「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 47 48 49 50 51 52 53 54 55 .... 141 142 次へ＞- To provide a negative resist composition suitable for exposure with light having a wavelength shorter than 200 nm and forming a high resolution resist pattern, and also to provide a resist pattern forming method.
２００ｎｍより短波長の光による露光に好適で高解像度のレジストパターンを形成することができるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In the laser-speckle pattern reading unit 310, the white board 304 is irradiated with laser beams 316, and the image data of a laser-speckle pattern is read from a reflected light 318 reflected from the white board 304.
レーザスペックルパタン読取ユニット３１０は、レーザ光３１６を白板３０４へ照射し、白板３０４から反射された反射光３１８からレーザスペックルパタンの画像データを読み取る。 - 特許庁 - An ion beam is applied to a wafer that is coated with resist via a transmission-type unmagnified mask having the same size as a pattern to be exposed to light for collective pattern transfer in a simple configuration.
露光するパタンと等倍のサイズを有する透過型等倍マスクを介して、レジストがコートされたウェハにイオンビームが照射され、一括してパタン転写できる簡単な構成となっている。 - 特許庁 - To provide a laminate for color filter having good pattern forming property and forming a colored pattern excellent in adhesion to a glass support and having good light and heat resistances, and a color filter.
良好なパターン形成性、ガラス支持体との密着性に優れ、耐光性及び耐熱性が良好な着色パターンを形成しうるカラーフィルタ用積層体及びカラーフィルタを提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern inspection device and an inspection method, capable of acquiring reflected light having imageable brightness, even from a copper plated pattern which hardly has gloss being polished chemically.
化学研磨されて光沢がほとんどない銅メッキパターンからも、撮像可能な輝度を有する反射光を得ることができるパターン検査装置および検査方法を提供すること。 - 特許庁 - That is, the pattern projected onto an enlarged mask 110 is shifted by 1/4 of the size (the width in the X direction) of the projected pattern by generating pulse laser light L1.
すなわち、０．１ｍｓ毎に、パルス状のレーザ光Ｌ１の発生によって、拡大マスク１１０上に投影されるパターンを投影パターンのサイズ（Ｘ方向の幅）の１／４づつ移動させる。 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING COPPER METAL HAVING BLACKENED SURFACE, METHOD OF MANUFACTURING BASE MATERIAL WITH CONDUCTIVE LAYER PATTERN, BASE MATERIAL WITH CONDUCTIVE LAYER PATTERN AND LIGHT TRANSMISSIVE ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING MEMBER USING THE SAME
表面が黒化処理された銅金属の製造法、導体層パターン付き基材の製造法、導体層パターン付き基材及びそれを用いた透光性電磁波遮蔽部材 - 特許庁 - NEAR-FIELD EXPOSURE MASK, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD, NEAR-FIELD EXPOSURE METHOD, PATTERN FORMATION METHOD, NEAR-FIELD LIGHT LITHOGRAPHY MEMBER, AND NEAR-FIELD NANOIMPRINT METHOD
近接場露光用マスク、レジストパターン形成方法、デバイスの製造方法、近接場露光方法、パターン形成方法、近接場光リソグラフィ部材、および近接場ナノインプリント方法 - 特許庁 - The optical reactive resin is stamped with a mold including a transparent substrate having an uneven pattern and a light shielding film formed over a part of the surface of the uneven pattern.
さらに、前記方法では、凹凸パターンを有する透明基板と、前記凹凸パターンの表面の一部に形成された遮光膜と、を備えるモールドを前記光反応性樹脂に押印する。 - 特許庁 - As a result, the incident light to the reflecting surface of a reflector is almost fully utilized, and an excellent low beam luminous intensity distribution pattern and high beam luminous intensity distribution pattern can be provided.
この結果、リフレクタ４の反射面４０に入射する光がほぼ１００％有効利用され、かつ、良好なロービームの配光パターンＬＰ及びハイビームの配光パターンＨＰが得られる。 - 特許庁 - To provide a pattern inspection device and a method capable of inspecting accurately existence of a fault on a pattern formed on a printed circuit board even when a transmitted light image can not be utilized.
透過光画像を利用できない場合であっても、プリント基板に形成されたパターン上の欠陥の有無を正確に検査できるパターン検査装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - A manufacturing method is carried out through a manner in which a photosensitive conductive paste applied onto a ceramic board 11 is exposed to light, through a photomask and developed for the formation of the lower conductor pattern 1a of a coil conductor pattern 1.
