「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 35 36 37 38 39 40 41 42 43 .... 141 142 次へ＞- This exposure apparatus 100 for exposing a plate 600 to light by a set exposure pattern includes: a plurality of semiconductor light sources 201 arranged two-dimensionally; and a light source control part 700 which controls turning-on/off of each of the plurality of light sources 201 by referring to illumination mode table data 703 according to the exposure pattern.
設定された露光パターンでプレート６００を露光するための露光装置１００は、二次元に配置された複数の半導体光源２０１と、複数の半導体光源２０１の各々の点消灯を露光パターンに応じた照明モードテーブルデータ７０３を参照して制御する光源コントロール部７００と、を備える。 - 特許庁 - To secure a sufficient amount of light for a part close to a cutoff line in a low-beam light distribution pattern and enhance a faraway visibility even if a reflector is small across its width, in a head light for a car configured to effect a low-beam irradiation in a light distribution pattern having a horizontal cutoff line and an oblique cutoff line.
水平カットオフラインおよび斜めカットオフラインを有する配光パターンでロービーム照射を行うように構成された車両用前照灯において、たとえそのリフレクタの左右幅が小さい場合であってもロービーム配光パターンにおけるカットオフライン近傍部分の光量を十分に確保して遠方視認性を高める。 - 特許庁 - The side of the silicon wafer 1 formed with a circuit pattern 2 is irradiated with white light or visible light of a wavelength of ≤800 nm, the visible light transmitted through the silicon wafer 1 is received by a visible light camera 3 from the back side of the silicon wafer 1, and the image of the recognition mark formed on the circuit pattern formation side of the silicon wafer 1 is recognized.
白色光又は波長８００ｎｍ以下の可視光をシリコン基板１の回路パターン２の形成面に照射し、シリコン基板１を透過した可視光をシリコン基板１の背面側から可視光カメラ３により受光し、シリコン基板１の回路パターン形成面上に形成された認識マークを画像認識する。 - 特許庁 - The measuring projection light pattern PLa of the headlight 1 provided at the left side of an automobile is distributed rightward and obliquely upward from the parking light lens 7 and the measuring projection light pattern PLb of the headlight 1 which is provided at the right side is distributed leftward and obliquely upward from the parking light lens 7.
自動車の左側に設けられたヘッドライト１の測定用投光パターンＰＬａは、駐車光用レンズ７から右方向の斜め上に配光され、右側に設けられたヘッドライト１の測定用投光パターンＰＬｂでは、駐車光用レンズ７から左方向の斜め上に配光される。 - 特許庁 - While keeping the peak position of alignment sensitivity as an entire second lens array 21e, a light-shielding pattern having, such alignment sensitivity such that a light reduction rate to the peak position becomes large is specified by simulation, and a predetermined cell lens which is shielded from light by a mask 15 is selected, in accordance with the specified light shielding pattern.
第２レンズアレイ２１ｅ全体としてのアライメント敏感度のピーク位置を保ったまま、そのピーク位置に対する減光率が大きくなるようなアライメント敏感度を持つ遮光パターンをシミュレーションにより特定し、特定した遮光パターンに従ってマスク１５により遮光する所定のセルレンズを選択する。 - 特許庁 - The reflectors 14a, 14b are irradiated with laser light from a laser light outputting device 11 through a light transmission/reception device 12, and a signal processing device 16 determines the torque at each rotation angle of the rotator 13 based on the reflection pattern of reflected light relative to each digit pattern from the reflectors 14a, 14b.
そして、レーザ光出力装置１１からのレーザ光を光送受信装置１２を介して反射体１４ａ、１４ｂに照射し、反射体１４ａ、１４ｂからのディジットパターンごとの反射光の反射パターンに基づいて、信号処理装置１６は回転体１３の回転角ごとのトルクを求める。 - 特許庁 - About in the vehicle, a pattern photoed with the camera 12 from which cut-off filter 13 is removed by irradiating a visible light with an indoor visible light optical source 15, and a pattern photoed with the camera 12 equipped with the cut-off filter 13, are used together by irradiating a near-infrared light with indoor near-infrared light optical source 16.
車内については室内可視光光源１５にて可視光を照射し、カットフィルタ１３を除去したカメラ１２によって撮影するパターンと、室内近赤外光光源１６によって近赤外光を照射し、カットフィルタ１３を装着したカメラ１２によって撮影するパターンとを併用する。 - 特許庁 - A pattern, having an elevation angle and showing a trapezoid form on the cross sectional surface thereof, is formed so that the availability of light is enhanced, and both of the bottom portion and the sidewall of the trapezoid form of the pattern is a mirror so that the light is reflected totally and applied to the light guiding plate for both of the front light source and backlight source.
