「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 33 34 35 36 37 38 39 40 41 .... 141 142 次へ＞- As a result, this vehicular lighting fixture has a first lamp function capable of obtaining a low beam light distribution pattern LP having cutoff lines CL1, CL2, CL3, and a second lamp function capable of obtaining a daytime lamp light distribution pattern DP.
この結果、この発明は、カットオフラインＣＬ１、ＣＬ２、ＣＬ３を有するすれ違い用配光パターンＬＰが得られる第１ランプ機能と、デイタイムランプ用配光パターンＤＰが得られる第２ランプ機能とを有する。 - 特許庁 - Consequently, the additional light-distribution pattern SP is formed at the location organizing the hot zone HZ in the designated light-distribution pattern LP for passing each other on the additional reflection surface 18 arranged on the shade 5.
この結果、この発明は、シェード５に設けられている追加反射面１８により、すれ違い用所定の配光パターンＬＰ中のホットゾーンＨＺを構成する箇所に追加配光パターンＳＰが形成される。 - 特許庁 - The manufacturing method of the article having the anti-fogging effect in the shape of a pattern comprises pasting in the shape of a pattern a film having an anti-fogging effect on a surface of the transparent article through which the light passes or the reflexive article on which the light reflects.
光が透過する透視性物品或いは光が反射する反射性物品の表面に、防曇性を有するフィルムをパターン状に貼付するパターン状に防曇効果を有する物品の製造方法。 - 特許庁 - To provide a process for manufacturing an illuminative decorative sheet and illuminative decorative molded goods which allow the exact alignment of light shielding pattern parts and translucent pattern parts and have light shieldability and translucency which are sure even after premolding.
遮光パターン部と透光パターン部とが正確に位置合わせでき、予備成形後も確実な遮光性および透光性を有する照光性加飾シートと照光性加飾成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The outer equipped panel 14 is provided a translucent display pattern 33 which exposes display beams exited from light emitting means of the incoming call display part 17 for displaying an incoming call display in a predetermined light- emitting pattern.
外装パネル１４には、着信表示部１７の発光手段１８から出射された表示光を露光して着信の表示を所定の発光パターンにより表示する透光表示パターン３３が設けられてなる。 - 特許庁 - A substrate 110, a reflective layer 120 formed on the substrate 110, a light absorbing pattern 130 formed on the reflective layer 120, and a compensation part 140a formed around the light absorbing pattern 130 are provided.
基板１１０と、基板１１０上に形成された反射層１２０と、反射層１２０上に形成された吸光パターン１３０と、吸光パターン１３０周辺に形成された補償部１４０ａとを備える。 - 特許庁 - The light source slit 150 has a slit pattern 154 and is mounted on a surface of the photodetector 130 where the photodetector array 132 is formed so that the slit pattern 154 overhangs in an eaves shape over the light source 110.
光源スリット１５０はスリットパターン１５４を有し、スリットパターン１５４が光源１１０の上にひさし状に張り出すように、フォトディテクターアレイ１３２が形成された光検出器１３０の面に取り付けられている。 - 特許庁 - After removal of the first resist pattern, a first light transflective film 16 is formed throughout a surface of the substrate, and second patterning is performed by etching at least the first light transflective film with a second resist pattern formed on the film 16 as a mask.
第１レジストパターンを除去後、基板全面に第１半透光膜１６を形成し、その上に形成した第２レジストパターンをマスクとして少なくとも第１半透光膜をエッチングして第２のパターニングを行う。 - 特許庁 - The formation method includes: projecting a rectangular grid-like light-dark pattern 502 on a photosensitive layer 501; after that, displacing the light-dark pattern 502 in a direction of a side of the rectangle to project it on the photosensitive layer 501; and after that, developing the photosensitive layer 501.
方形格子状の明暗パターン５０２を感光層５０１に投影し、その後、明暗パターン５０２をその方形の辺方向にずらして感光層５０１に投影し、その後、感光層５０１を現像する。 - 特許庁 - To enhance central luminosity of a light distribution pattern for a high beam, without imparting the glare and without enhancing central luminosity of a light distribution pattern for a low beam more than necessary, in a projector type vehicular headlight.
プロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンの中心光度を必要以上に高めることなく、かつグレアを与えることなく、ハイビーム用配光パターンの中心光度を高くする。 - 特許庁 - According to the manufacturing process of a semiconductor integrated circuit device, a photomask provided with a light-shielding pattern made of metal or a photomask MR1 provided with a light-shielding pattern 7a made of resist film is used for exposure.
