「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 43 44 45 46 47 48 49 50 51 .... 141 142 次へ＞- When an object is placed on the light receiving surface R, a linear pattern is projected by hologram reconstructing light to image a projection image to measure a three-dimensional shape of the object.
受光面Ｒに物体を載置すると、ホログラム再生光により線状パターンが投影されるので、その投影像を撮影して物体の三次元形状測定を行う。 - 特許庁 - To provide a vehicular headlight capable of creating a light distribution pattern with an intended amount of light flux by using fewer LEDs, with easy heat radiation of the LEDs, and easy to manufacture.
少ない個数のＬＥＤを用いて所望の光束量の配光パターンを奏することができると共に、ＬＥＤの放熱処理も容易で、かつ製造容易であること。 - 特許庁 - The exposure system is provided with the main unit 150 of an exposure device to expose a substrate with a pattern and a light source device to provide an exposing light to the main unit 150 thereof.
露光システムは、基板をパターンで露光する露光装置本体１５０と、露光装置本体１５０に露光光を提供する光源装置１００とを備える。 - 特許庁 - The determined light transmissive regions or light shielding regions are disposed on each gird and necessary pattern forming frequency, focal depth and beam diameter are calculated by CAD(computer aided design) and converted into data.
決定された光透過領域又は遮光領域を、「各グリッド」に配置してＣＡＤで必要な描画回数、焦点深度、ビーム径を計算し、データ化する。 - 特許庁 - To provide a microscope device which arbitrarily changes a pattern of light irradiating a sample and its irradiation position, with high light utilization efficiency, under various device conditions.
さまざまな装置条件下で、標本に照射する光のパターンやその照射位置を、高い光の利用効率で任意に変更する顕微鏡装置を提供する。 - 特許庁 - A mask is lit up with the exposure light emitted by an optical integrator 14 which forms light source images and part of the pattern of the mask is repeatedly exposed on the substrate.
複数の光源像を形成するオプティカルインテグレータ１４を射出した露光光によりマスクを照明し、マスクのパターンの一部を基板上で重複露光する。 - 特許庁 - Then, first pattern exposure is performed by irradiating the resist film with first exposure light 104 including ultraviolet rays via a first mask through the light absorbing film.
その後、第１のマスクを介した極紫外線からなる第１の露光光１０４をレジスト膜に光吸収膜を通して照射することにより第１のパターン露光を行う。 - 特許庁 - To provide a positive photoresist composition capable of forming a pattern by the light having various wavelengths irrespective of a light absorbing function of an optical acid generator.
光酸発生剤が有する光吸収能に関わらず、様々な波長を有する光によってパターン形成が可能なポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - The light from a light source 1 is made incident on a wafer 21 coated with photoresist via a photomask 2 and an objective lens 3, the exposure is performed, thereby the three-dimensional resist pattern is formed.
光源１からの光をフォトマスク２，対物レンズ３を介して、フォトレジストの塗布された基板２１に入射させ露光を行なって３次元的なレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - However, the pattern has sensitivity with the light having a shorter wavelength than 300 nm, and has no sensitivity to the light used to expose the coating resin layer.
ただし、前記パターンは、３００ｎｍより短い波長の光には感度を有し、前記被覆樹脂層を露光するために用いられる光に対しては、感度をもたない。 - 特許庁 - To solve the problem raised by the conventional nitride semiconductor laser that part of laser light is scattered by a substrate and causes interference fringes in the far field pattern of laser light.
従来の窒化物半導体レーザで問題であった、レーザ光の一部が基板により散乱され、遠視野像に干渉縞が生じてしまうという現象を解決すること。 - 特許庁 - To obtain a positive type photoresist composition remarkably excellent in sensitivity and resolution and excellent in the shape of pattern profile when a light source for exposure which emits light of ≤220 nm wavelength is used.
波長が２２０ｎｍ以下の露光光源を使用する際、感度、解像度が著しく優れ、パターンプロファイルの形状が優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - The laser light irradiation head 24 irradiates the film pattern 40 with laser light 50 while enlarging the irradiation spot area thus increasing the region for generating heat through photothermal transformation.
レーザ光照射ヘッド２４は、レーザ光５０を照射スポット面積を広くして膜パターン４０に照射し、光熱変換で熱が発生する領域を大きくする。 - 特許庁 - A focus detection part that includes multiple line sensors on a light-receiving surface receives light of the focus detection pattern reflecting the subject, and detects a focusing state of a camera lens.
焦点検出部は、複数のラインセンサーを受光面に有し、被写体を反射した焦点検出用パターンを受光して撮影レンズの合焦状態を検出する。 - 特許庁 - In the semiconductor light emitting module 1, a semiconductor light emitting element 2 is loaded on a wiring board 22 so that a 1st electrode 2c is brought into contact with a wiring pattern 22a.
