「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 21 22 23 24 25 26 27 28 29 .... 141 142 次へ＞- To enable maskless exposure in an exposure pattern forming apparatus having a light source array and an exposure apparatus provided with the exposure pattern forming apparatus.
光源アレイを有する露光パターン形成装置及びその露光パターン形成装置を備えた露光装置において、マスクレス露光を可能とする。 - 特許庁 - A resist film is formed on the wafer, the exposure light is radiated on the resist film through the mask pattern, and a resist pattern is formed on the wafer.
ウェーハ上にレジスト膜を形成し、マスクパターンを介してレジスト膜に露光光を露光し現像し、ウェーハ上にレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a photomask having an island-shaped independent light-shielding pattern, in which deformation of the pattern due to electrostatic damage can be prevented.
島状に独立した遮光パターンを有するフォトマスクにおいて、静電破壊によるパターンの変形を防ぐことができるフォトマスクを提供する。 - 特許庁 - At the formation of this resin film layer 5, the flowing direction of the grain pattern is set to be same as that of the light and shade pattern of the base material 3.
この樹脂膜層５を形成する際、木目模様の流れ方向と、基材３の明暗模様の流れ方向とを同じにしておく。 - 特許庁 - The circuit conforming to the main pattern and the mark conforming to the sub-pattern are formed by the photo-etching using the second mask via a light shielding film layer 4.
遮光膜層４を介し第２のマスクによる写真蝕刻を通じ、主パターンに従う回路部と、副パターンに従うマークとが形成される。 - 特許庁 - To prevent generation of defects by easily sensing intensity decline of a light beam supplied from the light source at drawing a pattern on a substrate while modulating the light beam supplied from the light source with a spatial light modulator.
光源から供給された光ビームを空間的光変調器により変調して基板にパターンを描画する際に、光源から供給された光ビームの強度の低下を容易に検出して、不良の発生を防止する。 - 特許庁 - On the partition wall 13 of a reflector 12 partitioning the light emitting element 21 for the light guide plate and a pattern light emitting element group 11, an extension part 14 surrounding the periphery of the light emitting element 21 for the light guide plate is integrally molded in white with the reflector 12.
導光板用発光素子２１と図柄発光素子群１１とを隔てるリフレクタ１２の隔壁１３において、導光板用発光素子２１の周囲を囲む延設部１４がリフレクタ１２と白色一体成形されている。 - 特許庁 - A light source turning part 20 moves the light-emitting module 24 closer to a second focus of the substantial spheroid and allows light from the light-emitting module 24 to be directly incident on the projection lens 12 to form a high beam light distribution pattern.
光源回転部２０は、発光用モジュール２４を略回転楕円面の第２焦点近傍に移動させ、発光用モジュール２４からの光を投影レンズ１２に直接入射させ、ハイビーム用配光パターンを形成する。 - 特許庁 - Line widths of photoresist pattern are compared in a light shielding region and a light transmitting region by executing the photolithography process using a mask including the light shielding region and light transmitting region having a plurality of light transmitting patterns (S2, S5).
複数の光透過パターンを有する光遮断領域及び光透過領域を有するマスクを利用し、フォトリソグラフィ工程を実行して（Ｓ２、Ｓ５）、光遮断領域及び光透過領域でフォトレジストパターンの線幅を比較する。 - 特許庁 - To enhance utilization efficiency of light source light flux of a direct-projection lighting lamp tool for a vehicle using a light-emitting element as a light source, even in case a light-distribution pattern is formed at a top end part with horizontal and slanted cutoff lines.
発光素子を光源とする直射型の車両用照明灯具において、上端部に水平および斜めカットオフラインを有する配光パターンを形成するようにした場合にも光源光束の利用効率を高める。 - 特許庁 - The light source units 60 are provided in a lamp body 14 that is a light body through a support member 15, and light from the respective light source units 20, 40, 60 is superposed to form the low beam light distribution pattern in front of a vehicle.
