An antireflection layer 3b formed on a light-shielding film pattern 2a is made of the same material as the material of a transparent film 3. 遮光膜パターン2a上に形成された反射防止層3bの材料が透明性膜3の材料と同一であること。 - 特許庁
To perform high-accuracy composition even if no light-and-shade pattern exists in an overlapping portion of neighboring element mapping images. 隣接する元素マッピング像のオーバーラップ部分に濃淡のパターンが存在しない場合でも精度の高い合成を可能とする。 - 特許庁
Each frame of the mask is provided with a through hole passing through the mask for generating the patternlight corresponding to each frame. マスクは、各フレームごとに、マスクを貫通する貫通穴を、各フレームに対応するパターン光を生成するために備えている。 - 特許庁
By using the above photosensitive resin composition, the lens sheet having a high-definition light shielding pattern excellent in yellowing resistance can be obtained. 該感光性樹脂組成物を用いることで、耐黄変性に優た高精細の遮光パターンを有するレンズシートをえることができる。 - 特許庁
This method for producing the neural circuit by controlling the neurite extension of neuron comprises varying a light radiation pattern. 光照射パターンを可変することにより、神経細胞の神経突起伸展を制御して神経回路を作製する方法 - 特許庁
To obtain a resist pattern having a satisfactory shape using exposure light having 140-160 nm for the wavelength. 140nm帯〜160nm帯の波長を持つ露光光を用いて良好な形状を持つレジストパターンが得られるようにする。 - 特許庁
Rectangle corresponding parts corresponding to rectangles composing the striped pattern of the light are respectively specified from the captured face image (S13). 撮像した顔画像から、光の縞模様を構成する矩形に対応する矩形対応部分をそれぞれ特定する(S13)。 - 特許庁
The mask 1 for forming resist pattern has a slit 4 so formed as to have one side which is shorter than the wavelength of exposure light. レジストパターンを形成するマスク1において、マスクに、露光光の波長よりも短い一辺を有するスリット4を形成した。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a photomask capable of efficiently manufacturing the photomask including a pattern with high accuracy and reducing stray light. 高精度のパターンを備え、迷光を低減できるフォトマスクを効率的に製造できるフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
An electrode on the upper surface 20a of the semiconductor light emitting element 20 is connected to the wiring pattern 13 with a conductor wire 21. 半導体発光素子20上面20aの電極と配線パターン13との間が導体ワイヤ21で接続される。 - 特許庁
A vibration plate 18 of a speaker 1 is made of transparent synthetic resin and is provided with a light diffusion pattern on at least one side. スピーカ1の振動板18は透光性の合成樹脂製で、少なくとも片面に光拡散パターンが設けられている。 - 特許庁
A light shielding pattern 52 having a high reflectance is formed on the surface of a reticle substrate 51 to obtain the objective reticle (photomask) R. レチクル(フォトマスク)Rは、レチクル基板51の表面に高反射率を有する遮光性パターン52を形成して構成される。 - 特許庁
Upon putting on the muti-color LEDs 17, their lights are diffused by the light diffusion pattern when passing through the vibration plate 18. 多色LED17を点灯すると、その光は振動板18を透過する際に光拡散パターンによって拡散させられる。 - 特許庁
The fixed shade 50 forms the partial shape of the light distribution pattern for a high-beam when the movable shade 48 is located at the receded position. 固定シェード50は、可動シェード48が退避位置にある場合にハイビーム用配光パターンの一部形状を形成する。 - 特許庁
To define the region for inspection of defects, and to make a pattern to restrict a light-shielding region smaller than the resolution limit of a reduction stepper. 欠陥検査領域の明確化と遮光領域規定パターンを縮小投影露光装置の解像限界以下とする。 - 特許庁
Any interface of an LED has an interface texture with a periodic and regular pattern, to improve extraction of the light of first passing. LEDの任意の界面において周期的な規則的界面テキスチャを備え、第1のパス光の抽出が改善される。 - 特許庁
By this low-level reflecting face 5c, a hot zone H in a light distribution pattern P can be made to appear closer to a cut line CL. この低位反射面5cにより、配光パターンP中のホットゾーンHをカットラインCL寄りに現出させることができる。 - 特許庁
An opening 13 for cutting out a part C1 of the light distribution pattern OSP used for an overhead sign is arranged on the reflecting member 6. 反射部材6には、オーバーヘッドサイン用の配光パターンOSPの一部C1を抜く開口部13が設けられている。 - 特許庁
