「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 57 58 59 60 61 62 63 64 65 .... 141 142 次へ＞- To provide a pattern drawing device and a pattern drawing method for providing high drawing qualities while preventing fluctuation in air on the optical path of an optical system in a light irradiation part.
光照射部において光学系の光路上に空気の揺らぎが発生することを防止し、高い描画品質を得ることができるパターン描画装置およびパターン描画方法を提供する。 - 特許庁 - The signal pattern is analyzed to investigate the presence of the detection of the signal pattern when the flashing phenomenon is generated by deposit of a raindrop on the detection face when incidence of light of high intensity from the outside exists.
信号パターンを解析して外界から強い光の入射があり検知面上の雨滴付着によるフラッシング現象が発生している場合の信号パターンの検出の有無を調べる。 - 特許庁 - After the wiring pattern comprising light-shielding data is arranged in a second chip- forming region comprising transmissive data, the wiring pattern in enlarged, in both X and Y-directions, by at least the corresponding minimum space of a design rule.
透光データからなる第２のチップ形成領域に、遮光データからなる配線パターンを配置した後、配線パターンを、Ｘ方向とＹ方向ともにデザインルールの最小スペース分以上拡大する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming composition comprising a metal fine particle dispersion, which has a simple composition and for which any of conventional light sources can be used, and a pattern forming method.
簡単な組成で、しかも従来から慣用の光源のいずれも使用することができる、金属微粒子分散液からなるパターン形成用組成物、及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - When the special performance pattern is selected, a performance display control means displays the performance content on the performance display device by the infrared light according to the selected special performance pattern.
演出表示制御手段は、特殊演出パターンが選択された場合、選択された特殊演出パターンにしたがって、赤外線により演出内容を演出表示装置に表示させる。 - 特許庁 - To provide a method and a device for measuring a pattern dimension capable of suitably determining an edge based on a line profile even if contrast of the edge is light, and carrying out measurement of a length of a pattern.
エッジ部分のコントラストが希薄であってもラインプロファイルに基づくエッジを適切に判定し、パターンの測長を実行することのできるパターン寸法測定方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - An optical system, having illumination optical systems 103-108 for radiating an illumination light on a phase pattern WM and image forming optical systems 107-115 for forming image of the phase pattern is inspected.
位相パターン（ＷＭ）に照明光を照射するための照明光学系（１０３〜１０８）と位相パターンの像を結像させるための結像光学系（１０７〜１１５）とを有する光学系を検査する。 - 特許庁 - To provide a pattern-forming method for improving a shape control of a pattern by improving matching precision of a landing position with a droplet and an irradiation position with laser light, and to provide a droplet discharge unit.
液滴の着弾位置とレーザ光の照射位置の整合精度を向上させて、パターンの形状制御性を向上させたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method capable of plotting a photosensitive material for an ultraviolet ray in a pattern with high throughput by a mask-less direct plotting exposure device having an irradiating light source being an h-line in a main wavelength.
主波長がｈ線である照射光源を持つマスクレス直接描画露光装置で紫外線用の感光性材料を高スループットにパターン描画可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The light scattering layer has a rugged pattern, notches or slits formed therein, the direction of the rugged pattern, notches or slits is specified in a direction intersecting the stretching direction of the substrate when the substrate is manufactured.
また光散乱層に凸凹もしくは切り欠きもしくはスリットを設け、基板製造時に基板を引き延ばす方向を横切る方向に該凸凹もしくは切り欠きもしくはスリットの方向を設定した。 - 特許庁 - To form a finer pattern by appropriately adhering and fixing the dot pattern of an injection solution at a desired location on a substrate, when forming an organic EL light-emitting element by utilizing an ink jet injection principle.
インクジェット噴射原理を利用して有機ＥＬ発光素子を形成する際に、噴射溶液のドットパターンを基板上の所望の場所に正しく付着／定着させ、より高精細なパターンを形成する。 - 特許庁 - A reticle pattern RP is projected on a sensor pattern SP through a projection optical system 1 by illumination light IL from an optical source 2 to form a projection image.
光源２からの照明光ＩＬによってレチクルパターンＲＰが投影光学系１を介してセンサパターンＳＰ上に投影された投影像の光量を、照明条件毎の焦点位置を計測する。 - 特許庁 - To achieve practical application of a pattern transfer process by using a gray-tone mask having a gray-tone part which is constituted by a micro- light-shielding pattern lower than a limit of resolution of an exposing equipment that uses the gray-tone mask.