セラミック基板１１上に付与された感光性導電ペーストをフォトマスクを通して露光及び現像し、コイル導体パターン１の下部導体パターン層１ａを形成する。 - 特許庁 - To provide an inexpensive, user-friendly, decorative and thin display apparatus, in which a pattern itself emits light to attain high decoration effect, and a design pattern is easily changed.
模様自体が明るく発光して高い装飾効果が得られ、意匠パターンの変更が容易であり、且つ安価で取り扱いに優れた装飾効果の高い薄型の表示装置を提供する。 - 特許庁 - To inexpensively obtain a dimming body rich in variety such that color tone, letter and/or pattern at the time when it is transparent and color tone, letter and/or pattern at the time when light is shielded, are changed depending on the temperature change.
温度変化により、透明時の色調、文字及び／又は模様と遮光時の色調、文字及び／又は模様とが変化するバラエティーに富んだ調光体を安価に得ること。 - 特許庁 - When the writing surface is a curved surface, particularly, pattern light is projected to the writing surface to estimate a local shape, and the projected pattern is extracted from an image obtained by the camera sensor.
特に、書画が曲面上の場合は、局所形状推定するために、パターン光を書画面に投影し、カメラセンサにより得られた画像から投影されたパターンを抽出する。 - 特許庁 - An interference pattern is formed by irradiating two transparent plates P1 and P2, each having a grating formed thereon, with illumination light and a wafer W is exposed by that interference pattern.
照明光をそれぞれ回折格子が形成された２枚の透光性平板Ｐ１，Ｐ２に照射することによって干渉縞を形成し、この干渉縞でウエハＷを露光する。 - 特許庁 - To provide a liquid drop discharging device improved in shape controllability of a pattern comprising liquid drops while maintaining optical characteristics of laser light irradiating the liquid drops, and to provide a pattern forming method.
液滴に照射するレーザ光の光学特性を維持して、液滴からなるパターンの形状制御性を向上した液滴吐出装置及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The manufacturing method for a light-emitting element is a manufacturing method for a laminated substrate wherein a first pattern layer made from a first material and a second pattern layer made from a second material are formed on a substrate.
発光素子の製造方法は、基板上に第１材料からなる第１パターン層および第２材料からなる第２パターン層が形成された積層基板の製造方法である。 - 特許庁 - The bar code pattern of a woven fabric in which the bar code pattern is formed from cyano group-having yarns 1 and cyano group-free yarns 2 can be recognized in response to the irradiation quantity of infrared light.
シアノ基を含有する糸１とシアノ基を含有しない糸２とでバーコード模様を付与した織布は、赤外光の輻射量によりバーコード模様の認識が可能になる。 - 特許庁 - The effective pattern can be represented over the entire or substantially entire region of the dynamic range of the light receiving element and oversaturation due to an ineffective pattern can be suppressed by the overflow drain mechanism.
有効絵柄を受光素子のダイナミックレンジの全域又はほぼ全域で表現することができ、オーバーフロードレイン機構により非有効絵柄による過飽和現象の生起は抑えられる。 - 特許庁 - A toner-end detection pattern is formed on the photoreceptor 3 after detecting the toner near-end by the magnetic sensor 7, and the toner-end is detected by detecting the density of a pattern by light from the photosensor 8.
磁気センサ７でトナーニアエンドを検出した後、感光体３上にトナーエンド検出用パターンを作り、フォトセンサ８からの光でパターンの濃度を検出してトナーエンドを検出する。 - 特許庁 - Next, a pattern exposure is carried out by selectively irradiating the resist film 102 with extreme ultraviolet rays as exposure light, and then the resist film 102 having been subjected to the pattern exposure is heated.
続いて、レジスト膜１０２に極紫外線からなる露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行い、パターン露光が行われたレジスト膜１０２を加熱する。 - 特許庁 - A semiconductor light emitting chip 3 is mounted on the electrode pattern 5X of one side and wire-bonded to the electrode pattern 4X of the other side by using a metal wire 6.