The light diffused pattern is illuminated from the LED 4 by the structure and is thereby clearly observed from a visual point 8. この構造によりLED4から照光することにより目視点8から光拡散されたパターンが鮮明に観察される。 - 特許庁
To provide a vehicular headlight for forming a light distribution pattern by which a walker is easily visually recognized only when necessary. 必要なときにのみ、歩行者を視認しやすい配光パターンを形成することが可能な車両用前照灯を提供する。 - 特許庁
To provide a touch panel which prevents the occurrence of an interference pattern (Newton ring) due to reflected light, is of low cost, and has good display quality. 反射光による干渉縞(ニュートンリング)の発生を防止し、低コストで表示品質に優れたタッチパネルを実現する。 - 特許庁
The light distribution control system 100 includes: the vehicle headlight 210 capable of forming a plurality of light distribution patterns; and a vehicle control unit 302 and an irradiation control unit 228 for controlling the vehicle headlight so as to detect the preceding vehicle present on a front side of one's own vehicle, select one light distribution pattern from the plurality of light distribution patterns based on the result of detection and irradiate the selected light distribution pattern. 配光制御システム100は、複数の配光パターンを形成可能な車両用前照灯210と、自車の前方に存在する前走車を検出し、該検出の結果に基づいて複数の配光パターンのうちから一つの配光パターンを選択し、選択した配光パターンを照射するよう車両用前照灯を制御する車両制御部302および照射制御部228とを備える。 - 特許庁
The light emission part EU emits irradiation light LT with a first intensity distribution pattern PID1 and irradiation light LT with a second intensity distribution pattern PID2 when determining that the distance of the object OB from an object surface 20 on which the detection area RDET is set is short, and emits irradiation light LT with a third intensity distribution pattern PID3 when determining that the distance of the object OB from the object surface 20 is long. 光出射部EUは、検出エリアRDETを設定する対象面20からの対象物OBの距離が短いと判断された場合には、第1の強度分布パターンPID1の照射光LTと第2の強度分布パターンPID2の照射光LTとを出射し、対象面20からの対象物OBの距離が長いと判断された場合には、第3の強度分布パターンPID3の照射光LTを出射する。 - 特許庁
When the exposure process for a semiconductor wafer 1W is carried out using the exposure light over wavelength of 200 nm EXP, a photomask MR on which a shielding lightpattern 5 made by laminating a resist film 4a on a light absorbents organic film 3a with light absorbent for the exposure light EXP is placed, is used. 半導体ウエハ1Wに対して、波長が200nmを越える露光光EXPを用いて露光処理を行う際に、その露光光EXPに対して吸光性を有する吸光性有機膜3a上にレジスト膜4aを積層してなる遮光パターン5が配置されたフォトマスクMRを用いる。 - 特許庁
In the light diffusing body, a light diffusing part, which is made of a foamed body foamed by impartation of radiation energy and thermal energy and in which air bubble density has a prescribed distribution pattern, is provided on a surface of a light translucent support or is held between light translucent supports and the light translucent support has UV absorbency. 放射線エネルギーおよび熱エネルギーの付与により発泡した発泡体からなり、気泡密度が所定の分布パターンを有する光拡散部が透光性支持体の表面上に設けられているか、または透光性支持体で挟まれており、かつ該透光性支持体を紫外線吸収性とする。 - 特許庁
To provide a direct-radiation type vehicular lighting lamp tool with a surface light source which gives flexibility on a light intensity distribution of a light distribution pattern while the light distribution patterns with horizontal and oblique cut-off lines are formed at an upper section and hardly generates large light distribution unevenness on a road surface in front of a vehicle. 面状光源を有する直射型の車両用照明灯具において、上端部に水平および斜めカットオフラインを有する配光パターンを形成するようにした上で、その配光パターンの光度分布に自由度を持たせ、かつ、車両前方路面に大きな配光ムラが生じてしまわないようにする。 - 特許庁
A Fresnel lens 8 for turning light for exposure 7a from a light source 6 into a parallel light 7b is arranged between a mask for exposure 4 and the light source 6, and a light sensing film at the inner plane of a substrate 3 is exposed in an intended pattern by making the Fresnel lens 8 rock in a direction of the inside of the plane by a rocking means 9. 露光用マスク4と光源6との間に、該光源6からの露光光7aを平行光7bにするためのフレネルレンズ8を配置し、フレネルレンズ8を揺動手段9により面内方向に揺動させて、平行光7bにより基板3の内面の感光性塗膜を所要パターンに露光する。 - 特許庁