グレートーンマスクを使用する露光機の解像限界以下の微細遮光パターンで構成されるグレートーン部を有するグレートーンマスクを用いたパターン転写プロセスの実用化を目的とする。 - 特許庁 - In at least part of a plurality of wiring pattern bodies LP1, a slit S is formed, which is capable of transmitting light and sets the variation in the resistance value between each wiring pattern body LP1 into a predetermined range.
複数の配線パターン本体LP1の少なくとも一部に、光を透過可能であるとともに各配線パターン本体LP1間の抵抗値のばらつきを所定の範囲内に設定するスリットＳを形成する。 - 特許庁 - To provide a periodicity pattern-inspecting apparatus and a periodicity pattern-inspecting method for accurately measuring an opening area even if the luminance distribution of a light source and the sensitivity distribution of a camera exist in an imaging system.
撮像系において光源の輝度分布やカメラの感度分布が存在する場合であっても、開口面積を正確に計測することができる周期性パターン検査装置と方法とを提供する。 - 特許庁 - This method for forming a polymer pattern comprises selectively irradiating the pattern formation-predetermined regions 57 of a substrate 51 containing a radical-polymerizable monomer 53 and a free radical-generating agent 53 with light.
ラジカル重合性モノマー５３およびラジカル発生剤５５を含む基材５１の、高分子パターン形成予定領域５７に光を選択的に照射することにより、この領域５７にラジカルを発生させる。 - 特許庁 - The non-electroconductive material having the formed electroconductive pattern can be manufactured by means of irradiating the non-electroconductive material to be electroless plated with the laser light according to a desired pattern.
被無電解メッキ用材料として非導電性材料に所望のパターンに応じてレーザー光を照射することにより、導電性パターンが形成された非導電性材料を製造することができる。 - 特許庁 - To provide a fluorescent lamp in which a pattern portion can be formed easily and a different color illumination light can be irradiated from the bulb portion other than the pattern portion, and to provide a lighting fixture.
バルブに模様部分を容易に形成することができ、模様部分以外のバルブ部分から異なる光色の照明光を放射することのできる蛍光ランプおよび照明器具を提供する。 - 特許庁 - To obtain a resist pattern scaledown material capable of forming a resist pattern which is finer than the limit determined by the wavelength of light for exposure, a method for producing a semiconductor device using the material and a semiconductor device produced by the method.
露光波長限界を超えるレジストパターン形成を可能とするレジストパターン微細化材料と、この材料用いた半導体装置製造方法と、この方法を用いた半導体装置を得る。 - 特許庁 - Weighted function wf(t), wp(t) concerning the pattern of prediction attenuation and the pattern of present attenuation factor are found based on the dazzling light generating time obtained by prediction part of the future brightness.
また、将来明度予測部２１によって得られた眩光発生時刻に基づいて、予測減衰率パターンと現行減衰率パターンにかかる重み付関数ｗｆ(ｔ)，ｗｐ(ｔ)で求める。 - 特許庁 - In a focal position confirming chart for confirming the focal position, a reference pattern part (11) having difference of light and dark, and a scale (12) arranged vicinity of the reference pattern part (11) are provided on the same surface (10).
ピント位置を確認するためのピント位置確認チャートにおいて、明暗差を有する基準パターン部（１１）と、基準パターン部（１１）の近傍に配置された目盛（１２）とを同一面（１０）上に備えている。 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern by using proximity exposure which enables formation of high-density exposure pattern arranged two-dimensionally by proximity exposure using non-resonant light.
非共鳴光を用いた近接場露光によって、２次元的に配列された高密度な露光パターンを形成することが可能となる近接場露光によるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - The control part relatively scans the measuring object and the pattern in a predetermined direction, and acquires a plurality of images with different scanning positions of the pattern light, while changing parameters.
制御部は、測定対象物とパターン光とを所定方向に相対的に走査させるとともに、パターン光の走査位置がそれぞれ相違する複数の画像を上記のパラメータを変化させながら取得する。 - 特許庁 - Even if the length of the wiring pattern body LP1 differs from the other, it is possible to suppress the variation in the resistance value resulting in the difference in the length of the wiring pattern body LP1 by utilizing the slit S capable of transmitting light.
配線パターン本体LP1の長さが異なる場合でも、光を透過可能なスリットＳを利用して配線パターン本体LP1の長さが異なることに起因する抵抗値のばらつきを抑制できる。 - 特許庁 - To provide a photochromic display element which is simple in structure of a display medium, is a energy-saving type, and can freely change the display owing to an internal light emitting pattern without using a pattern mask at the time of displaying.