半導体集積回路装置の製造過程に応じて、メタルからなる遮光パターンを有するフォトマスクと、レジスト膜からなる遮光パターン７ａを有するフォトマスクＭＲ１とで使い分けて露光処理を行う。 - 特許庁 - A photomask formed with a light shielding film pattern is irradiated with laser, and the image of the light shielding film pattern is acquired by changing the relative position of a laser and the photomask while reciprocating an irradiation spot of the laser within a micro range.
遮光膜のパターンが形成されたフォトマスクにレーザーを照射し、そのレーザーの照射スポットを微小範囲で往復させながらレーザーとフォトマスクの相対位置を変化させて遮光膜のパターンの画像を取得する。 - 特許庁 - The pattern drawing device includes n light sources 41 and m (m=n-1) optical units 32 that deform pulse beams emitting from the light sources 41 into a prescribed pattern to irradiate the surface of a substrate W with the deformed beams.
パターン描画装置は、ｎ個の光源４１と、光源４１から入射されたパルス光を所定のパターン形状に変形して基板Ｗの表面に照射するｍ個（ｍ＝ｎ−１）の光学系ユニット３２とを備える。 - 特許庁 - Since the degree of freedom of a layout of the wiring pattern 35 is increased and the width of the wiring pattern 35 can be broadly secured, the emission of the light from the light-emitting element 32 can be restrained from being made uneven due to a voltage drop caused by wiring resistance.
配線パターン３５のレイアウトの自由度が増え、配線パターン３５の幅を広くとれるので、配線抵抗による電圧降下に起因する発光素子３２の発光ムラを抑制することができる。 - 特許庁 - To prevent a light distribution pattern from being shifted from a designated light distribution pattern by a deflection of a shade, in a structure in which a low beam and a high beam are switched by moving the shade.
シェードを移動させることによりロービームとハイビームとのビーム切換えを行うように構成された車両用前照灯において、シェードのブレにより配光パターンが所期の配光パターンからずれてしまうのを防止する。 - 特許庁 - The authenticity judgment medium 1 is produced by laminating on a substrate 2 an orientation film 3, a light selection reflecting pattern layer 4, a low stretchable pattern layer 5 and a light selection reflecting layer 6.
基材２上に配向膜３、光選択反射パターン層４および低配向性パターン層５、並びに光選択反射層６を積層して真偽判定用媒体１とすることにより課題を解決することができた。 - 特許庁 - The light-emitting module 21 includes a module substrate 22, a wiring pattern 25 for a cathode, a wiring pattern 26 for an anode, a plurality of semiconductor light-emitting elements 45, bonding wires 47 to 52, and translucent sealing resin 57.
発光モジュール２１は、モジュール基板２２、正極用の配線パターン２５、負極用の配線パターン２６、複数の半導体発光素子４５、ボンディングワイヤ４７〜５２、及び透光性の封止樹脂５７を具備する。 - 特許庁 - The authenticity discriminating medium 1 is constituted of an oriented film 3, a light reversing pattern layer 4 and a low orientation pattern layer 5 and a selective light reflecting layer 6 laminated on a base material 2.
基材２上に配向膜３、光反転パターン層４および低配向性パターン層５、並びに光選択反射層６を積層して真偽判定用媒体１とすることにより課題を解決することができた。 - 特許庁 - A pattern image P formed on a running body is imaged on a light incident face of the photodetector 100, and the pattern image P on the light incident face is moved in the x-axis direction in accordance with running of the running body.
走行体に形成されたパターンの像Ｐが光検出器１００の光入射面上に結像され、走行体の走行に応じて、光入射面上のパターン像Ｐはｘ軸方向に移動する。 - 特許庁 - Thus, even if a reflector 9 is miniaturized, both performance improvement of a first light distribution pattern for bending BP1 and performance improvement of light distribution pattern for traveling SHP and WHP can be made compatible.
これにより、リフレクタ９を小型化しても、第１ベンディング用配光パターンＢＰ１の配光性能の向上と走行用配光パターンＳＨＰおよびＷＨＰの配光性能の向上とを両立させることができる。 - 特許庁 - Angles of the respective parts of the fillet 40 are calculated, on the basis of the ratio of the intensity of reflected light at illumination of the fillet 40 by the first pattern and the intensity of reflected light at the time of illumination of the fillet 40 by the second pattern, by a computer 16.
コンピュータ１６により、第１のパターンで照明したときの反射光強度と第２のパターンで照明したときの反射光強度との比に基づいて、フィレット４０各部の角度を演算する。 - 特許庁 - The mask 8 is further provided with a light shielding part at a part where the overlap margin of the resist pattern 7 and a predetermined region of a substrate to be processed is decreased through shrinkage of the resist pattern 7 due to irradiation with VUV light 9.