半導体発光モジュール１では、配線パターン２２ａに第１の電極２ｃが接するように配線基板２２上に半導体発光素子２が搭載されている。 - 特許庁 - A striped light-shielding pattern P5 comprising two lines, which has a width of 4.0-12.0 μm, a length of ≥12.0 μm, and a light transmissive part T5 at center, is formed.
幅４．０μｍ〜１２．０μｍを有し、長さ１２．０μｍ以上で、その中央に光透過部Ｔ５を設けた二本線ストライプ状の遮光パターンＰ５を形成した。 - 特許庁 - The small uneven pattern 54 is suitably random, so that the occurrence of iridescent interference fringes can drastically be prevented when light reflected by the light reflective film 24 is observed.
小凹凸パターン５４は適切なランダム性を持つので、光反射膜２４で反射した光を観察するときに虹色干渉縞が発生することを大幅に防止できる。 - 特許庁 - The liquid crystal panel 23 displays a pattern 231 wherein a high light pervious region 231a and a low light pervious region 231b both of which corresponds to the position of the electronic part 51 are included.
液晶パネル２３は、電子部品５１の位置に対応する高透光領域２３１ａ、及び低透光領域２３１ｂが混在するパターン２３１を表示する。 - 特許庁 - When the light-emitting device 1 is to be mounted onto the mount 2, a solder ribbon 4 is placed on the metallize pattern 3 through alignment, and then the light-emitting device 1 is placed from a part on it.
マウント２への発光素子１の搭載に際しては、メタライズパターン３の上に半田リボン４を位置を合わせて載置し、次ぎに発光素子１をその上から載置する。 - 特許庁 - Accordingly, the non-exposure region 62 is shielded from light by the light-shielding plates 51-54 during the time when the non-exposure region 62 passes below the opening pattern forming region 30.
これによって、非露光領域６２が開口パターン形成領域３０の下方を通過する間、非露光領域６２が遮光板５１〜５４によって遮光される。 - 特許庁 - In an aligner 100, light from a light source 1 lights an original 2, and a projection optical system 6 projects the pattern of the original 2 on a substrate 3 for exposing the substrate 3.
露光装置１００は、光源１からの光で原版２を照明し該原版２のパターンを投影光学系６よって基板３に投影して該基板３を露光する。 - 特許庁 - To provide an optical film for display which ensures high light ray transmittance with a small number of sheets of base films and is manufactured while maintaining high positioning accuracy of a light-shielding pattern.
基材フィルムの枚数が少なくて光線透過率が高いと供に、遮光パターンの位置合わせ精度を高く維持して製造できるディスプレイ用光学フィルムを提供する。 - 特許庁 - The pattern dim device 200 is selected out of a plurality of dim patterns obtained by combining a light transmission section and a light decay section in accordance with luminance distribution of the projected screen.
パターン減光装置２００は、光透過区画と光減衰区画とを組み合わせて得られる複数の減光パターンから投写画像の輝度分布に応じて選択される。 - 特許庁 - To provide a vehicular head-light which does not require countermeasure against heat by eliminating a shade for forming a light distribution pattern and enables to shorten the longitudinal length of itself.
配光パターンを形成する為のシェードを省略して熱対策を不要とする共に、前後長を短くすることができる車両用前照灯を提供する。 - 特許庁 - At least one of the first shade 38 and the second shade 40 has a vehicle widthwise width such that light is shielded beyond the central area of the low-beam light distribution pattern to be formed.
第１シェード３８と第２シェード４０の少なくとも一方は、形成するロービーム用配光パターンの中央領域を越えて遮光する車幅方向の幅を有する。 - 特許庁 - To provide an exposure device that can appropriately light-shield a non-exposure region by using a light-shielding member upon carrying out pattern exposure by relatively moving a substrate and a mask.
基板とマスクとを相対移動させることでパターン露光を行う際に、遮光部材を用いて非露光領域を適切に遮光できる露光装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a headlamp for a vehicle in which slanting cut-off lines are clearly formed and light intensity distribution of a light distribution pattern at the vicinity of its lower part is excellent.
車両用前照灯において、斜めカットオフラインを鮮明に形成するとともにその下方近傍における配光パターンの光度分布を好ましいものとする。 - 特許庁 - The slight light 3a is composed in time series and a projection pattern light 8 composed of striped lights having the intensity modulated to more than ternary values is projected on the body 4.
スリット光３ａが時系列的に合成され、３値以上に強度変調された複数のストライプ光からなる投影パターン光８が物体４に投影される。 - 特許庁 - To provide a convenient and inexpensive light diffusion type display body capable of finely diffusion-displaying a pattern formed on a film.
膜体に形成されるパターンを綺麗に拡散表示できる簡便で安価な光拡散式表示体を提供する。 - 特許庁 - By this structure, the reduction of display quality affected by the time constant of the peripheral light shielding pattern 9 can be suppressed.
