「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 61 62 63 64 65 66 67 68 69 .... 141 142 次へ＞- Further, the light-shielding layer 3 is patterned to form a light-shielding pattern 3a, and the shifter layer 2 is subjected to dry etching with chlorine, using ICP(inductively coupled plasma) type dry etching apparatus, to form a phase shift pattern 2a for obtaining shift mask 100 of the invention.
さらに、遮光層３をパターニング処理して遮光パターン３ａを形成し、さらに、シフター層２をＩＣＰ（誘電結合プラズマ）タイプのドライエッチング装置を用いて塩素によるドライエッチングにてエッチングし、位相シフトパターン２ａを形成し、本発明の位相シフトマスク１００を得る。 - 特許庁 - The exposure condition setting device exposes multiple positions of a substrate in a specific pattern with different exposure quantities and focus values, converts the state of the development pattern formed by the development into light information, and determines the best combination of an exposure quantity and a focus value, according to the light information.
露光条件出し装置は、所定パターンで基板の異なる複数の位置を異なる露光量とフォーカス値で露光し、現像して形成される現像パターンの状態を光情報に変換して、この光情報から最適な露光量およびフォーカス値の組合せを決定する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which can be suitably used, when ArF excimer laser light is used as an exposure light source, which is superior in resist profile, sensitivity, resolution and line edge roughness, and which is free from pattern collapse and of the problems of development defects, and to provide a pattern forming method that uses the composition.
ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、レジスト形状、感度、解像力、ラインエッジラフネスが優れるとともに、パターン倒れのなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The control circuit 3 performs control for matching the end part 13 of the image pattern with the end part 11 of the screen 1 by comparing the position of a sensor which receives reflected light from the end part 11 of the screen 1 with the position of a sensor which receives reflected light from the end part 13 of the image pattern.
制御回路３は、スクリーン端部１１の反射光を受光したセンサの位置と、スクリーン１に投影された画像パターンの端部１３からの反射光を受光したセンサの位置とを比較して、画像パターンの端部１３をスクリーン１の端部１１に合わせる制御を行う。 - 特許庁 - To provide a pattern display having rich variety/game property without increasing the number of substrates for a light emitting device or complicating a structure by varying pattern displays while using clarity of the light emitting device.
発光素子の明瞭性を活かしつつ図柄表示の多彩化を図ることにより、発光素子用の基板数を増加させたり構造を複雑化させたりすることなく多様性・ゲーム性に富んだ図柄表示を可能とした遊技機用表示装置とそれを用いた遊技機を提供する。 - 特許庁 - A sub-shade position determining part 54 controls the left side lamp 30L and the right side lamp 30R in such a way that it may irradiate with either one of the left side additional light distributing pattern or the right side additional light distributing pattern in response to a vehicle position detected by the vehicle position detecting part.
サブシェード位置決定部５４は、車両位置検出部により検出された車両位置に応じて左側付加配光パターンまたは右側付加配光パターンのいずれか一方を照射するように左側灯具３０Ｌおよび右側灯具を制御する。 - 特許庁 - Also, the data of arranged particulate materials, the arranged pattern by the particulate materials, the reflection of light by the arranged pattern or the transmission state of light therethrough or the like are encrypted and recorded in the valuable securities, to be used as a more complete identification mark for verifying the authenticity of the valuable securities or the like.
さらに、配置した粒状物質及び粒状物質の配置模様や該配置模様による光の反射や透過状態等のデーターを該有価証券等に暗号化して記録することで、より完全な有価証券等の本物確認の為の識別用マークとする事ができる。 - 特許庁 - The driving pattern creation means 7 creates such a driving pattern as a correction image is plotted on the light scanning surface 21 so that the observation image may correspond to the change of the screen 2, while plotting a basic image on the light scanning surface 21 so that an observation image to be desirably observed by a viewer may be visually recognized.
駆動パターン生成手段７は、観測者に観測させたい観測画像が視認されるように光走査面２１に基本画像を描画するとともに、スクリーン２の変化に観測画像が対応するように光走査面２１に補正画像を描画するような駆動パターンを生成する。 - 特許庁 - A third auxiliary reflection surface 18 for forming a part P4 except for the part P2 in a periphery of a lower horizontal cutoff line CL3 of the light distribution pattern LP 3 is provided in an area 15 of the first reflection surface 11 for mainly forming the part P2 in the periphery of the lower horizontal cutoff line CL3 of the light distribution pattern LP3.