また、マスク８には、ＶＵＶ光９の照射によるレジストパターン７のシュリンクによって、レジストパターン７と被加工基板の所定領域との重なりマージンが小さくなる部分に遮光部が設けられている。 - 特許庁 - As the light-blocking member on the rear face, a conductive pattern or a resist having light-blocking performance is used and the conductive pattern is formed integrally with one of the connection terminal portions 11, and the resist is formed at portions excluding the connection terminal portions.
背面側の遮光性部材としては、導電パターンや遮光性を有するレジストが用いられ、導電パターンは接続端子部１１の１つと一体に形成し、レジストは接続端子部を除く部位に形成する。 - 特許庁 - An auxiliary pattern 402 which diffracts exposure light and is not transferred by exposure is provided by the main pattern 401 on the transmissive substrate 400 across a light transmission part.
透過性基板４００上における主パターン４０１の側方には、露光光を回折させ且つ露光により転写されない補助パターン４０２が、主パターン４０１との間に透光部を挟むように設けられている。 - 特許庁 - After removal of the second resist pattern, a second light transflective film 17 is formed throughout the surface of the substrate, and third patterning is performed by etching at least the second light transflective film 17 with a third resist pattern formed on the film 17 as a mask.
第２レジストパターンを除去後、基板全面に第２半透光膜１７を形成し、その上に形成した第３レジストパターンをマスクとして少なくとも第２半透光膜をエッチングして第３のパターニングを行う。 - 特許庁 - A plurality of LEDs are arranged side by side, and light emission and light non-emission of each of the LEDs are individually controlled, whereby display by the pattern of the light emission and the light non-emission of the plurality of LEDs is visually confirmed through a light emitting window 102 from the subject side.
複数のＬＥＤを並べて、それらのＬＥＤ一つ一つの発光および非発光を個別に制御することにより、被写体側から複数のＬＥＤの発光および非発光のパターンによる表示を発光窓１０２を通して視認させる。 - 特許庁 - An optical system 1 is provided with a light source 2, a pattern formation means 3 arranged on an optical axis of the light source, for forming slit light by the light from the optical source, and a floodlighting lens 4 for condensing the slit light toward a measuring object.
光源２と、光源の光軸上に配置され、上記光源からの光によりスリット光を形成するためのパターン形成手段３と、スリット光を測定対象物に対して集光するための投光レンズ４とを備える光学系１を設ける。 - 特許庁 - An inspection tool in an embodiment includes a light irradiation source generating scattered light including scattered light from the defects of a workpiece, which caused by guiding a light beam on the workpiece, scattered light according to a normal scattering pattern of the workpiece.
検査ツールの実施形態は、光ビームをワークピース上に導くことによって、前記ワークピースの欠陥から散乱された光、および前記ワークピースの通常の散乱パターンにしたがって散乱された光を含む、散乱された光を発生する照射源を含む。 - 特許庁 - To provide an imaging apparatus that has a light emission section for increasing visibility at a subject person side and enabling expression rich in design and a plurality of light emission patterns and can select a different light emission pattern according to purposes, and to provide a light emitting method and a light emission program.
被写体人物側での視認性を高めると共に意匠性に富んだ表現を可能とする発光部と複数の発光パターンを備え、目的により異なる発光パターンを選択可能な撮像装置、発光方法、及び発光プログラムの提供。 - 特許庁 - To provide a paper sheet identification device, for using a light emitting element and a light receiving element installed on each one position to determine the authenticity of a paper sheet having ink changed in hue or pattern depending on the light receiving angle of the light receiving element or the emitting angle of the light emitting element.
それぞれ１箇所に備え付けた発光素子、受光素子にて、受光する角度、或いは照射する発光素子の角度によって色相、模様が変化するインクを有する紙葉類の真偽を判別する紙葉類識別装置を提供することにある。 - 特許庁 - A slit-shaped resist pattern group is formed by arranging a light source of linear scattered light, directly above the center of a conductor plate surface, in parallel with the direction of slits, and adjusting the distance between the light source of linear scattered light and the conductive plate surface, and exposing the scattered light on a resist layer.
導体基板表面の中央直上にスリット方向と平行に線状散乱光源を設置し、線状散乱光源と導体基板表面との距離を調整し、レジスト層に散乱光を露光してスリット状レジストパターン群を形成する。 - 特許庁 - When performing toner density detecting processing, a printer controller designates to make length Lp of a rectangular pattern in the Y-axis direction attain Lp<2L by using an interval L between a light spot by detecting light and a light spot by flare light nearest to the light spot.
