「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 55 56 57 58 59 60 61 62 63 .... 141 142 次へ＞- The upper side reflection film has a light reflection region and a light transmitting region by fitting an opening pattern consisting of a plurality of transparent holes transmitting light on a reflection sheet with reflectance of 80% or more and transmittance of 18% or less.
上側反射膜は、反射率８０％以上、透過率１８％以下の反射シートに、光を透過する複数の透孔からなる開口パターンを設けることにより光反射領域と光透過領域とが形成されている。 - 特許庁 - In this embodiment, the transmitted light signal of the paper sheet, obtained by means of a light source and a signal obtaining part, is subjected to detection of a partial amount of transmitted light and a pattern difference so as to verify the paper sheet.
そこで、本実施の形態では、光源および信号取得部により得られる紙葉類の透過光信号に対して、部分的な透過光量、パターンの違いを検出することにより紙葉類の真偽判別を行なう。 - 特許庁 - An optical waveguide 120 is provided directly on a light emission surface 110A of a surface light emitting laser element 110, and the diameter of its core layer 121 is made to be equal to or smaller than a near-field pattern of the surface light emitting laser element 110.
面発光レーザ素子１１０の光出射面１１０Ａに直接、光導波路１２０を設けて、そのコア層１２１の径を、面発光レーザ素子１１０のニアフィールドパターンと同等またはニアフィールドパターンよりも小さくする。 - 特許庁 - To provide a lighting fixture for vehicle of projector type having a light-emitting element as a light source in which appearance of spectral colors due to chromatic aberration in the vicinity of the upper part of a cut-off line in a low-beam light distribution pattern is effectively suppressed.
発光素子を光源とするプロジェクタ型の車両用照明灯具において、ロービーム用配光パターンにおけるカットオフラインの上方近傍に、色収差による分光色が現れてしまうのを効果的に抑制する。 - 特許庁 - To provide a technology to irradiate an object with light of a desired pattern while highly efficiently using the light, and also, observe the dynamic change of the object caused by the irradiation with the light, with high time resolution.
高い光の利用効率で所望のパターンの光を対象物に照射し、且つ、光の照射に伴って生じる対象物の動的な変化を高い時間分解能で観測する技術を提供することを課題とする。 - 特許庁 - The light and shade pattern has an annular light part 14a capable of irradiating the fine flaw of the coating surface from the whole peripheral direction and the annular light part 14a is extended into a background-like shade part 16 in a reticulated state.
明暗パターンは、塗装面の微小欠陥を全周方向から照射可能な環状の明部１４ａを有し、環状の明部１４ａはバックグラウンド状の暗部１６内に網目状に延びている照射装置とした。 - 特許庁 - When the inside information concerning a slot machine control is notified to the player in a process of a game operation, making a light source conduct a specified light-emitting operation allows a light emitting pattern P with many kinds of color to be produced on a specified figure S5.
遊技動作の過程でスロットマシンの制御に関わる内部情報を遊技者へ告知するとき、光源に所定の発光動作を実行させることにより、特定の図柄Ｓ５上に多色の発光パターンＰを生じさせる。 - 特許庁 - A manufacturing method of a patterned retarder includes a light alignment stage to position, on an alignment layer, a polarization filter 20 with light shielding parts 21 and wire grid pattern parts 22 repeatedly formed and to apply light from above the polarization filter 20 for alignment.
配向膜の上部に光遮断部２１とワイヤーグリッドパターン部２２が繰り返し形成された偏光フィルター２０を位置させ、偏光フィルター２０の上部から光を照射して配向させる光配向段階を含む。 - 特許庁 - The filter includes a base part, and an external light shielding sheet including a plurality of pattern parts formed at spaces on the base part to absorb external light, wherein the base part contains dye or pigment absorbing light of a specified wavelength region.