The special pattern display parts 551 are mutually linked together based on the lottery result of the game machine 500 or respond to the change in the game state on the game board 501 so as to change the emitted light color as a light emission mode of the light emitting device 15 for the light guide plate using a full color LED (light emitting diode). そして、これらの特別図柄表示部551は互いに連係し合って、遊技機500での抽選結果に基づいて、あるいは遊技盤501上の遊技状態の変化に対応して、フルカラーLEDを用いた導光板用発光素子15の発光態様として発光色を変化させる。 - 特許庁
A light emitting module 1 includes: a plurality of light emitting diodes 11; a substrate 2 having a surface mounted with the light emitting diodes 11 and having a conductive pattern connecting each mounted light emitting diode 11; and louver elements 22 projecting from the substrate surface around the plurality of light emitting diodes 11. 発光モジュール1は、複数の発光ダイオード11と、これら発光ダイオード11が表面に実装されるとともに、実装された各発光ダイオード11を接続する導電パターンを有する基板2と、前記複数の発光ダイオード11の周囲の前記基板表面からそれぞれ突設されたルーバー片22とを具備している。 - 特許庁
A pedestal 24 loaded with an aircraft beacon light 12 is rotated continuously following a prescribed light distribution pattern of the aircraft beacon light 12 by a pedestal control part 34, and light from the aircraft beacon light 12 is received by a photodetection part 25, and illuminance or chromaticity is detected by a plurality of optical sensors arranged linearly. 架台制御部34により、航空標識灯12の所定の配光パターンに従って航空標識灯12を搭載した架台24を連続的に回動させ、航空標識灯12からの光を光検出部25で受光し直線上に配置された複数の光センサで照度や色度を検出する。 - 特許庁
The device apparatus includes a device body part equipped with a substrate having a surface of a light irradiation region where a part to be irradiated with light is made conductive, and a light irradiation unit for irradiating the surface of the light irradiation region of the device body part with continuous light in a set irradiation region pattern. デバイス装置は、光の照射を受けることにより照射した部分が伝導体となる光照射領域の面を有する基板を備えるデバイス本体部と、前記デバイス本体部の前記光照射領域の面に、設定された照射領域パターンで連続光を照射する光照射ユニットと、を有する。 - 特許庁
The light source device comprises a planar light guide plate 1, a LED unit 3 having a plurality of LEDs 31 arranged at the light incidence face of the light guide plate 1, and an optical element 2 located at the part where a diffraction pattern 21, generating diffraction light mainly in 0th and ±1st direction, and the LED face each other. この発明は、面状の導光板1とこの導光板1の光入光面に配置される複数のLED31を備えたLEDユニット3と、主として0次と±1次方向の回折光を発生させる回折パターン21が少なくともLEDと対峙する箇所に設けられた光学素子2とを備える。 - 特許庁
Accordingly, light L1 from light source bulbs 4T, 4S is reflected with an number color and a red color at a reflection surface when the light source bulbs 4T, 4S are lit, and reflection light L2T, L2S that are colored with umber color and red color are irradiated with a prescribed light distribution pattern to the outside through a lens 2. この結果、光源バルブ4T、4Sを点灯すると、光源バルブ4T、4Sからの光L1が反射面11T、11Sでアンバー色、赤色に着色されて反射され、アンバー色、赤色に着色された反射光L2T、L2Sがレンズ2を経て外部に所定の配光パターンで照射される。 - 特許庁
Various elements (44) of light scattering or optical absorption performance are installed on the surface (42), thereby, the intensity of light which reflects to a region (214) upper than the light-shade boundary line (206) of the light distribution pattern (202) is made smaller than the case wherein the light scattering or optical absorption elements (44) are not installed. 表面(42)に、光散乱性または光吸収性の諸要素(44)を設け、これによって、配光パターン(202)の明暗境界線(206)より上の領域(214)へ反射する光の強度を、光散乱性または光吸収性諸要素(44)が設けられなかった場合よりも小さくする。 - 特許庁
The light shielding patterns are not present at a light transmission part at the center part of the photomask and provided at a light transmission part of the peripheral edge part and as the position of the light transmission part becomes farther away from the center part to the peripheral edge part, the area of the light shielding pattern is finely increased in proportion to the distance in conformity with the flexure of the photomask. 遮光パターンが、フォトマスクの中央部の光透過部にはなく、周縁部の光透過部には設けられ、光透過部の位置が中央部から周縁部の方向へ離れるに従い、フォトマスクの撓みに準じ、その距離に比例して順次に面積を微増させた遮光パターンあること。 - 特許庁