半導体発光チップ３を一方の電極パタ−ン５Ｘ上に搭載し、半導体発光チップ３と他方の電極パタ−ン４Ｘとを金属線６にてワイヤ−ボンデングする。 - 特許庁 - To solve problems due to deformation of a photoresist pattern in an etching process using the photoresist pattern exposed with a light source whose wavelength is of 157 nm to 193 nm, that is, an F_2 or ArF laser.
波長が157nmないし193nmである露光源、すなわちF2またはArFレーザで露光されたフォトレジストパターンを利用したエッチング過程における前記フォトレジストパターンの変形に伴う問題点を解決する。 - 特許庁 - After pattern exposure is performed by irradiating a resist film formed on a substrate 10 selectively with exposing light, the resist film is developed to form a resist pattern 14A.
基板１０上に形成されたレジスト膜に対して露光光を選択的に照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜を現像してレジストパターン１４Ａを形成する。 - 特許庁 - To provide a pattern recognition process device and method and a pattern recognition program capable of causing an overall atmosphere to reflect on the result of recognition while making the burden of a process relatively light.
比較的処理の負担が軽く、全体的な雰囲気を認識結果に反映させることができるパターン認識処理装置、方法およびパターン認識プログラムを提供すること。 - 特許庁 - Consequently, the amount z of irradiation light which is optimal for inspection can be set and neither a detection omission of a pattern defect nor a dummy defect is caused to precisely perform the pattern inspection.
これにより、最適な検査用照射光量ｚが設定できることになり、パターン欠陥の検出漏れや擬似欠陥も起きなくなって、精度よくパターン検査を行うことができる。 - 特許庁 - To inspect the uneven flaw on a wafer having a non-repeating pattern accurately and effectively by removing the mixing of reflected light from the pattern corner or the like in a die having no repeating pattern with desired signal light or the generation of ringing noise or speckle noise, in a visual examination device utilizing an image forming optical system using a laser.
繰り返しパターンを持たないダイ中のパターンコーナ等からの反射光の所望の信号光への混入や、レーザを用いた結像光学系利用の検査装置ではリンギングノイズやスペックルノイズの発生を除き、非繰り返しパターンを持つウェーハ上の凹凸性欠陥を精度良く、また有効に検査できるようにする。 - 特許庁 - As an example, a first LED can contain a lens for generating such light distribution pattern as has maximum intensity at the center, while a second LED can use a lens for generating such light distribution pattern having the maximum intensity that encloses the maximum intensity of the pattern generated by the first LED.
例証として、第１のＬＥＤは、中心に最大強度をもつ光分布パターンを生成するレンズを含むことができ、一方第２のＬＥＤには、第１のＬＥＤによって生成されるパターンの最大強度を囲む最大強度をもつ光分布パターンを生成するレンズを使用することができる。 - 特許庁 - The rim pattern 12 has a traverse pattern which transversely extends to both sides of the center of the central part 11 and alternatively repeats a light region and a dark region and a longitudinal pattern which longitudinally extends to both sides of the center of the central part 11 and alternatively repeats a light region and a dark region.
枠状パターン１２は、中央部１１を中心として横方向に沿って両側に延出し、明領域、及び暗領域を交互に繰り返す横方向パターンと、中央部１１を中心として縦方向に沿って両側に延出し、明領域、及び暗領域を交互に繰り返す縦方向パターンとを有している。 - 特許庁 - The exposure mask including a test mark 7 composed of an asymmetric diffraction grating pattern 10 varying in diffraction efficiency with +1st order light and -1st order light and a reference pattern 20 for obtaining an image which is a reference when measuring the deviation of the image of the asymmetric diffraction grating pattern 10 is used as the exposure for focus measurement.
フォーカス測定用の露光マスクとして、＋１次光と−１次光とで回折効率の異なる非対称回折格子パターン１０と、非対称回折格子パターン１０の像のずれを測定する際の基準となる像を得るための基準パターン２０とで構成されたテストマーク７を含むものを用いる。 - 特許庁 - The wiring circuit pattern 19 is formed on the insulating layer 32, and cream solder is applied to a light source mounting part on which a light source of LED of the wiring circuit pattern 19 is to be mounted and the wiring circuit pattern 19 formed on the one surface 5a of the metal substrate 5 opposed to the substrate bending groove 6.