フィルタは、ベース部と、ベース部に互いに離隔するように形成されて、外光を吸収する複数のパターン部を含む外光遮断シートと、を備え、ベース部は、特定波長領域の光を吸収する染料又は顔料を含む。 - 特許庁 - An exposure mask film 1 having a light condensing film 3 and a mask film 4 having a mask pattern below a light diffusing layer 2 is used to irradiate and expose a photosensitive material 6 formed on a substrate with UV light through the mask.
光拡散層２の下方に集光フィルム３とマスクパターンを有するマスクフィルム４を備えた露光用マスクフィルム１を用い、それを介して基板上に形成された感光材６に紫外光を照射して露光する。 - 特許庁 - Drive current of the actuator 4 for scanning is controlled by a control unit 6, the rotary body 9 is reciprocated at high speed, the light from the light source 11 is scanned at the front of the vehicle, and the light-distributing pattern where a part is relatively bright is formed.
制御ユニット６により走査用アクチュエータ４の駆動電流を制御し、回動体９を高速で往復回動し、光源１１からの光を車両前方でスキャンし、一部が相対的に明るい配光パターンを形成する。 - 特許庁 - An end part of a light shielding zone on a photomask is placed in a seam part; and the distance 27R from the end part of the light shielding zone to an end of a mask pattern is equal to or larger than a value determined by adding the sum of absolute positional shifts of the respective photomasks and an absolute value of the diffracted light width.
フォトマスク上の遮光帯の端部は継ぎ部に位置し、遮光帯の端部からマスクパターンの端までの間隔２７Ｒは、各フォトマスク位置ズレの絶対値の和に、回折光幅の絶対値を加算した値以上。 - 特許庁 - A wave pattern of near-infrared light emitted from an outgoing end of the light guide 12 is converted into terahertz light with a predetermined angle of luminous intensity distribution by the use of a silicon lens 14 and an optical conduction element 15, and then is irradiated into an inner wall surface S of the body organ.
ライトガイド１２の出射端から出射する近赤外線の波形をシリコンレンズ１４と光伝導素子１５により所定の配光角を呈するテラヘルツ光とし、体内器官の内壁面Ｓに照射する。 - 特許庁 - This detecting light is projected by using the same lens 1004 as pattern writing light but since the detecting light is to be used just for a little parts of the exposed field of this lens, writing is not affected and an aberration can be easily corrected as well.
この検出光は、パターン書込み光と同じレンズ１００４を使って投影するが、検出光はこのレンズの露出フィールドのわずかな部分しか使わないので書込みに影響なく、収差補正も容易である。 - 特許庁 - The light-transmitting and reflecting layer, wherein a pattern for controlling transmittance on the basis of an area ratio between the light-transmitting region and the light-reflecting region is applied, has a first luminance uniformity section, and a second luminance section which has luminance different from that of the first luminance uniformity section.
透過反射層は、光透過領域と光反射領域との面積比により透過率を制御するパターンが施され、第１輝度均一部と、この第１輝度均一部と輝度の異なる第２輝度部と、を有している。 - 特許庁 - This game machine has a multicolored-emission light source 19 illuminating a pattern display part 20 installed on the front surface of the machine and allows the light source 19 to emit light taking on a color corresponding to each game operation when the player conducts graded game operations.
機械の前面に設けられた図柄表示部２０を照らす多色発光の光源１９を有し、遊技者による段階的な遊技操作があったとき、各遊技操作に対応付けられた色彩で光源１９を発光させる。 - 特許庁 - On an optical information recording medium, information is recorded by an interference pattern due to an interference between information light carrying the information and a reference light for recording, in which a phase of the light is spatially modulated by a phase space modulator.
光情報記録媒体には、情報を担持した情報光と、位相空間変調器によって光の位相が空間的に変調された記録用参照光との干渉による干渉パターンによって情報が記録される。 - 特許庁 - During the high beam irradiation, a part of the light from the reflector R1 which is irradiated to the lower half of the low beam light distribution pattern during the low beam irradiation is reflected by a reflecting plate E2 to irradiate the light to the upper side above a horizontal line.