仰角を有し、断面が台形を呈するパターンを成形し、これにより光利用効率を高め、また、該パターンの台形の底部及び側壁は鏡面であるため、光を全反射させることができ、フロントライト光源、バックライト光源の導光板どちらにもて適用することができる。 - 特許庁 - To provide a method for monitoring the state of a pattern drawing apparatus, precisely discriminating a pattern change production place from the contrast caused by the difference in the quantity of diffracted light in a pattern having periodicity, and also monitoring the state of the pattern drawing apparatus by simply leading out the change production period of the pattern change production place.
周期性のあるパターンにおいて、回折光量差によるコントラストからパターン変動発生箇所を精度良く識別し、かつ、その変動発生周期を簡便に導出することによってパターン描画装置の状態監視を実施できるパターン描画装置の状態監視方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern-forming method with which a defect-free permanent pattern, such as a wiring pattern can be efficiently formed with high definition by suppressing distortion of an image provided on a pattern forming material and setting the total light transmittance and the haze value of a support in the pattern forming material within a prescribed range.
パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制し、かつ、該パターン形成材料における支持体の全光線透過率及びヘイズ値を所定の範囲とすることにより、欠陥のない配線パターン等の永久パターンを高精細に、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - In a case of a low beam distribution pattern LP, an overhead sign board can be irradiated by using the reflected light C which is not used originally and a usual light volume of the low beam distribution pattern LP is not reduced and an optical designing of the low beam distribution pattern LP can be made easy.
そのため、ロービーム配光パターンＬＰの際も、本来使用しない反射光Ｃを利用してオーバーヘッドサインを照射することができるため、ロービーム配光パターンＬＰの本来の光量が低下せず、ロービーム配光パターンＬＰの光学的設計が容易になる。 - 特許庁 - The second transmitting pattern includes a phase shifter portion as recesses formed in the mask substrate, the recesses alternately laid as periodically repeated with the first transmitting pattern, and transmits the exposure light while imparting a phase difference to the exposure light transmitting the first transmitting pattern.
また、第２の透過パターンは、第１の透過パターンと交互に、周期的に繰り返して配置され、マスク基板に形成された凹部である位相シフタ部を含み、かつ、位相シフタ部により、第１の透過パターンを透過する露光光に対して位相差を導入して露光光を透過する。 - 特許庁 - In an optical information recording medium equipped with an information recording layer in which information is recorded by using holography, a known pattern is recorded as a recording pattern of a specific page or block for a first reference light, and a data pattern is recorded for a second reference light.
ホログラフィを利用して情報を記録した情報記録層を備えた光情報記録媒体において、情報記録層には、特定のページ又はブロックの記録パターンとして、第１の参照光に対しては既知パターンが記録され、第２の参照光に対してはデータパターンが記録されている。 - 特許庁 - The device is simply constituted by using a flash as a light source, and narrows a blurring width in a direction perpendicular to a projected image pattern by disposing wide and narrow slit-like diaphragms in a direction parallel with and a direction perpendicular to a linear pattern to be projected, respectively, thereby obtaining the high-definition pattern light.
フラッシュを光源とする事で簡易な構造とし、投影する直線状のパターンと平行な方向には広く、垂直な方向には狭いスリット状の絞りを設ける事により、投影された像のパターンと垂直な方向のぼけ幅を小さくし、高精細なパターン光を得る。 - 特許庁 - A cutoff line changing part 50 controls the widths of the light shielding regions of the shades so that a whole luminous intensity distribution pattern overlapped with the right side luminous intensity distribution pattern and the left side luminous intensity distribution pattern may constitute a light shielding region conformed to the vehicle position detected by the vehicle position detecting part 52.
カットオフライン変更部５０は、左側配光パターンと右側配光パターンとを重ね合わせた全体配光パターンが、車両位置検出部５２により検出される車両位置に合わせた遮光領域を構成するように、ハイビーム形成用シェードの遮光領域の幅を制御する。 - 特許庁 - This biological authentication device 102 can acquire a figure showing the vein pattern obtained by composing a half of a figure showing the vein pattern acquired by lighting only one light source 170A and a half of a figure showing the vein pattern acquired by lighting only the other light source 170B.