プリンタ制御装置は、トナー濃度検出処理を行う際に、矩形パターンのＹ軸方向に関する長さＬｐを、検出用光による光スポットと該光スポットに最も近いフレア光による光スポットとの間隔Ｌを用いて、Ｌｐ＜２Ｌとなるように指示する。 - 特許庁 - To form a light-distribution pattern for a low-beam having horizontal and slanted cutoff lines at a top end section while enhancing utilization efficiency of its light source light flux in a direct-projection type lighting lamp tool for a vehicle using an approximately rectangular light-emitting surface as a light source.
略矩形状の発光面を光源とする直射型の車両用照明灯具において、その光源光束の利用効率を高めるようにした上で、上端部に水平および斜めカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁 - To provide a technique capable of using a material having proper light-emitting characteristics as the material of a light-emitting layer and enabling micronization of the light-emitting layer and enlargement of a substrate, in a method for pattern-forming the light-emitting layer made of a plurality of light-emitting materials on a device substrate.
複数の発光材料からなる発光層を、装置基板上にパターン形成する方法において、発光層の材料として発光特性の良い材料を用いることができ、発光素子の微細化および基板の大型化が可能な手法を提供する。 - 特許庁 - A vehicle headlamp apparatus includes a lamp unit operable to form an additional light distribution pattern including a region above a cutoff line of a low beam light distribution pattern, and a controller which controls a light irradiation of the lamp unit in accordance with the vehicle ahead.
車両用前照灯装置は、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方の領域を含む付加配光パターンを形成可能な灯具ユニットと、前方車両の存在に応じて灯具ユニットによる光の照射を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁 - Thereby, generation of missing portion of light between the low beam light distribution pattern P and the sub-light distribution pattern LP, RP can be prevented, and visibility of the side direction of the vehicle can be certainly improved, thereby it can contribute to traffic safety.
この結果、すれ違い用の配光パターンＰとサブ配光パターンＬＰ、ＲＰとの間に光の抜け部分が発生するのを防止することができ、車両の側方の視認性を確実に向上させることができ、交通安全に貢献することができる。 - 特許庁 - To provide a projector type headlamp for a vehicle capable of performing light condensing or diffusion not causing unevenness to a light distribution pattern, making a space in front of the vehicle brighter, forming the light distribution pattern having a desired illuminance distribution, and improving visibility in front of the vehicle.
配光パターンにムラのない集光や拡散ができ、車両前方をより明るくでき、所望の照度分布をもった配光パターンを形成でき、車両前方の視認性向上を図ることができるプロジェクタ型の車両用前照灯を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a double-sided photomask, wherein there is not risk that a light shielding pattern on a front surface is damaged by abnormal discharge when a light shielding film is formed on a rear surface after formation of the light shielding pattern on the front surface.
両面フォトマスクの作製方法において、表面に遮光パターンを形成した後、裏面に遮光膜を成膜するときに、異常放電による表面側の遮光パターンへのダメージ発生の恐れがない両面フォトマスクの作製方法を提供する。 - 特許庁 - In the hologram pattern 40 formed in the hologram optical element, the diffracted beam is twisted by a pattern 1a in the clockwise direction to form a semicircular spot Sa of the converging light on the light detecting parts A, B, crossing the division line LX of a quadripartite light detecting part 60.
ホログラム光学素子に設けられるホログラムパターン４０において、パターン１ａは回折光束を時計回りにねじり、４分割光検出部６０の分割線ＬＸを跨ぐように光検出部Ａ，Ｂ上に半円形状の集光スポットＳａを形成する。 - 特許庁 - To provide a vehicular lighting fixture capable of selectively forming a light distribution pattern for a high beam and a light distribution patter for driving in rainy weather and capable of forming in a low-cost structure a light distribution pattern for driving in rainy weather, excellent in visibility for a distant road shoulder part.
雨天走行時用配光パターンとハイビーム用配光パターンとを選択的に形成し得る構成の車両用照明灯具において、安価な構成で、遠方路肩部分の視認性に優れた雨天走行時用配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁 - Positions of the shade 6 and light shielding member 7 of the integrated structure are switched to first and second positions by the switching device 8 and a light distribution pattern LP for low beam and a light distribution pattern HP for high beam are switched to irradiate a front of a vehicle.