ハイビーム照射時には、ロービーム照射時にロービーム用配光パターンの下側半分に照射されるリフレクタＲ１からの光の一部を、反射板Ｅ２によって反射し、水平線よりも上側に照射する。 - 特許庁 - An evaluation point P is determined on each partial curved plane S and the distribution pattern of light is calculated and displayed for each curved plane S based on the reflection conditions of the light from the light source position F for each evaluation point P.
そして、部分曲面Ｓ上に評価点Ｐを設定するとともに、評価点Ｐそれぞれでの光源位置Ｆからの光の反射条件に基づいて、部分曲面Ｓごとに配光パターンを算出して表示する。 - 特許庁 - In the formation process of the conductor layers 19, 22, 33, alignment marks 41, 42 are formed, which comprise a first light reflection section 43 and a second light reflection section 45 for surrounding the first light reflection section 43 while being separated by a removing pattern 44.
導体層１９，２２，３３の形成工程では、第１光反射部４３と抜きパターン４４を隔ててその第１光反射部４３を包囲する第２光反射部４５とからなる位置合わせマーク４１，４２を形成する。 - 特許庁 - To provide a safe lamp for a vehicle having excellent visibility in the far distance by arranging a high-luminance light source near a cut-off part of the lamp for a vehicle using a LED light source which forms a light distribution pattern for a low beam.
すれ違いビーム用の配光パターンを形成するＬＥＤ光源を用いた車両用灯具のカットオフ近傍に輝度が高い光源を配置し、遠方視認性の高い安全な車両用灯具を提供すること。 - 特許庁 - When a light source 101 irradiates a light beam toward a cone mirror 102, light is reflected in a radial pattern in the direction of an angle of 90° by a reflecting part of a conical surface 104, including at least a top part 103 of the cone mirror 102.
光源１０１からコーンミラー１０２に向けて光ビームが照射されると、前記光はコーンミラー１０２の少なくとも頂部１０３を含む円錐面１０４の反射部によって９０度方向に放射状に反射される。 - 特許庁 - A marker light irradiation part 16 irradiates a reading object with marker light M consisting of four L-shaped patterns M1 corresponding to four corner parts of the imaging visual field of a light receiving sensor and a cross-shaped pattern M2 indicating its center part.
マーカ光照射部１６は、受光センサの撮像視野の４つのコーナー部に対応した４個のＬ字状のパターンＭ１と、その中心部を示す十字状のパターンＭ２とからなるマーカ光Ｍを読取対象に対して照射する。 - 特許庁 - The light transmission area comprises a part that is formed with a microstructure formed by repetition of a rugged pattern having such a dimension as causing incident light to diffract and openings having such a dimension as not causing the incident light to diffract.
光透過領域は、入射光が回折を生じる大きさの凹凸パターンの繰返しからなる微細構造が形成された部分と入射光が回折を生じない大きさの開口部とから構成されたものを含む。 - 特許庁 - Hereby, during a lighting time of the light source 4, not only the boss surface is made to shine by shining light on the boss surface but also a radial light linear pattern is shown on the boss 3 surface, to thereby emphasize the boss 3.
これにより、光源４の点灯時では、単にボス表面に光をあててボス表面を光らせるだけでなく、ボス３の表面に、放射線状の光の線模様を表すことができ、ボス３を強調することができる。 - 特許庁 - For modulating an interference pattern obtained by giving variation to the light path length difference of two light fluxes in an interference optical system 5, AOM 54 and 55 are arranged on the two split light paths, and EOM 56 is arranged on one.
干渉光学系５において二つの光束の光路長差に変化を与えて得られる干渉縞を変調するために、分割された二つの光路上にＡＯＭ５４，５５を配置し、一方にはＥＯＭ５６を配置する。 - 特許庁 - When the prescribed voltage is applied to transparent electrodes 15a, 15b, a diffraction pattern causing the prescribed diffracted light for a light beam for a DVD and a light beam for a CD is formed in the transparent electrode 15a.