そして、絶縁層３２の上に配線回路パターン１９を形成し、前記配線回路パターン１９のうちＬＥＤからなる光源を実装する光源実装部と、基板折曲げ溝６と対峙する前記金属基板５の一面５ａに形成された前記配線回路パターン１９上にクリーム半田を塗布する。 - 特許庁 - The mask pattern is constituted of combination of the same number of transmissive parts and nontransmissive parts for transmitting or shutting off 1 bit of signal light and accordance or discordance between a bit pattern and the mask pattern of the signal light is detected by detecting a maximum value or a minimum value of optical intensity detected by an optical detector 24.
マスクパターンは、１ビット分の信号光を透過又は遮断する透過部及び非透過部が同数組み合わされたものであり、光検出器２４で検出される光強度の最大値又は最小値を検出することにより、信号光のビットパターンとマスクパターンとの一致又は不一致を検出する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a semiconductor device by which a light source such as an ArF excimer laser in a conventional exposure apparatus can be used as it is on patterning a resist pattern with excellent mass-productivity and a resist cut-out pattern can be finely formed exceeding the exposure limit of the light source.
レジストパターンのパターニング時に既存の露光装置におけるＡｒＦエキシマレーザー光等の光源をそのまま使用可能であり量産性に優れ、レジスト抜けパターンを前記光源の露光限界を超えて微細に形成可能なレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法等の提供。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the electromagnetic wave shielding film for applying exposure and development processing to a photosensitive material having a photosensitive silver salt applied thereon to form a metal silver pattern, a light-shielding ink is applied to the photosensitive material to manufacture a light-shielding ink pattern, and the pattern is exposed.
感光性銀塩を塗布した感光材料を、露光、現像処理して金属銀パターンを形成する電磁波遮蔽フィルムの製造方法において、該感光材料に対して遮光性インクを塗布して遮光性インクパターンを作製した後、露光することを特徴とする電磁波遮蔽フィルムの製造方法。 - 特許庁 - Thus, the true slime mold 15 is deformed in a process of a feedback loop that the radiation pattern of the light changes according to the deformation state of the true slime mold 15 and the true slime mold 15 is further deformed by the radiation pattern of the light.
これにより、真性粘菌１５の変形状態に応じて光の照射パターンが変わり、その光の照射パターンによってさらに真性粘菌１５が変形する、というフィードバックループの過程で、真性粘菌１５を変形させることができる。 - 特許庁 - The pattern can be viewed especially well on the transmissive liquid crystal display apparatus 1 by operating the light-transmissive areas in a normally black mode and operating the light reflecting areas corresponding to the pattern in a normally white mode.
本発明の透過型液晶表示装置１においては、前記光透過領域はノーマリーブラックモードで作動し、前記模様に対応する光反射領域はノーマリーホワイトモードで作動するようにすると、特に良好に前記模様を視認できるようになる。 - 特許庁 - Inversely, in the case of replacing the resist mask with a normal mask, in the setting of the plane dimension of the light shielding pattern 2 composed of the metal, the correction of adding the correction amount L to the plane dimension of the light shielding pattern 3 composed of the resist film corresponding to it is performed.
逆に、レジストマスクから通常のマスクに置き換える場合には、メタルからなる遮光パターン２の平面寸法の設定において、これに対応するレジスト膜からなる遮光パターン３の平面寸法に補正量Ｌを加える補正を行う。 - 特許庁 - In a game machine which outputs one performance music according to each game, a plurality of light emission pattern data are stored and at the time of outputting the performance music and each time the performance music is continued, light emission pattern data are determined by a lottery.
遊技に応じて一曲の演出音楽を継続して出力する遊技機において、複数の発光パターンデータを記憶し、演出音楽の出力開始時及び演出音楽が継続される度に、発光パターンデータを抽籤により決定する。 - 特許庁 - To provide a 3-dimensional shape detection device which can detect a boundary of pattern light in sub-pixel level precision at high speed without increasing imaging number of sheets of pattern light, a 3-dimensional shape detection method and a 3-dimensional shape detection program thereof.
パターン光の撮像枚数を増加させることなく、高速にパターン光の境界をサブピクセル精度で検出することができる３次元形状検出装置、３次元形状検出方法および３次元形状検出プログラムを提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive type chemical amplification resist using far ultraviolet light having ≤220 nm wavelength as light for exposure, capable of preventing the falling and crumbling of a pattern and excellent in adhesion to a substrate and to provide a resist pattern forming method.
