができる。 - 特許庁
  • The light source part 110 has: a plurality of first light emitting parts which emit light for forming a first interference pattern by being diffracted by the diffraction grating 210; and a plurality of second light emitting parts which emit light for forming a second interference pattern by being diffracted by the diffraction grating.
    光源部１１０は、回折格子２１０により回折されることで第１の干渉パターンを形成する光を出射する複数の第１の光出射部と、回折格子により回折されることで第２の干渉パターンを形成する光を出射する複数の第２の光出射部と、を有する。 - 特許庁
  • An inexpensive pattern drawing device is provided by using an extra-high pressure mercury lamp as a light source in the pattern drawing device 1, guiding light from the light source to the plurality of drawing heads 40 while branching a path of the light from the light source in the lamp house 6 into a plurality of paths with the bundle fiber 41, and consequently simplifying the device structure.
    パターン描画装置１では、光源に超高圧水銀ランプを使用し、ランプハウス６内の光源からの光の経路をバンドルファイバ４１により複数の経路に分岐して複数の描画ヘッド４０に光を導くことで、装置構造を簡素化して安価なパターン描画装置を提供することができる。 - 特許庁
  • The light beam projected from a head part 20a of the light beam irradiation device 20 is received by a light receiving means (CCD camera 51) provided on the chuck 10, and displacement of the pattern 2 in each scanning, the pattern drawn by the light beam, is predetected by the received light beam, and coordinates of the drawing data are corrected on the basis of the detection results.
    チャック１０に設けられた受光手段（ＣＣＤカメラ５１）により、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームを受光し、受光した光ビームから、予め、光ビームにより描画されるパターン２の走査毎のずれを検出し、検出結果に基づき、描画データの座標を補正する。 - 特許庁
  • Thus, arrival blocking and arrival blocking release of light from the first semiconductor light-emitting element 22 to the first reflector 28 and from the second semiconductor light-emitting element 24 to the fourth reflector 34 can be switched, and formation and non-formation of the first individual light distribution pattern PH1 and the fourth individual light-distribution pattern PH4 can also be switched.
    これにより、第１半導体発光素子２２から第１リフレクタ２８、および第２半導体発光素子２４から第４リフレクタ３４への光の到達阻止と到達阻止解除が切り替えられ、第１個別配光パターンＰＨ１および第４個別配光パターンＰＨ４の形成、非形成が切り替えられる。 - 特許庁
  • On the base for forming the optical disk, each projection is formed to contain a coloring matter having a light-absorbing effect to the light for reproducing a signal pattern and to be provided with variation in quantity of the reflected light of the light for reproduction, and the signal pattern is detected by detecting the variation in the light quantity.
    光ディスク成型用基盤において、上記夫々の突起部を、上記信号パターンの再生用の光に対して光吸収効果を有する色素を含ませて形成し、上記再生用の光の反射光の光量に変化を与え、この光量変化を検出することにより、上記信号パターンを検出可能とする。 - 特許庁
  • A light shielding pattern 54 having a plurality of arrayed polygonal light shielding portions 53 and a light transmitting portion 55 of a resolution limit or lower disposed at the center of the array is formed in the light transmitting region of a photomask, as a unit light shielding pattern for forming a projection 56 for alignment control in a photosensitive composition layer.
    感光性組成物層に配向制御用突起５６を形成するための単位の遮光パターンとして、フォトマスクの光透過領域中に、多角形状の遮光部５３が複数個配列され、その配列の中心部に解像限界以下の光透過部５５を有する遮光パターン５４を形成する。 - 特許庁
  • Further, by diffractingly separating the visible light with a color having a specified wavelength among light incident in an optical decorative layer 13 through the base material 11 with the optical decorative layer 13, the light and dark pattern of light of the decorative pattern 12 is so constituted as to be colored in the color having the specified wavelength using the resultant diffracted light.