透明電極１５ａには、透明電極１５ａ、１５ｂに所定の電圧を印加した場合に、ＤＶＤ用の光ビームとＣＤ用の光ビームとに対して所定の回折光を生じる回折パターンが形成されている。 - 特許庁 - To provide a pattern drawing apparatus which uses a lamp as a light source and a micro-mirror device, in which it is not necessary to make ultraviolet light incident from an oblique side to the micro-mirror device, and in which an optical path of reflected ultraviolet light is not disturbed.
光源としてのランプとマイクロミラーデバイスを用いたパターン描画装置で、マイクロミラーデバイスに対して紫外光を斜めから入射させる必要がなくかつ反射した紫外光の光路を邪魔しない装置を提供する。 - 特許庁 - Particularly in a low resolution, a compound light quantity at two or more light emitting points is used to draw the dot pattern, reducing the light quantity distribution difference and obtaining a stable image quality irrespective of the high or low degree of resolution.
特に、低解像度において、２以上の発光点の合成光量でドットパターンを描画するようにしたため、光量分布差を軽減することができ、高解像度、低解像度に関わらず、安定した画質を得ることができる。 - 特許庁 - To provide a vehicular lighting fixture capable of improving the heat dissipation performance of a semiconductor light-emitting element and attaining the high accuracy of each light-distributing pattern by preventing mutual interference between and among a plurality of light-distributing patterns prepared on a reflector.
半導体発光素子の放熱性を向上させ、更に、リフレクタに装備した複数の配光パターン相互の干渉を防止して、各配光パターンを高精度化することができる車両用灯具を提供すること。 - 特許庁 - To provide a vehicular lamp that can attain a designated light distribution pattern by making an optical axis of a light source and an optical axis of a lamp coincide with each other when the light source of the vehicular lamp is arranged by making it incline to an optical axis of a vehicle.
車両用灯具の光源が車両光軸に対して傾斜させて設置する場合においても、光源の光軸と灯具の光軸を一致させ、所定の配光パターンが得られる車両用灯具を提供する。 - 特許庁 - The two-dimensional grating pattern is formed of a number of projections such as polyhedrons, semi-spherical ones or circular ones, and has a period shorter than the half-wave length of light, whereby reflection of light is decreased and the light emission efficiency of the display is increased.
２次元グレーティングパターンは多数個の突起物、例えば多面体、半球形、円形などから形成され、光の半波長より短い周期を有し、光の反射を減少させ、ディスプレイの発光効率を増加させる。 - 特許庁 - In the double sensing light source-loaded electrooptical mouse, manual and automatic changeover modes are provided, the necessary light source is made to be selected by a user end, and the necessary light source is changed over on the basis of a track pattern by sensing by the automatic changeover mode.
また、本発明が人工と自動切替えモードを提供し、ユーザー端で必要とする光源を選択させる一方、自動切替えモードにより、感知による軌道パターンに基づいて必要とする光源を切替える。 - 特許庁 - The reflection light from the object surface dispersively illuminated by the diffraction pattern is projected together with the dispersed light to be generated by way of the objective lens 5, the beam splitter 4, a cylindrical lens 9, and a focusing lens 7 to the light reception part 8.
この回析パターンによって分散照明された物体表面からの反射光を、発生するであろう散乱光と共に対物レンズ５、ビームスプリッタ４、シリンドリカルレンズ９、結像レンズ７を経て受光部８に投影する。 - 特許庁 - The photomask includes: a pattern of a light transmission part 31 formed on an irradiation surface side of a transparent substrate; inclined planes 21 and 22 formed on a part in an emission surface side of the transparent substrate corresponding to the pattern; and further a gray scale film formed on the light transmission part.