Light which leaks from the side face of the light guide plate is interrupted by a light reflection pattern 220 formed on the light reflective surface of the light guide plate 200 for modification of brightness distribution and the prevention of a moire phenomenon so that an effective display region is not divided into a bright area IV, a boundary area and a dark area V. 輝度分布の変更及びモアレ現象の防止のために導光板200の光反射面に形成された光反射パターン220により有効ディスプレー領域が明るい領域IV、境界領域、暗い領域Vに分割されないように、導光板の側面から漏洩する光を遮断する。 - 特許庁
The display panel A is equipped with a light guide plate 3 that irradiates light frontward which is incident from an end face, a first light source block 17 arranged opposite to the end face of the light guide plate 3, and the display panel 4 having a display pattern B on the front face and arranged in front of the light guide plate 3. 表示灯Aは、端面から入射した光を前方に照射させる導光板3と、導光板3の上記端面に対向するように配置される第1光源ブロック17と、前面に表示パターンBを有し導光板3の前方に配置される表示パネル4とを備えている。 - 特許庁
An alignment mark is constituted of at least two or more different light shielding films on a photomask consisting of a transparent substrate and the light shielding films, an alignment pattern is formed on one light shielding film layer out of the two or more light shielding films, and exposed light is shielded by the alignment mark part. 透明基板および遮光膜からなるフォトマスクにおいて、少なくともアラメントマーク部が2層以上の異なる遮光膜から構成され、前記アライメントマーク部の2層以上の遮光膜の1層にアライメントパターンが形成されており、前記アライメントマーク部は露光光を遮光することを特徴とする。 - 特許庁
The method comprises a stage of radiating four laser light beams to a photosensitive synthetic resin to generate first laser light interference patterns perpendicular to each other and a stage of radiating four laser light beams to the photosensitive synthetic resin to generate second laser light interference pattern perpendicular to the first laser light interference patterns. 感光性合成樹脂に4本のレーザ光を照射して相互に垂直である第一のレーザ光干渉パターンを生成すること、及び感光性合成樹脂に4本のレーザ光を照射して第一のレーザ光干渉パターンに対して垂直な第二のレーザ光干渉パターンを生成することを含む。 - 特許庁
A pattern measuring apparatus 1 contains a base 30 for carrying a sample with multiple kinds of patterns formed thereon, a light irradiation means 10 for making a photoelectrical scanning over the sample by irradiating it with light and a reflected light detection means 50 for detecting reflected light to measure the patterns based on changes in the reflected light. 複数種類のパターンが形成された試料を載置する載置台30と、試料面上を光照射し光電的に走査する光照射手段10と、反射光を検出する反射光検出手段50と、を含み、反射光の変化に基づいてパターンを測定するパターン測定装置1である。 - 特許庁
When a first semiconductor light-emitting element 4a of a first light source unit 3 is lit, the emission light is reflected toward a projection lens 2 side by a first reflector 5, then a part of the reflected light is blocked by a shade 6, and a low-beam light distribution pattern PL is formed having a cut-off line CL at an upper end edge. 第1光源ユニット3の第1半導体発光素子4aを点灯すると、その出射光は第1リフレクタ5により投影レンズ2側に向けて反射され、その反射光の一部がシェード6により遮断されて、上端縁にカットオフラインCLを有するロービーム配光パターンPLが形成される。 - 特許庁
An auxiliary light projection part 302 includes a telephoto lens projection member projecting the auxiliary lightpattern for focusing on the object at a prescribed magnification and a wide-angle lens projection member projecting the auxiliary lightpattern for focusing on the object at a projection magnification higher than that of the telephoto lens projection member. 補助光投影部302は、所定の投影倍率で被写体に焦点検出用の補助光パターンを投影する望遠レンズ用投影部材と、望遠レンズ用投影部材よりも高い投影倍率で被写体に焦点検出用の補助光パターンを投影する広角レンズ用投影部材とを備える。 - 特許庁