表示媒体の構成が単純で省エネルギー型であり、且つ、表示の際には、パターンマスクを使用せずに内部発光パターンにより表示を自由に変更できるフォトクロミック表示素子を提供する。 - 特許庁 - A pattern is formed on a substrate 51 such as a glass that corresponds protruding parts of a protruding/recessed pattern of the phase lattice, by etching, for removing, a first light reflection film 55 with a photoresist 59 as a mask.
フォトレジスト５９をマスクとして第１光反射膜５５をエッチング除去することにより、ガラスなどの基板５１上に位相格子の凹凸パターンの凸部と対応するパターンを形成する。 - 特許庁 - To improve, when a pattern is drawn on a substrate by scanning the substrate with plural light beams from plural light beam irradiation devices, the drawing quality by correcting variation in intensity distribution of diffraction light of the light beams due to variation in operation angle of a mirror of a spatial optical modulator.
複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する際、空間的光変調器のミラーの動作角度のばらつきによる光ビームの回折光の強度分布のばらつきを補正して、描画品質を向上させる。 - 特許庁 - Reflected light or transmitted light of about 700-600 lx is applied to the chloride film (comprising vinylidene chloride or vinyl chloride) on a light receiving CCD, to discriminate the chloride film from the relation between the relative brightness of the film to blue light and the number of pixels by a neutral network or pattern matching.
塩化物フイルム（塩化ビニリデン、塩化ビニール）に受光ＣＣＤ上で７００ｌｘ〜６００ｌｘ程度の反射光または透過光を当て、青色光に対する当該フイルムの相対輝度と画素数の関係からニューラル・ネットワークまたはパターン・マッチングにより識別する。 - 特許庁 - The problems are resolved by a light emitting layer laminating process laminating a light emitting layer 4A like a buffer layer 2A or an organic fluorescent body layer 3A on a substrate 1 through an electrode, and a dry etching process obtaining a light emitting layer 4A' in a pattern shape by dry-etching the light emitting layer 4A through a mask 5A.
基板１上に電極等を介し、バッファー層２Ａ、有機蛍光体層３Ａ等の発光層４Ａを積層する発光層積層工程、発光層４Ａをマスク５Ａを介しドライエッチングしてパターン状の発光層４Ａ’を得るドライエッチング工程とにより、課題を解決することができた。 - 特許庁 - Each of the calling lamps 8 and the representative lamps 4, 6 comprises a light source, a memory for storing therein a plurality of light source control patterns, a control circuit for controlling the light source from the control patterns stored in the memory, an infrared communication means for receiving infrared communication, and a remote control for transmitting a selecting signal of the light source control pattern by the infrared communication.
各呼出ランプ８と代表ランプ４，６は、光源と、光源の制御パターンを複数記憶するメモリと、メモリに記憶された制御パターンに基づいて光源を制御する制御回路と、赤外線通信を受信可能な赤外線通信手段とを備える。 - 特許庁 - Thus, the focusing points of the return light passed through the objective lens 117 for the BD and of the return light passed through the objective lens 118 for the HD/DVD/CD are separated for optical detection, and one of the return light does not enter the sensor pattern receiving the other return light.
これにより、光検出上では、ＢＤ用対物レンズ１１７を経由した反射光とＨＤ/ＤＶＤ/ＣＤ用対物レンズ１１８を経由した反射光の収束位置が分離され、一方の反射光が他方の反射光を受光するセンサーパターンに入射することはない。 - 特許庁 - Thus, the focusing points of the return light passed through the objective lens 116 for the BD and of the return light passed through the objective lens 117 for the HD/DVD/CD are separated for optical detection, and one of the return light does not enter the sensor pattern receiving the other return light.
これにより、光検出上では、ＢＤ用対物レンズ１１６を経由した反射光とＨＤ/ＤＶＤ/ＣＤ用対物レンズ１１７を経由した反射光の収束位置が分離され、一方の反射光が他方の反射光を受光するセンサーパターンに入射することはない。 - 特許庁 - The fish-gathering apparatus 1 includes a mounting board 3, a plurality of light emitting elements 4 mounted on the mounting board 3, a power supply part 5 for distributing power to the plurality of light emitting elements 4, and a control part 6 for controlling the light emitting pattern of the plurality of light emitting elements 4.
本発明の集魚装置１は、実装基板３と、実装基板３に実装される複数の発光素子４と、複数の発光素子４に電力を供給する電力供給部５と、複数の発光素子４の発光パターンを制御する制御部６と、を備える。 - 特許庁 - The optical control laminate 1 for controlling the light emitted from a light source includes: a substrate 2 arranged to be opposed to the light source; a film 4 which includes the same resin as that of the substrate 2 and is layered on the substrate 2; and a selective light-shielding pattern 3 arranged between the substrate 2 and the film 4.