一方の光源１７０Ａのみを点灯させて取得した静脈パターンを示す図の半分と、他方の光源１７０Ｂのみを点灯させて取得した静脈パターンを示す図の半分とを合成した静脈パターンを示す図を取得することができる生体認証装置１０２である。 - 特許庁 - An irradiation position on a substrate 9 is moved to scan with a light beam from a light beam exiting unit 411 by a stage moving mechanism 31 and a head unit moving mechanism 32 so as to draw the expanded drawing pattern including the information pattern on a resist for forming a wiring pattern on the substrate 9.
そして、ステージ移動機構３１およびヘッドユニット移動機構３２により光ビーム出射部４１１からの光ビームの基板９上における照射位置が走査され、情報パターンを含む拡張描画パターンが基板９上の配線パターン形成用のレジストに描画される。 - 特許庁 - By the configuration, since the absorption part pattern has the forward tapered shape, the interruption of the exposure light by the absorption part pattern at the edge part of the absorption part pattern is suppressed, and the influence of the projection effect by the incident angle of the exposure light is suppressed.
本発明の構成によれば、吸収部パターンが順テーパ形状を備えるため、吸収部パターンのエッジ部において露光光が吸収部パターンに遮られることを抑制することが出来、露光光の入射角度による射影効果の影響を抑制することができる。 - 特許庁 - To provide a resist pattern having a structure capable of alleviating a standing wave effect generated by interference of an incident light with a reflected light in a photolithographic process of a lifting off method suitable for forming a fine wiring pattern, and to provide a method for forming wiring by using the resist pattern.
微細配線パターンの形成に適したリフトオフ法のフォトリソプロセスにおいて、入射光と反射光との干渉から生じる定在波効果を緩和しうる構造を有するレジストパターンを提供すること、および該レジストパターンを用いた配線形成方法を提供する。 - 特許庁 - In an optical information recording medium equipped with an information recording layer in which information is recorded by using holography, a known pattern is recorded as a recording pattern of a specific page or block with respect to a certain reference light, and a data pattern is recorded with respect to another reference light.
ホログラフィを利用して情報を記録した情報記録層を備えた光情報記録媒体において、情報記録層には、特定のページ又はブロックの記録パターンとして、ある参照光に対しては既知パターンが記録され、別の参照光に対してはデータパターンが記録されている。 - 特許庁 - In the optical information recording medium provided with the information recording layer in which information is recorded by using holography, in the information recording layer, as a recording pattern of a specific page or a block, a known pattern is recorded for first reference light, a data pattern is recorded for second reference light.
ホログラフィを利用して情報を記録した情報記録層を備えた光情報記録媒体において、情報記録層には、特定のページ又はブロックの記録パターンとして、第１の参照光に対しては既知パターンが記録され、第２の参照光に対してはデータパターンが記録されている。 - 特許庁 - In one embodiment, a device for custom-polarized photolithography illumination includes an illuminator 20 operable to generate an illumination pattern of light, a polarizer unit 27 operable to variably polarize said light, and a mask pattern 32 defining a two-dimensional photolithographic pattern.
１つの実施例においては、注文偏光フォトリソグラフィ照明装置は、光の照明パターンを発生する動作が可能な照明器２０と、前記光を可変的に偏光させる動作が可能な偏光子ユニット２７と、２次元のフォトリソグラフ・パターンを定めるマスク・パターン３２とを含む。 - 特許庁 - A light shielding pattern 6 is formed in a region, which is on the semiconductor IC chip mounting face 1a and on which the semiconductor IC chip 2 is mounted, in such a way that the light shielding pattern is matched with the shape of a gap part 8, in which the wiring pattern 3b for the rear-side signal is not arranged.
上記半導体ＩＣチップ実装面１ａ上であって、かつ上記半導体ＩＣチップ２が実装される領域には、上記裏側信号用配線パターン３ｂが配置されていない隙間部８の形状に合わせて、遮光パターン６が設けられている。 - 特許庁 - In this illumination apparatus, a reading part 1a1 of a light emitting control part 1a is constituted to read light emitting pattern data of respective LEDs 13 from a corresponding table of a display pattern table 1c by referring to a table number and reading position stored in a pseudo random pattern table 1b, and to transfer the data to a buffer 1a2.
発光制御部１ａの読出し部１ａ１は、擬似ランダムパターンテーブル１ｂに格納されたテーブル番号と読み出し位置を参照して、表示パターンテーブル１ｃの対応するテーブルから各ＬＥＤ１３の発光パターンデータを読出し、バッファ１ａ２に転送する。 - 特許庁 - To provide a mask pattern correction method in which a difference between patterns is reduced in the amount of dimensional change due to light exposure differing depending on each pattern shape, dimensional change depending on the pattern shape is suppressed even with varied light exposure, and transfer accuracy is improved, and to provide a photomask.