これらの光源ユニット６０は、支持部材１５を介して灯体であるランプボティ１４に設けられており、各光源ユニット２０，４０，６０からの光が重ね合わせられて車両前方にロービーム配光パターンが形成される。 - 特許庁 - A reflected light from a pattern face 55 formed on an image carrier 1 illuminated with the light emitted from an illuminating light source 53 via a light compositing means 71 is guided to an image sensor 51 by folding the optical path with the light compositing means 71.
光合成手段７１を介して照明光源５３からの光に照明された像担持体１上に形成されたパターン面５５からの反射光を光合成手段７１により光路を折り曲げてイメージセンサ５１へと導く。 - 特許庁 - The purple light enters the light guide plate 23 on the side of the display surface 16 and becomes white light through the composition of the purple light and green light to illuminate and display a pattern of a white part of the guide display in white.
表示面16側の導光板23内に紫色の光が入射し、紫色の光と緑色の光との合成で白色の光となり、誘導表示の白色部分の図柄を白色の発光色で発光表示する。 - 特許庁 - Each light distribution pattern formed of each optical unit 4a to 4c is set up by changing materials of projection lenses 7a to 7c and their curvatures, and the low-beam light distribution pattern is formed by synthesizing the light distribution patterns.
各光学ユニット４ａ〜４ｃで形成される夫々の配光パターンは投影レンズ７ａ〜７ｃの材質及びその曲率を変えることで設定され、それら配光パターンの合成によってすれ違いビーム用配光パターンが形成される。 - 特許庁 - The exposure mask 1 having a light shielding layer 5 in which an aperture pattern 5a is formed has a filter layer 9 that transmits only light at a specified wavelength in a state of sealing the aperture pattern 5a formed in the light shielding layer 5.
開口パターン５ａが形成された遮光層５を有する露光マスク１において、遮光層５に形成された開口パターン５ａを塞ぐ状態で特定波長の光のみを透過するフィルタ層９を備えたことを特徴とする。 - 特許庁 - As the light 52 in a prescribed pattern is irradiated parallel to the object 48 of observation from each light transmitting part 32 via each microlens 34 in the endoscope 10, the light 52 is irradiated on the object 48 of observation in the prescribed pattern.
内視鏡１０では、各微小レンズ３４を介して各光透過部３２から観察対象４８へ所定のパターンの光５２が平行に照射されるため、光５２が所定のパターンで観察対象４８上に照射される。 - 特許庁 - When image formation is performed, a first light quantity correction signal and a second light quantity correction signal are generated by using the first reference pattern and the second reference pattern for every station to correct a driving signal in each light emitting part.
そして、画像形成が行われる際に、ステーション毎に、第１基準パターン及び第２基準パターンを用いて、第１光量補正信号及び第２光量補正信号を生成し、各発光部の駆動信号を補正する。 - 特許庁 - A plurality of convex light-condensing elements 44 is also two-dimensionally and evenly arranged on the front side of the transparent material 41, each line of the light-condensing elements 44 being given the same directivity as that of the image pattern, to form a light-condensing element pattern.
透明素材４１の表面には、複数の凸レンズ状の集光素４４を各集光素４４の並びに前記画像パターンと同じ方向性を持たせて２次元的に等配列して集光素パターンが形成される。 - 特許庁 - At the time, the light emitting modes of an external LED 6 and a keyboard 3 are controlled, based on LED light emitting pattern data and keyboard light emitting pattern data included in the music data and advertisement data, to present the music advertisement or commercial advertisement.
この際、楽曲データ、広告データに含まれるＬＥＤ発光パターンデータ及びキーボード発光パターンデータに基づいて、外部照明ＬＥＤ６、キーボード３の発光態様を制御し、音楽広告又は商業広告を演出する。 - 特許庁 - Therefore, since the vibrations of the plunger 14 do not influence via movable shades 10, 11 on a cut line CL of a light distribution pattern, especially on the light distribution pattern LP to make passing-by, the light distribution characteristics can be improved.
したがって、プランジャー１４が振動して可動シェード１０、１１を介して配光パターン、特にすれ違い用の配光パターンＬＰのカットラインＣＬに影響を与えるようなことがないので、配光性能を向上させることができる。 - 特許庁 - A probe head on the automatic jig side is provided with a light beam irradiating means to detect the position of an electric conduction pattern arranged at a known position with a light beam and the position of the light beam is obtained from the position of the electric conduction pattern and stored.