切替装置８により、一体構造のシェード６および遮光部材７を第１位置と第２位置とに切替位置させることにより、ロービーム用配光パターンＬＰとハイビーム用配光パターンＨＰとを切り替えて車両の前方に照射することができる。 - 特許庁 - To sufficiently ensure brightness of a diffusion region of a light distribution pattern after reducing the longitudinal length of a lamp unit, in a vehicular headlamp which is structured to form a predetermined light distribution pattern by light irradiation from a projector type lamp unit.
プロジェクタ型の灯具ユニットからの光照射により所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、灯具ユニットの前後長を短くした上で、配光パターンの拡散領域の明るさを十分に確保可能とする。 - 特許庁 - A control circuit 40 detects opening of the case 11 based on comparison between a signal pattern P of a received optical signal output from the light-receiving sensor 28, in response to the radiation light Ld for detection from the light source 22 for detecting opening and a pattern Pd for detecting opening.
そして、制御回路４０は、開封検知用光源２２からの検知用照射光Ｌｄに応じて受光センサ２８から出力される受光信号の信号パターンＰと開封検知用パターンＰｄとの比較に基づいて筐体１１の開封を検知する。 - 特許庁 - In the face of the shade subjected to the non-transmissive treatment, a plurality of fine holes 20 are formed to produce the amount of transmissive light required to form the overhead light distribution pattern in an area A required to form the overhead light distribution pattern.
そして、シェードは、その不透過処理が施された面上において、オーバーヘッド用配光パターンを形成するために必要な部分Ａに、オーバーヘッド用配光パターンを形成するために必要な透過光量を得るための複数の微細な穴２０、２０…を形成している。 - 特許庁 - Thereby, brightness of a hot zone of a light distribution pattern for a low beam is remarkably increased as compared with the case where the light distribution pattern for a low beam is formed only by light reflected from a reflector 16, and the highest luminance position thereof is positioned and set in the vicinity of a cutoff line.
これにより、ロービーム用配光パターンのホットゾーンの明るさを、リフレクタ１６からの反射光のみによりロービーム用配光パターンを形成するようにした場合に比して大幅に増大させ、その最高光度位置をカットオフライン近傍に位置設定する。 - 特許庁 - A signal light pattern and a reference light pattern are simultaneously displayed at the center of the space optical modulator and its surroundings respectively to apply a laser beam, and a direct light and a diffracted from the space optimal modulator are stacked by the converging lens to be recorded in the recording medium.
空間光変調器の中央に信号光用パターンを、その周囲に参照光用パターンを同時に表示させてレーザ光を照射し、空間光変調器からの直接光と回折光を集光レンズで重ね合わせて記録媒体に記録する。 - 特許庁 - In the reticle 1 provided with plural patterns in which a light shielding area and a light transmissive area are alternately formed at a prescribed pitch so that the pitch between the light shielding area and the light transmissive area of each pattern is different from each other, the pattern having a fine pitch in the plural patterns is placed on the central side in an exposure area L of the reticle 1 than the pattern having a coarse pitch.
光遮断領域と光透過領域とが所望のピッチで交互に形成されているパターンを複数個備え、かつ前記複数のパターンに形成された光遮断領域と光透過領域とのピッチが互いに異なるレチクルにおいて、前記複数のパターンのうちピッチの細かいパターンを、ピッチの粗いパターンよりも、レチクル照明領域の中央部側に配置する。 - 特許庁 - To provide a pattern inspection device capable of inspecting a pattern with high resolution even when the dimension of an inspection object is the wavelength of inspection light or smaller, and to provide a pattern inspection method and a method for manufacturing semiconductor device.
本発明は、検査対象の寸法が検査光の波長以下となっても、高解像度の検査をすることができるパターンの検査装置、パターンの検査方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - In the screen processing unit 26 of an image processor, a dither pattern storage unit 33 stores a dark color dither pattern and a light color dither pattern where the number of lines and angles are identical but the positions of halftone dots to be formed are different.
画像処理装置のスクリーン処理部２６において、ディザパターン記憶部３３は、線数及び角度が同一で、形成される網点の位置が異なるような濃色ディザパターン及び淡色ディザパターンを記憶する。 - 特許庁 - The CPU 2 also reads out the lighting control pattern corresponding to the read automatic accompaniment pattern from the memory 6, and controls a projector 22, a smoke generation device 24 and light 26 based on the lighting control pattern.
ＣＰＵ２は、読み出された前記自動伴奏パターンに対応する照明制御パターンもメモリ６から読み出し、この照明制御パターンに基づいて、プロジェクタ２２、スモーク発生装置２４、ライト２６を制御する。 - 特許庁
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