パターンの形状ごとに異なっていた露光量に対する寸法変化量のパターン間差を小さくし、露光量を変動させても、パターン形状に依存した寸法変化が抑制され、転写精度を向上させるマスクパターンの補正方法およびフォトマスクを提供する。 - 特許庁 - A conductive film is formed on the whole surface of the transparent substrate, on which the mask pattern is formed and the light-shielding part or the light-semitransmitting part of each mask pattern in a region where at least the mask pattern is formed within the substrate plane is electrically equipotential through the conductive film.
透明基板上の全面に導電膜が形成され、その上にマスクパターンが形成されており、基板面内の少なくともマスクパターンが形成された領域内における各マスクパターンの前記遮光部又は半透光部が、導電膜を介して電気的に等電位となっている。 - 特許庁 - In an ashing gas atmosphere for removing resin adhering to an original pattern used for imprint, the original pattern is irradiated with ultraviolet light and near-field light is generated in the local region of protrusions and recesses on the original pattern.
実施形態の樹脂除去方法では、インプリントに用いられるパターン原版に付着した樹脂を除去するアッシングガス雰囲気中で、前記パターン原版に紫外線を照射することにより、前記パターン原版上のパターン凹凸部の局所領域に近接場光を発生させる。 - 特許庁 - The double sided light emitting unit 1 further includes a wiring pattern 22 disposed between both the heat transmission plates 21 and 24 and electrically connecting with the respective solid state light emitting elements 3 and 3; and a pair of insulation layers 23 and 25 respectively disposed between the heat transmission plate 21 and the wiring pattern 22 and between the heat transmission plate 24 and the wiring pattern 22.
また、両面発光ユニット１は、両伝熱板２１，２４の間に配置され各固体発光素子３，３が電気的に接続される配線パターン２２と、各伝熱板２１，２４と配線パターン２２との各々の間に介在する一対の絶縁層２３，２５とを備えている。 - 特許庁 - To provide a material for forming a pattern achieving high light shielding property and high resolution in a simplified process, and to provide a film element and a pattern forming method using the material.
工程を簡略化し、高遮光性かつ高解像度であるパターン形成用材料、並びにそれを用いたフィルム状エレメント及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Further, the foamed sheet has the light diffusing part with a prescribed distribution pattern composed of bubble density, and also, the ink is printed on the prescribed distribution pattern.
さらに、発泡シートが、気泡密度からなる所定の分布パターンを有する光拡散部を有し、かつインキが、所定の分布パターン上に印刷されている光拡散体である。 - 特許庁 - Thereby, making the prism sheet 13 stationary allows the light to concentrate to clearly display a pattern and making the same move allows the pattern to be vaguely displayed.
したがって、プリズムシート１３を静止させた場合に光を集光して図柄をくっきりと表示し、揺動させた場合には図柄をおぼろげに表示することができる。 - 特許庁 - Then, an amount of pattern correction to the mask patterns according to information with regard to the size of the mask patterns and the average light intensity is calculated for every mask pattern.
そして、前記マスクパターンの寸法に関する情報および前記平均光強度に応じた前記マスクパターンへのパターン補正量を、前記マスクパターン毎に算出する。 - 特許庁 - To provide a pilot valve with a pattern switching valve improving operability with light operating force in operation pattern switching and capable of making outer shape compact and surely fixing a switching position.
操作パターン切換えの操作力が軽くて作業性を向上し、かつ外形をコンパクトにでき、切換え位置を確実に固定できるパターン切換弁付パイロットバルブを提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor laser element having high yield, while enlarging the horizontal spread angle of a far-field pattern of exiting light and decreasing the aspect ratio in the far-field pattern.
出射光の遠視野像の水平広がり角を広げ、遠視野像におけるアスペクト比を小さくし、且つ歩留まりの高い半導体レーザ素子を提供することである。 - 特許庁 - Pattern pairs to which metamerism is performed under the observation light source are stored in an image data storage unit 101 and the pattern pairs are recorded on recoding paper by an image recording unit 102.
画像データ記憶ユニット１０１には、観察光源下で条件等色するパターン対が記憶され、パターン対が画像記録ユニット１０２によって記録用紙に記録される。 - 特許庁 - To provide a method for drawing a pattern and a pattern drawing apparatus by which middle-level light quantity can be used without using the middle voltage to be applied on each micromirror for control.
各マイクロミラーに印加する電圧の中間値を用いて制御せずに、中間光量を利用できるパターン描画方法、及びパターン描画装置を提供する。 - 特許庁 - The amount of light transmittance can be controlled by the electric control, the change of color pattern or the like and simultaneously high decorative effect can be obtained by the color pattern.