露光光として波長が２２０ｎｍ以下の遠紫外光を使用するポジ型化学増幅レジストであって、パターン倒れ及びパターン崩れを防止でき、基板密着性が優れたポジ型化学増幅レジスト及びそのパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The picking-up direction is detected from the coordinate position on the image of each dot pattern light while inputting the picked-up image of this camera 20 to an operation unit 30 and detecting the irradiation direction by decoding each dot pattern light on the picked-up image.
このカメラ２０の撮像画像を演算ユニット３０に入力し、その撮像画像上の各ドットパタン光をデコードしてその照射方向を検知するとともに、各ドットパタン光の画像上の座標位置からその撮像方向を検知する。 - 特許庁 - To actualize gradational representation of a display which has a light scattering pattern formed of fine unevenness on a surface by improving both forgery prevention effect and eye-catch effect and varying light scattering in every cell as constitution unit of the pattern.
表面の微細な凹凸により形成される光散乱パターンを有するディスプレイにおいて、偽造防止効果とアイキャッチ効果の双方を向上させ、前記パターンの構成単位となるセル毎に光散乱性を変化させて、階調表現を実現する。 - 特許庁 - In one embodiment, the surface pattern can be easily realized by, for example, providing a shallow step on the surface of the light shielding film in the device pattern forming region, and making the reflection of light or electron beam different from surroundings.
一実施例によれば、その表面パターンは、デバイスパターン形成領域の遮光膜の表面に、例えば、浅い段差などを設けることにより、光線又は電子線の反射が周囲と異なるようにしておくことによって、容易に実現できる。 - 特許庁 - The plate is supported so that the mask pattern formed on the plate is positioned on the light axis and can be rotated with the light axis as a center, and rotated according to an instruction from a control section for changing the direction of the mask pattern.
あるいはプレートに形成されたマスクパターンが前記光軸上に位置するようにかつ光軸を中心として回転できるようにプレートを支持し、制御部からの指示によりプレートを回転させてマスクパターンの向きを変えられるようにする。 - 特許庁 - To provide a light emitting device having a structure capable of protecting a wire wired between a pattern for power supply and a wiring pattern without applying thermal stress to the wire nor decreasing luminous flux emitted by a semiconductor light emitting element.
ワイヤーに熱応力などを与えることなく、また、半導体発光素子の発光の光束を低下させることなく、給電用パターンと配線パターンとの間に配線したワイヤーを保護することの可能な構造を有する発光装置を提供する。 - 特許庁 - At a position away from above the light emitting part 11 and also at a position that a cleavage 19 which is off a desired cleavage line 22 intersecting the light emitting part 11 is in contact, a dummy pattern 18 (first dummy pattern) is formed on the single crystal wafer 12.
発光部１１の上方から離れた位置であり、かつ発光部１１を横切る所望の劈開ライン２２から外れた劈開１９が接する位置において単結晶ウェハ１２上にダミーパターン１８（第１のダミーパターン）を形成する。 - 特許庁 - To provide a vehicle headlight capable of switching to an optical system suitable for forming a light distribution pattern for a main beam in emitting a main beam while switching to an optical system suitable for forming a light distribution pattern for a low beam in emitting a low beam.
すれ違いビーム時にはすれ違いビーム用配光パターンの形成に適した光学系に切り替え、走行ビーム時には走行ビーム用配光パターンの形成に適した光学系に切り替えることが可能な車両用前照灯を提供する。 - 特許庁 - To allow a driver to visually recognize that a symbol mark stands out on a stereoscopic display pattern when a light source is turned on, and also that the symbol mark does not apparently exist on the stereoscopic pattern when the light source is turned off.
光源の点灯時には、シンボルマークを立体表示パターン上に浮き上がるように視認可能にするとともに、光源の消灯時には、立体表示パターン上にシンボルマークが恰も存在しないかのように、運転者に視認可能にする。 - 特許庁 - The first metal layer 23 has a patterning in a prescribed shape and is composed of a circuit pattern 231 electrically connected to the light emitting unit 4 and a heat radiating pattern 232 having a function to radiate heat generated in the light emitting unit 4.
第１の金属層２３は、所定形状にパターニングされ、発光装置４と電気的に接続された回路パターン２３１と、発光装置４で発生した熱を放熱するための機能を有する放熱用パターン２３２とで構成されている。 - 特許庁
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