光源から出射した光を制御する光制御積層体１であって、光源に対向配置される基体２と前記基体２と同系の樹脂からなり、前記基体２に積層されるフィルム４とを備え、前記基体２と前記フィルム４の間には選択遮光性パターン３を有する。 - 特許庁 - To provide a reflective mask for EUV exposure, which has a light shielding band superior in cleaning resistance, by improving light shielding performance at an overlapping portion of fields of a transfer pattern in EUV exposure to suppress leakage of exposure light, resulting in reduced effect of shadowing of exposure light, and to provide a method of manufacturing the same.
ＥＵＶ露光における転写パターンのフィールドの重なり部分の遮光性を高めて露光光の漏れを抑制し、露光光のシャドーイングの影響を低減し、かつ耐洗浄性に優れた遮光帯を有するＥＵＶ露光用の反射型マスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The control device 4 changes at least one of a light emitting color and a light emitting pattern of at least one of the car side light emitting device 23 and the landing hall side light emitting device 33 in response to whether a floor is an object story or a landing hall call story when the car 2 lands on the floor.
制御装置４は、乗籠２が着床する場合にそれが目的階であるか乗場呼び階であるかに応じて籠側発光装置２３および乗場側発光装置３３の少なくとも一方の発光色および発光パターンの少なくとも一方を変化させる。 - 特許庁 - The illumination means has a light guide plate 6 constituted of a transparent material, and an LED 7, arranged on the end face of the light guide plate; and on the surface of the light guide plate, a plurality of minute prisms are arrayed, and the ridgelines of the minute prisms form a continuous surface wherein arcs curved concavely toward the light source are arrayed in a concentric pattern, or arrayed with a certain regularity.
導光板の表面には複数の微小プリズムが配列形成されており、該微小プリズムの稜線は、光源に向かって凹状に湾曲する円弧が同心円状に配列、または一定の規則性を持って配列する連続面となっていることを特徴とする。 - 特許庁 - Regardless of a change in sectional shape of the information reproducing light and the reference reproducing light, the pattern region S1 and the non-light shielding area S2 are set according to the sectional shapes, thereby allowing the reproduction photodetector 46 to receive one of the light beams while blocking the other.
情報再生光と参照再生光の断面形状がどのように変化しても、その断面形状に応じてパターン対応領域Ｓ１および非遮光対応領域Ｓ２を設定することで、一方の光を再生用フォトディテクタ４６に受光させ、他方の光を遮光することができる。 - 特許庁 - The electronic shield is constructed so as to form a different shielding pattern and to shield the light emitted from the semiconductor light-emitting source and the light reflected by the reflector, and has a main front face to face the semiconductor light-emitting source and the reflection surface of the reflector.
電子的な遮蔽は、異なる遮蔽パターンを作り出し、半導体発光源により放射された光及び反射器により反射された光を遮蔽するように構成されていて、半導体発光源及び反射器の反射面と向かい合う主表面を有している。 - 特許庁 - The photo mask 5 for phase shift focus monitor has first and second light transmission parts 5c and 5d adjacent to each other across a light shielding pattern 5b between them and is so constituted that a phase difference other than 180° may be given for respective exposure light transmitted through the first and second light transmission parts 5c and 5d.
この位相シフトフォーカスモニタ用フォトマスク５は、遮光パターン５ｂを挟んで隣り合う第１および第２の光透過部５ｃ、５ｄを有し、かつ第１および第２の光透過部５ｃ、５ｄを透過した各露光光に１８０°以外の位相差が生じるように構成されている。 - 特許庁 - The light guide film (LGF) 4, guiding light from an LED (light source) 2 into inside through a photo acceptance face 4a at a side end, a folded pattern 4A repeated over a height range of a light-emitting face of the LED 2 is formed at a part including at least the photo acceptance face 4a.
ＬＥＤ（光源）２からの光を側端の受光面４ａから内部に導入する薄型導光シート（ＬＧＦ）４において、少なくとも前記受光面４ａを含む一部に、前記ＬＥＤ２の発光面の高さ範囲に亘って繰り返される折り返しパターン４Ａを形成する。 - 特許庁 - To provide a lamp unit of a vehicle headlight of projection type having a plurality of light source units, in which light distribution pattern formed by light from each light source unit is made to have a clear outline and a nearly uniform brightness or a specific intensity distribution.