    さらに、光学加飾層１３により、基材１１を透過して光学加飾層１３に入射される光のうち、特定波長の色の可視光を回折分離し、この回折光を用いて装飾模様１２の光の明暗模様を特定波長の色に着色するように構成した。 - 特許庁
  • The translucent part 27a which guides the light from the light source 25 only to the light shielding pattern corresponding to the rotary angle position of the operation part 31 of multiple light shielding patterns is provided in this rotary gobo 27, and only the light shielding pattern corresponding to the rotary angle position of the operation part 31 is illuminated in a spotlighted manner.
    この回転遮光板２７には、光源２５からの光を、複数の遮光パターンのうちの操作部３１の回転角度位置に対応する遮光パターンのみに導く透光部２７ａが設けられ、操作部３１の回転角度位置に対応する遮光パターンのみがスポット的に照らし出されるようになっている。 - 特許庁
  • A mask RT having a prescribed pattern formed thereon is irradiated through a light diffusing member DF, at least one position of the light diffusing member DF, the mask RT, and a light receiving opening 91a is changed, and the light through the light receiving opening 9a is wave- surfacewise divided to form a plurality of pattern images.
    光拡散部材ＤＦを介して所定のパターンＰＨ_1が形成されたマスクＲＴを照射するとともに、光拡散部材ＤＦ、マスクＲＴ、及び受光用開口９１aの少なくとも１つの位置を変化させて、受光用開口９１aを介した光を波面分割して複数のパターン像を形成する。 - 特許庁
  • A light receptor unit 20 receives the light and produces a binary signal in accordance with the intensity of the light and, when the bit pattern sequence included in the binary signal is coping with either one of the two bit pattern sequences, the light receptor unit 20 generates a logical signal 1 or a logical signal 0 to effect the reproduction of the information included in the light.
    受光ユニット２０は、前記光を受光してその光の強度に応じた二値化信号を生成し、該二値化信号に含まれるビットパターン系列が、前記二つのビットパターン系列のいずれか一方に対応するときに、論理信号１または論理信号０を発生して、前記光に含まれる情報の再生を行う。 - 特許庁
  • The light emitting intensity of the light source 102 is varied at an arbitrary time in a predetermined intensity modulating pattern sequence by which the light source 102 is continuously turned on, and the position is detected in the intensity modulating pattern sequence of received light of the photosensor 105 in a predetermined region on the basis of the detected result of the scanning light received by the photosensor 105.
    任意時に、光源102を連続的に発光状態に置く所定の強度変調パターン列で光源102の発光強度を変化させ、その時に光センサ105が受光する走査光の検出結果に基づいて、光センサ105の所定領域での受光光の強度変調パターン列中での位置を検出する。 - 特許庁
  • In the vehicular headlight, a first reflector 28 to a fourth reflector 34 respectively reflect light from a first semiconductor light-emitting element 22 or a second semiconductor light-emitting element 24, and respectively form a first individual light-distributing pattern PH1 to a fourth individual light-distributing pattern PH4 which are arranged in a horizontal direction by adjoining each other.
    車両用前照灯において、第１リフレクタ２８〜第４リフレクタ３４は、第１半導体発光素子２２または第２半導体発光素子２４からの光を各々が反射し、互いに隣接して水平方向に並ぶ第１個別配光パターンＰＨ１〜第４個別配光パターンＰＨ４の各々を形成する。 - 特許庁
  • To provide an inspection apparatus capable of imaging a pattern image by illumination light and easily eliminating a disturbance effect of light coming from outside an inspection range for an inspection including a pattern measurement of a product having a fine pattern.
    微細パターンを有する製品のパターン計測を含めた検査のために照明光によるパターン画像を撮像する方式の検査装置において、簡便に検査領域外からの光の外乱影響を除去する検査装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a resist pattern forming method appropriate for immersion exposure by eliminating a resist pattern fall and the deterioration of profile, resolution, focal depth and exposure tolerance in the case of pattern formation using the immersion exposure of a resist composition particularly with far-ultraviolet ray light as a light source.
    特に遠紫外線光を光源とした、レジスト組成物の液浸露光によるパターン形成において、レジストパターンの倒れ、プロフィル、解像力、焦点深度、露光余裕度の劣化が無く、液浸露光に好適なレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
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