The illuminator comprises a diffraction optical element forming a lightpattern having a desired illuminance distribution on a predetermined plane by using the luminous flux from a light source, and a focus optical system for projecting the lightpattern formed on the plane on a prescribed plane wherein the image formation optical system has a variable magnification. 照明装置において、光源からの光束を用いて所望の照度分布を持つ光パターンを予め決めた平面に形成する回折光学素子と、該平面に形成される前記光パターンを所定の平面に投影する結像光学系とを有し、該結像光学系は倍率が可変であることを特徴とするようにする。 - 特許庁
A residual image and a light leakage phenomenon occurring in the vicinity of an upper side horizontal edge of the transmissive window are removed by forming a second light shielding pattern floated from the source line and overlapping a partial region of a boundary region of the transmissive window equipped on a unit pixel with the second light shielding pattern. ソースラインからフローティングされた第2光遮断パターンを形成し、単位ピクセルに具備される透過窓の境界領域を第2光遮断パターンと一部領域を重ね合わせることで、透過窓の上側水平辺近傍で発生される残像や光漏洩現象を除去することができる。 - 特許庁
Input control information is converted into a predetermined pattern series and modulated to specific wavelength light with time series changes depending on the converted predetermined pattern series, the modulated specific wavelength light is radiated to an object, and the object irradiated with the specific wavelength light is shot at predetermined frame rates. 入力された制御情報を所定のパターン系列に変換し、変換された所定のパターン系列に従って時系列変化を伴った特定波長光に変調し、変調された特定波長光を目標物に照射し、特定波長光が照射された目標物を所定のフレームレートで撮影する。 - 特許庁
The photomask for proximity exposure has a pattern made of light shielding material formed on a light-transmissive substrate, wherein a coated film made of a photocatalyst which exhibits photocatalyst action by the exposure light or a coated film including the photocatalyst is formed on the surface on which the pattern is formed. 透光性基板上に遮光材料からなるパターンが形成された近接露光用フォトマスクであって、前記パターンが形成された面に、露光光により光触媒作用を発現する光触媒からなる被膜または前記光触媒を含む被膜が成膜されていることを特徴とする近接露光用フォトマスク。 - 特許庁
The drive circuit for driving the semiconductor light emitting element includes a substrate, a first pattern formed in a first layer of the substrate and electrically connected to the anode of the semiconductor light emitting element, and a second pattern formed in a second layer of the substrate and electrically connected to the cathode of the semiconductor light emitting element. 半導体発光素子を駆動するための駆動回路は、基板と、基板の第1の層に形成され、半導体発光素子のアノードに電気的に接続される第1のパターンと、基板の第2の層に形成され、半導体発光素子のカソードに電気的に接続される第2のパターンと、を備える。 - 特許庁
When a detection area of a preceding vehicle is equal to or larger than a predetermined range, a light distribution control apparatus selects a light distribution pattern corresponding to a distance to the preceding vehicle, synthesizes the selected light distribution pattern with detection data to produce a synthesized image, and uses the synthesized image to detect the preceding vehicle. 配光制御装置は、前方車両の検知領域が所定範囲以上である場合には、当該前方車両までの距離に応じた配光パターンを選択し、その選択した配光パターンを検知データと合成することで合成画像を生成し、その合成画像を用いて前方車両の検知処理を行う。 - 特許庁
To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a pattern form, line edge roughness, resist temporal stability, and dry etching resistance, especially in lithography using electron beam, X-ray, or EUV light as a source of exposure light; and also to provide a pattern forming method using the same. 特に露光光源として電子線、X線またはEUV光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネズ、レジスト経時安定性、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供。 - 特許庁
In a lamp unit 20 of a projector type to form an additional light distribution pattern, a vertical cut-off line is formed in the additional light distribution pattern by shielding a part of an irradiating light from three reflector units 40C, 40L, 40R horizontally arranged, by a shade 28 movable horizontally. 付加配光パターンを形成するためのプロジェクタ型の灯具ユニット20において、左右方向に移動可能なシェード28により、左右方向に配置された3つのリフレクタユニット40C、40L、40Rからの照射光の一部を遮蔽して、付加配光パターンに鉛直カットオフラインを形成する構成とする。 - 特許庁