複数の光源ユニットを備えたプロジェクタ型の車両用前照灯の灯具ユニットにおいて、その各光源ユニットからの光によって形成される配光パターンを、明瞭な輪郭を有するとともに略均一な明るさあるいは特定の光度分布を有するものとする。 - 特許庁 - As a result, only one focusing lamp unit 1 is used for forming the focusing light distribution pattern SP which satisfies main light distribution specifications and becomes a base of the light axis, and light distribution adjustment becomes easy as well as can be carried out in excellent accuracy.
この結果、この発明は、主な配光規格を満足させかつ光軸の基準となる集光用配光パターンＳＰを形成する集光用ランプユニット１を１個とすることにより、配光調整が容易となり、かつ、配光調整を精度良く行うことができる。 - 特許庁 - In the optical fiber having a lens at the end part in which the lens is formed, light is made incident from the opposite end of the lens part of the optical fiber, and the lens of the optical fiber is worked by polishing or the like while measuring the light emitting pattern of incident light or reflected return light from the lens part.
端部にレンズを形成したレンズ付光ファイバにおいて光ファイバのレンズ部の反対端から光を入射し、該入射光の発光パターンもしくはレンズ部からの反射戻り光の測定を行いながら研磨加工等により光ファイバのレンズ加工をする。 - 特許庁 - The apparatus includes a light source 4 for irradiating the surface of a steel plate with light at a wavelength of 10.6 μm or longer and a detecting system for detecting minute defects in accordance with a light-dark pattern obtained by focusing and diffusion of light reflected by minute irregular flaws with irregularities on the surface of the steel plate.
鋼板表面に波長が１０．６μm以上の光を照射する光源４と、前記鋼板表面の微小凹凸疵で反射された光の集束及び発散によって得られる明暗パターンに基づいて微小欠陥を検出する検出系とを有する。 - 特許庁 - When a malfunction occurs in putout of game balls, this game machine reads data of light emitting patters corresponding to the content of the malfunction from the light emitting patterns stored in a light emitting pattern storage area 452 of a ROM 45c, and transmits the read data of the light emitting patterns to an LED driving circuit 45d.
遊技球の払い出しに異常が発生した場合には、ＲＯＭ４５ｃの発光パターン記憶エリア４５２に記憶された発光パターンから異常の内容に対応した発光パターンのデータを読み出し、その読み出した発光パターンのデータをＬＥＤ駆動回路４５ｄに送信する。 - 特許庁 - When this system is used, an authenticating device 3 irradiates the solar battery 1 with light beams, and receives the lights returned after transmitted through the solar battery 1, and derives the light absorption wavelength pattern of the solar battery 1 from the strength of the irradiated light beams and the reflected light beams, and transmits it to a power company 4 or the like.
利用時、認証装置３は、太陽電池１に光を照射し、太陽電池１を透過して戻ってきた光を受光して、照射光と反射光の強度から太陽電池１の光吸収波長パターンを導出し、電力会社４等へ送信する。 - 特許庁 - The hologram recording medium 100 has at least a recording layer 101 in which data is recorded as phase information of light, the irregular pattern 101 is provided at an opposite side to the incident direction of signal light 103, reference light 104, or servo light 105 as viewed from the recording layer 101.
ホログラム記録媒体１００は光の位相情報としてデータが記録される記録層１０１を少なくとも有し、凹凸パターン１０１は、記録層１０１から見て信号光１０３、参照光１０４あるいはサーボ光１０５の入射方向とは反対側に設けられている。 - 特許庁 - Openings h are shaped (e.g., circular or elliptical) so as to substantially produce no anisotropy against the polarized light of the target light L and/or so arranged, in such a pattern where no anisotropy is substantially produced to the polarized light of the target light L.
該開口ｈは、受光対象光の偏光に対して異方性を実質的に生じさせない開口形状（例えば、円形や楕円形など）、および／または、受光対象光の偏光に対して異方性を実質的に生じさせない配置パターンとして、形成されたものである。 - 特許庁 - The respective Fresnel lenses 3 use a plurality of radiation directions inclined from the optical axis of the light emitting diode 1 as their optical axis directions and form a light distribution pattern F of desired illuminance on the irradiation surface, and are so arranged as to surround the light emitting diode 1 on the front side of the light emitting diode 1.
各フレネルレンズ３は、発光ダイオード１の光軸から傾いた複数の照射方向それぞれを光軸方向とし照射面へ所望の照度の配光パターンＦを形成するレンズであり、発光ダイオード１の前方側で発光ダイオード１を囲むように配置する。 - 特許庁
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