透明基板の照射面側に、光透過部３１のパターンが形成され、透明基板の出射面側の、パターンに対応した部位に斜面２１、２２が形成され、あるいは、さらに光透過部に、グレースケール膜が形成されていることを特徴とするフォトマスク。 - 特許庁 - In the correction method of a photomask, a light shielding part and a light transmitting part are formed on one side surface of the substrate with the prescribed pattern and, further, the defect on the surface of the opposite side to the surface on which the pattern is formed is filled with transparent resin.
基板の片面に、遮光部と透光部が所定のパターンで形成されたフォトマスクの修正方法であって、パターンが形成された面の反対側の面上の欠点を透明樹脂で充填することを特徴とするフォトマスクの修正方法。 - 特許庁 - In addition, the objective lens has at least a diffraction pattern at least on one surface, and, when the light fluxes from the light sources having the different wavelengths are converged on an information recording surface, the first order diffracted ray from the diffraction pattern is used in reproduction of a plurality of recording media together.
また、対物レンズは少なくとも１つの面に回折パターンを有し、異なる波長の光源からの光束を情報記録面に集光させるとき、複数の記録媒体の再生において、共に前記回折パターンからの１次回折光を用いる。 - 特許庁 - In the inspection part 1, the TAB tape 5 is irradiated with an illumination light from a transmission illumination means 1a, the light transmitted through the pattern of an inspection object in the TAB tape 5 is input into an image receiving means 1b, and the pattern formed in the TAB tape 5 is image-picked up.
検査部１では、ＴＡＢテープ５に透過照明手段１ａから照明光が照射され、ＴＡＢテープ５の検査対象となるパターンを透過した光が受像手段１ｂに入力され、ＴＡＢテープ５に形成されているパターンが撮像される。 - 特許庁 - In a correction data generating unit 200, a gradient component of the print pattern is corrected according to the positional information, and a dot position of the print pattern is identified according to the density information, so that the amount of light of each light-emitting element at the exposure of the recording head can be corrected.
そして補正データ生成装置２００では、位置情報に基づいて印字パターンの傾き成分を補正すると共に、濃度情報に基づいて印字パターンのドット位置を特定して記録ヘッドの露光時における各発光素子の光量を補正する。 - 特許庁 - An SMD semiconductor light-receiving device 10 is equipped with a substantially cubical phototransistor 12 as a semiconductor light-receiving element die-bonded on the wiring pattern on the PCB 11, and the electrode of the phototransistor 12 is wire-bonded to the wiring pattern with a wire 13.
ＳＭＤ型半導体受光装置１０は、ＰＣＢ１１上の配線パターンに略立方体形状の半導体受光素子であるフォトトランジスタ１２がダイボンディングされ、ワイヤ１３でフォトトランジスタ１２の電極と配線パターンとをワイヤボンディングされている。 - 特許庁 - Since an irradiation object of inspection light is formed as the inspection pattern having a larger area than the diffraction pattern, the irradiation object can be aimed surely, even if the diameter of inspection light irradiated from an irradiation part is large, to thereby execute an inspection work easily.
照射部から照射される検査光の直径が大きくても、検査光の照射対象を面積が回折パターンより大きい検査用パターンとしたことで、確実に照射対象を狙うことができ、検査作業を容易に実施することができる。 - 特許庁 - In addition, the objective lens has at least a diffraction pattern at least on one surface, and, when the light fluxes from the light sources having different wavelengths are converged on an information recording surface, the first-order diffracted ray from the diffraction pattern is used in reproduction of a plurality of recording mediums together.
また、対物レンズは少なくとも１つの面に回折パターンを有し、異なる波長の光源からの光束を情報記録面に集光させるとき、複数の記録媒体の再生において、共に前記回折パターンからの１次回折光を用いる。 - 特許庁 - As a semiconductor light emitting element electrically connected to a wiring pattern extended at a remote place in the direction separated from the mounting surface side among parts exposed from a sealing resin part of the wiring pattern, the one with electrostatic voltage resistance higher than those of other semiconductor light emitting elements is selected.