自動治具側のプローブヘッドに光ビーム照射手段を設け、光ビームによって既知の位置に配置した導電パターンの位置を検出し、この導電パターンの位置により、光ビームの位置を取得して記憶させる。 - 特許庁 - The phase of exposure light passing through the auxiliary pattern portion 104 may be an inverted phase to the phase of exposure light passing through the light transmitting portion 102 or the phase shift portion 103 close to the auxiliary pattern portion 104.
また、前記補助パターン部１０４を通過する露光光の位相は、前記補助パターン部１０４に直近の前記光透過部１０２または前記位相シフト部１０３を通過する露光光の位相に対して逆位相でよい。 - 特許庁 - The photomask 1 has a light blocking film pattern 12 formed on a light-transmissive substrate 11 and the ion residue density of sulfuric acid ions on the photomask surface on the side where the light blocking film pattern 12 is formed is ≤10 ng/cm^2.
透光性基板１１上に遮光性膜パターン１２が形成されたフォトマスク１であって、遮光性膜パターン１２が形成された側のフォトマスク表面における硫酸イオンのイオン残さ密度を１０ｎｇ／ｃｍ^２以下とする。 - 特許庁 - The light emitting device is characterized in that at least one or more light emitting elements are disposed on a substrate, a solder pattern is formed on the substrate at a periphery of the light emitting elements, and the cup member is soldered and fixed onto the solder pattern.
基板上に少なくとも１つ以上の発光素子が配置され、該発光素子の周囲の基板上に半田パターンが形成され、該半田パターン上にカップ部材が半田により固定されていることを特徴とする発光装置。 - 特許庁 - Then, a phosphor that is selected from the plurality of light sources 1 and 2 is allowed to emit light, and the light is applied to a target object 4 via the pattern board 3, thus projecting a different pattern to the target object 4.
そして、上記複数の光源１、２から選択された発光体を発光させ、上記パターン板３を介して対象物体４に光を照射することにより、該対象物体４に対して異なるパターンを投影する。 - 特許庁 - On the light path from a light source to an objective lens, there is arranged an optical element that converts a pattern expanding in the radial direction of reflected light of the main beam reflected from an optical recording medium, to a pattern expanding linearly in a prescribed direction.
光記録媒体から反射したメインビームの反射光の半径方向に拡がるパターンを所定の方向の直線上に拡がるパターンに変換する光学素子を光源から前記対物レンズに至る光路上に配置する。 - 特許庁 - The light-scattering reflective substrate 1 has a glass substrate 2 made of soda lime silicate, a light-scattering film 3 having a rugged pattern formed on the glass substrate 2, and a reflecting film 4 deposited along the rugged pattern of the light-scattering film 3.
光散乱反射基板１は、ソーダライムシリケート製のガラス基板２と、ガラス基板２上に形成された凹凸形状の光散乱膜３と、光散乱膜３の凹凸形状に沿って成膜された反射膜４とを備える。 - 特許庁 - The present invention relates to the positioning pattern which is provided on the top surface 2 and reverse surface 3 of the photomask substrate 1 and formed on the same normal of the photomask 1, the positioning pattern comprising a transmission pattern 4 formed on the reverse surface and a light shield pattern 5 formed on the top surface such that the transmission pattern 4 is larger in area than the light shield pattern 5.
本発明は、フォトマスク基板１のフォトマスク基板表面２とフォトマスク基板裏面３に設けられ、フォトマスク基板１の同一法線上に略形成される位置あわせパターンであって、裏面に形成される透過パターン４と、表面に形成される遮光パターン５とからなり、透過パターン４の面積が遮光パターン５の面積より大きいことを特徴とする。 - 特許庁 - Thereby, irrespective of irradiation distance, linear light of a certain pattern width can be irradiated.
これにより、照射距離に関係なく一定のパターン幅の線状光を照射することができる。 - 特許庁 - Preferably, the geometrical pattern-like light absorption layer 15 is formed by a dark color resin.