この構造により、周辺遮光パターン９の時定数の影響による表示品位の低下を抑えることができる。 - 特許庁 - To provide a light receiving pattern detecting device capable of reading in within a reading interval of a video game including a transfer time.
転送時間を含めてビデオゲームの読取間隔以内に読み込める受光パターン検出装置を提供することにある。 - 特許庁 - An origin detecting sensor unit 10 irradiates visible radiation to the optical pattern to generated a pulse signal from the reflected light.
また、原点検出センサユニット１０は、可視光を光学パターンに照射し、その反射光からパルス信号を生成する。 - 特許庁 - The film thickness inspection device performs spectral measurement of reflection light from the minute spot S imaged on the color pattern P with a spectral means 5.
カラーパターンＰ上に結像した微小スポットＳからの反射光の分光測定を分光手段５にて行う。 - 特許庁 - To provide a pattern material which can easily provide various colors, pictures, etc., according to projection light to be irradiated.
照射される投影光に応じて、容易に様々な色、絵柄等を施すことができるパターン材を提供すること - 特許庁 - After passing through the standard pattern, the light 2 is made incident to the optical system 5 for extremely-short ultraviolet rays which is an object to be inspected.
標準パターンを通過した照明光２は、被検査体である極短紫外線光学系５に入射する。 - 特許庁 - A CPU 41 reads a light emission pattern data from a ROM 42 according to the reliability determined by a reliability determination part 52.
ＣＰＵ４１は信頼度決定部５２で決定された信頼度に応じてＲＯＭ４２から発光パターンデータを読み出す。 - 特許庁 - To provide a vehicle headlight capable of forming a desired light distribution pattern with high assemblability secured.
高い組立性を確保しつつ、所望の配光パターンを形成することができる車両用前照灯を提供すること。 - 特許庁 - An ultraviolet light source (99) is installed and the ultraviolet ray is radiated through the belt to the duplicated pattern in parallel with embossing.
紫外線光源（９９）が設けられ、ベルトを通してエンボス加工と同時に紫外線を複製パターンに照射する。 - 特許庁 - The control circuit 22 and the light emitting element 23 are electrically connected by a wiring pattern formed on the printed circuit board 21.
制御回路２２と発光素子２３とは、プリント基板２１に形成された配線パターンで電気的に接続される。 - 特許庁 - As a result, the light distribution pattern with reduced luminance unevenness is obtained, even if a reflecting mirror is not actively installed.
これにより、積極的に反射鏡を設けなくても、明るさムラを低減した配光パターンを得ることができる。 - 特許庁 - To perform a high precision pattern detection while miniaturizing a device therefor and without using a plurality of illuminating light sources.
装置のサイズを小型化しつつ、さらに複数の照明光源を必要とせずに、高精度のパターン検出を行う。 - 特許庁 - A first illumination optical system 10 includes a first light source part 11 for illuminating the eye 60 with the luminous flux of a prescribed pattern.
第1照明光学系１０は、被測定眼６０に所定パターンの光束を照射する第1光源部１１を含む。 - 特許庁 - To accurately recognize density of an evaluation pattern, thereby accurately adjusting writing timing of each of light emitting parts.
評価パターンの濃度を正確に把握することによって各発光部の書き出しタイミングを正確に調整すること。 - 特許庁 - A thin film formed by using the above composition has a water-repellent hydrophilic pattern formed by irradiation with light.
それを用いて形成した薄膜に、光を照射することにより形成した撥水性親水性パターンを有する薄膜。 - 特許庁 - The reverse surface of the wiring layer 22a of the chip 22 is scanned with infrared light and polished while a wiring pattern 22b is observed.
チップ２２の配線層２２ａの裏面に赤外光を走査させ配線パタ−ン２２ｂを観察しながら研磨する。 - 特許庁 - Then, the first resist film R1 is selectively exposed to light, and development is made to form a first resist pattern P1 (Fig.7(c)).
その後、第１のレジスト膜Ｒ１を選択的に露光し、現像して第１のレジストパターンＰ１を形成する（図７（ｃ））。 - 特許庁 - To provide technique capable of easily forming a transparent electrode pattern, which is less in surface roughness and is high in light transmittance.
表面荒れが少なく、光の透過率の高い透明電極パターンを容易に形成できる技術を提供する。 - 特許庁 - The scattered light removing grid 24 performs Bucky operation in the direction crossing the grating pattern at a right angle by a reciprocating device 25.
この散乱線除去グリッド２４は、往復動装置２５により、格子パターンと直交する方向にブッキー動作を行う。 - 特許庁 - These light-emitting elements 20 are connected in series via a conductive pattern 14 and a metal thin wire 16.
そして、導電パターン１４および金属細線１６を経由して、これらの発光素子２０が直列に接続されている。 - 特許庁 - Remote control terminal equipment 21 acquires and utilizes a light emission pattern from a remote control information providing device 11.
遠隔制御端末装置２１は、遠隔制御情報提供装置１１から発光パターンを取得して使用する。 - 特許庁
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