配線パターンの封止樹脂部から露出した部分のうち、実装面側から離れる方向に遠い位置に延設された配線パターンに電気的に接続された半導体発光素子は、他の半導体発光素子より静電耐圧の高いものが選択される。 - 特許庁 - With this constitution, in low-beam irradiation, the region near the cutoff line of the low-beam light distribution pattern in the on-coming vehicle lane side is not illuminated unnecessarily brightly, while sufficiently securing the luminous intensity in the above-mentioned region in the hot zone in high-beam light distribution pattern.
これにより、ロービーム照射時には、ロービーム配光パターンの対向車線側におけるカットオフライン近傍の領域が必要以上に明るくならないようにした上で、ハイビーム配光パターンのホットゾーンにおける上記領域の部分の光度を十分に確保する。 - 特許庁 - To provide an exposure mask for improving the contrast in a light intensity distribution produced in the surface layer of a photocatalyst layer and improving the light intensity applied to the photocatalyst layer, and to provide a pattern forming device and a pattern forming method using the exposure mask.
光触媒層表層に生じる光強度分布のコントラストを向上させることができ、また光触媒層へ与える光強度を向上させることができる露光用マスク、該露光用マスクを用いたパターン形成装置及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain a process for producing a semiconductor product in which pattern dimensions are brought close to the target dimensions when a resist pattern is formed by a double exposure method, and light exposure is corrected individually for two sheets of masks by correcting the light exposure while relating respective correction quantities with each other.
半導体製品の製造方法に関し、二重露光法でレジスト・パターンを形成する場合、２枚のマスクに対する露光量を別個に補正する際、それぞれの露光量に於ける補正量を関連させて補正し、パターン寸法を目標に近付ける。 - 特許庁 - The photomask includes: a pattern of a light transmission part 31 formed on an emission surface side of a transparent substrate; inclined planes 21 and 22 formed on the transparent substrate part corresponding to the pattern on an irradiation surface; and further a gray scale film formed on the light transmission part.
透明基板の出射面側に、光透過部３１のパターンが形成され、照射面の前記パターンに対応した透明基板部位に斜面２１、２２が形成され、あるいは、さらに光透過部に、グレースケール膜が形成されていることを特徴とするフォトマスク。 - 特許庁 - In a pattern drawing device 1, the pixel pattern of a liquid crystal display device is drawn in a drawing region by relatively moving an irradiation region by light from a first light irradiation unit 4 with respect to a substrate 9 having a negative photosensitive material formed on the main surface.
パターン描画装置１では、ネガ型の感光材料が主面上に形成された基板９に対して、第１光照射部４からの光の照射領域を相対移動することにより、描画領域に液晶表示装置の画素パターンが描画される。 - 特許庁 - The projector unit 30 is constituted such that the pin hole plate 32 provided with a pin hole 32a for focusing the optical image of the color pattern chart 34 is oppositely arranged on the light reception surface 5 of the imaging device with a prescribed distance to the light dispersion plate 31 provided with the color pattern chart 34.
カラーパターンチャート３４を有する光拡散板３１に、所定距離をおいて撮像素子の受光面５にカラーパターンチャート３４の光学像を結像させる孔３２ａを有するピンホール板３２を対向配置させて、投影ユニット３０を構成した。 - 特許庁 - Also, the objective lens is provided with a diffracted pattern on at least one surface, when luminous fluxes from the light sources of different wavelengths are condensed on an information recording surface, the 1st order diffracted light from the diffracted pattern is used in reproducing a plurality of recording media.
また、対物レンズは少なくとも１つの面に回折パターンを有し、異なる波長の光源からの光束を情報記録面に集光させるとき、複数の記録媒体の再生において、共に前記回折パターンからの１次回折光を用いる。 - 特許庁
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