幾何学パターン状光吸収層１５は、暗色樹脂で形成されていることが好ましい。 - 特許庁 - Light is irradiated only to the resist pattern 30G for green color via a third mask 62.
第３のマスク６２を介して、緑色用のレジストパターン３０Ｇのみに光照射を行う。 - 特許庁 - ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To prevent the selection of an unsuitable light distribution pattern caused by the erroneous detection of a forward vehicle.
前走車の誤検出に起因して不適切な配光パターンが選択されることを防止する。 - 特許庁 - To simplify a device structure in a pattern drawing device equipped with a plurality of light irradiation sections.
複数の光照射部を備えるパターン描画装置において装置構造を簡素化する。 - 特許庁 - An L/S pattern by light of wavelength λ is created by a spatial optical modulator 11.
空間光変調素子１１により、波長λの光によるＬ／Ｓパターンが作成される。 - 特許庁 - A light pattern to extract three-dimensional coordinates is projected on the surface part of the object 250.
物体２５０の表面部分に、３次元座標を抽出するための光パターンを照射する。 - 特許庁 - The refractive index of the antireflection layer is smaller than the refractive index of the light-shielding film pattern.
反射防止層の屈折率が遮光膜パターンの屈折率よりも小さな屈折率であること。 - 特許庁 - To provide a vehicle headlight which has a clear cut-off line while a light distribution pattern suitable for a vehicle headlight is realized.
車両前照灯に適した配光パターンを実現しつつ明瞭なカットオフラインを得る。 - 特許庁 - To provide a group III nitride semiconductor light-emitting device capable of adjusting an aspect ratio of a far-field pattern.
ファーフィールドパターンのアスペクト比を調整可能なIII族窒化物半導体発光素子を提供する。 - 特許庁 - A letterpress plate for forming a light emitting pattern is attached to the circumference surface of the rotational plate cylinder 11.
回転式の版胴１１の周面に発光パターン形成用の凸版が装着されている。 - 特許庁 - To form a variable color distribution pattern including a gradation on a predetermined viewing plane by light emission.
所定の観察面にグラデーションを含む可変の色分布パターンを発光により形成する。 - 特許庁 - Then, a striation pattern is synthesized with image data with the light source to be processed as a center.
この処理対象光源を中心として、画像データに対して光条パターンを合成する。 - 特許庁 - Preferably, the pattern layer 4 also contains the ultraviolet absorber, the light stabilizer and the antioxidant.
更に絵柄層にも紫外線吸収剤、光安定剤及び酸化防止剤を含有させると良い。 - 特許庁 - When preparing a polarizing latent image, light irradiation for printing a pattern onto the film is performed.
偏光性潜像を作製するには、該フィルムに、パターンを焼き付けるための光照射を行なう。 - 特許庁 - METHOD FOR REDUCING RADIATION PATTERN VARIATION OF LONG- DISTANCE ELECTROMAGNETIC FIELD FOR FLIP CHIP LIGHT- EMITTING DIODE
フリップチップ発光ダイオードにおける遠距離電磁界の放射パターンの変化を低減する方法 - 特許庁 - To securely obtain light distribution pattern corresponding to the environment in front of a vehicle.
車両の前方の環境に対応した配光パターンが確実に得られることを目的とする。 - 特許庁 - To provide a pattern exposure device capable of being operated by an ultraviolet light having a wavelength of 300 nm or less.
波長３００ｎｍ以下の紫外光で動作できるパターン露光装置を提供する。 - 特許庁 - To improve the detection performance of a transmission light intensity pattern of a paper sheet-discriminating optical sensor device.
紙葉類鑑別用光学センサ装置の透過光量パターンの検出性能を改善する。 - 特許庁 - To prevent burn-in of light-emitting elements when displaying a color fixed pattern on a background image.
背景画像の上にカラーの固定パターンを表示する際に発光素子の焼き付けを防止する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor light-emitting element, the wiring pattern of which can be manufactured easily and which has high luminance.
配線パターンの製作が容易で、かつ高輝度の半導体発光素子を提供すること。 - 特許庁
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