この電気的調節や、発色パターンの変化等によって光の透過量を調節するとともに発色パターンによる高い装飾性を得ることができる。 - 特許庁 - Moreover, since the surface cloth 2 is light shielding cloth, the pattern is not seen through to the opposite side, and its viewer is allowed to clearly recognize the pattern of the surface cloth 2 and the lining cloth 3.
しかも、表地２は遮光生地であるため、柄が反対側に透けることがなく、表地２及び裏地３の柄を、それを見る者にはっきり認識させることができる。 - 特許庁 - To allow only a specific (a part of) reel to emit light without turning off a lamp illuminating a pattern (without interrupting visibility of the pattern) and even while the reel is rotating.
図柄を照光するランプを消灯させることなく（図柄の視認性を妨げることなく）、かつ、リールの回転中であっても、特定の（一部の）リールのみを発光可能にする。 - 特許庁 - Similarly, a formation position of a sub-pattern SP(LC) for a light cyan ink (LC) is present at the center side more than a formation position of a sub-pattern SP(C) for a cyan ink (C).
同様に、ライトシアンインク（ＬＣ）についてのサブパターンＳＰ（ＬＣ）の形成位置は、シアンインク（Ｃ）についてのサブパターンＳＰ（Ｃ）の形成位置よりも中央側にある。 - 特許庁 - The card processor is provided with a pattern reading part that reads the pattern of the fluorescent substance coating part 4 visualized by casting the light of the specific wavelength on the card 1.
カード処理装置は、カード１に特定の波長光を照射することにより可視化された蛍光体塗布部４のパターンを読取るパターン読取部を設ける。 - 特許庁 - A gradation blast pattern 100 having each area differed in different surface roughness is formed on a light guide plate 10, and a pattern 110 is formed on a display plate 20.
導光板１０上に各領域で表面粗さが互いに異なるグラデーションブラストパターン１００を形成し、表示板２０上に図柄１１０を形成する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a pattern, with which detection and inspection of a pattern can be precisely performed by using light or an electron beam.
光または電子ビームを用いてパターンの位置検出および位置検査を高精度に行うことを可能とするパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A surface pattern is formed on the basis of the light detection data acquired at every illumination condition to be compared with a preliminarily recorded flaw pattern.
各照明条件毎に取得した受光情報に基づいて表面パターンを作成し、この表面パターンと予め記録されている欠陥パターンとを比較する。 - 特許庁 - The other optical path is not provided with the pattern generation element, and light passing through the other optical path is projected from the projection lens 56 as the uniform optical pattern of illumination distribution.
他方の光路にはパターン生成素子は設けられておらず、当該光路を通過した光は照度分布の均一な光パターンとして投影レンズ５６から投影される。 - 特許庁 - To provide a black curable composition for wafer level lens capable of forming a cured film having excellent light shieldability and excellent in co-formability of both a large pattern and a fine pattern.
遮光性に優れた硬化膜を形成でき、大パターン及び微細パターンの両者の同時形成に優れたウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁 - A photomask includes an auxiliary pattern at a corner portion of a light-blocking portion, and (k+1) sides (k is a natural number of 3 or more) form k obtuse angles in the auxiliary pattern.
遮光部の角部に補助パターンを有し、当該補助パターンは、（ｋ＋１）本の辺（ｋは３以上の自然数）でｋ個の鈍角を構成するフォトマスクである。 - 特許庁 - To provide a natural material pattern transferred resin panel which reproduces the natural material pattern beautifully, excels in light weight miniaturization, designability and appearance, and is high in added value and commodity value.
小型軽量化および意匠性、見栄えに優れ、天然素材模様を美しく再現した、付加価値と商品価値の高い天然素材模様転写樹脂パネルを提供する。 - 特許庁 - An image sensor 31 acquires two kinds of biological information, that is, the fingerprint pattern and the blood vessel pattern of the fingers which is obtained by emitting and transmitting infrared light 33 to the fingers.
イメージセンサ３１で、指紋パターン、および、赤外光源３３を指に照射し、透過させて得られる指の血管パターンの２種類の生体情報を得られる構成とした。 - 特許庁 - When a finger of an operator approaches the detecting electrode 2, the backlight 6 is first switched on at a first pattern and the light transmission pattern 3a looms up on a surface 1a of a design plate 1.
検知電極２に操作者の指が近づくと、まずバックライト６が第１のパターンで点灯され、意匠板１の表面１ａに光透過パターン３ａを浮かび上がる。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