また、配光パターンＬＰ３の下水平カットオフラインＣＬ３付近の部分Ｐ２を主に形成する第１反射面１１のエリア１５に、配光パターンＬＰ３の下水平カットオフラインＣＬ３付近の部分Ｐ２以外の部分Ｐ４を形成する第３補助反射面１８を設ける。 - 特許庁 - The irregular light scattering pattern is the one obtained for example by forming a prescribed number of dots 16' composing the light scattering pattern 8' in each region having the same area on the virtually divided main plane 7 and by irregularly disposing the dots 16' in the region.
不規則な光散乱パターンとは、例えば、光散乱パターン８’を構成するドット１６’を、仮想的に区切った主平面７上の同一面積の領域内に、それぞれ所定の数だけ形成すると共に、その領域内でドット１６’を不規則に配置させることをいう。 - 特許庁 - Thus, since the working fabric is cut out by the scan of the laser light and the hole of a prescribed pattern is formed, an arbitrary pattern can be easily cut out, and since the working fabric is cut by fusing with the laser light, high quality cutting can be performed at high speed.
このような構成では、レーザー光のスキャンにより、加工布が切開され、所定パターンの穴が形成されるので、任意のパターンの切開を簡単に行なうことができるとともに、レーザー光により加工布を溶断するため、良質なカットを高速に行なうことができる。 - 特許庁 - The optical filter for the display apparatus includes a background layer which is stratified, a color shift reducing pattern which is formed on the background layer with predetermined thickness and a light reflecting patch which is formed behind the color shift reducing pattern and reflects light backward.
ディスプレイ装置用光学フィルターであって、層をなすバックグラウンド層と、上記バックグラウンド層に所定の厚さにて形成されるカラーシフト低減パターンと、上記カラーシフト低減パターンの後方に形成され、光を後方に反射する光反射パッチと、を含んでなることを特徴とする。 - 特許庁 - In the method of manufacturing the film, a light guide sheet 4 is formed with a translucent resin, and a silicone film 3 with irregularities 2 of an optical pattern added thereto by being pressed by a roller provided with transferring irregularities for transferring the optical pattern is formed on one surface of the light guide sheet 4.
それの製造方法は、透光性樹脂で導光シート４を形成し、光学パターンを転写させる転写用凹凸が設けられたローラーで押圧して前記光学パターンの凹凸２を付したシリコーン膜３を、前記導光シート４の片面の表面に形成するというものである。 - 特許庁 - Further, an external arithmetic unit in the system corrects the non-pattern light projected images into 2-dimensional images observed from nearly vertical direction of a specified face on the object, based on both image data and 3-dimensional configuration data of the non-pattern light projected images acquired by the 3-dimensional configuration sensing device.
外部演算装置は、３次元形状検出装置によって取得されたパターン光非投光画像の画像データと３次元形状データとに基づきパターン光非投光画像を対象物体の所定面の略鉛直方向から観察される平面画像に補正する。 - 特許庁 - A plurality of pattern images for calibration are formed by splitting a light, passed through a light diffusion member of a mask device for measurement, an opening pattern PHG_j for calibration formed in a mask for measurement of the mask device for measurement, and the optical system to be inspected in order, through the wave front splitting of an optical system for measurement.
測定用マスク装置の光拡散部材、測定用マスク装置の測定用マスクに形成された較正用開口パターンＰＨＣ_j、及び被検光学系を順次介した光を測定用光学系により波面分割して複数の較正用パターン像が形成される。 - 特許庁 - Thus, when the additional light-distributing pattern PA2 is formed by moving the first shade to a shading position, the vertical cut-off line CV1 is formed at a position separated from a headlight front direction to the opposite lane side, and a shape of the additional light-distributing pattern PA2 is made at a shape including the maximum luminous intensity position.
これにより、第１シェードを遮光位置に移動させて付加配光パターンＰＡ２を形成したとき、その鉛直カットオフラインＣＶ１を灯具正面方向から対向車線側に離れた位置に形成し、付加配光パターンＰＡ２の形状をその最大光度位置を含む形状とする。 - 特許庁 - Then, the image-reading part (A) detects the color and surface reflection light quantity of the color image of the test pattern which has been output to the paper sheet, and, on the basis of the detected color and surface reflection light quantity of the color image of the test pattern, the image-forming conditions in the image-forming part 3 are adjusted.
そして、用紙に出力されたテストパターンのカラー画像の色と表面反射光量とを画像読み取り部Ａで検知し、そのテストパターンのカラー画像の検知された色と表面反射光量とに基づいて、画像形成部３の画像形成条件を調整する。 - 特許庁 - As a color pattern by reflection light from a brilliant cut surface 8 appears to float on the surface of the decorative body 1, and also the color pattern by reflection light is changed by changing the direction to view and the angle to view, the play of color effect that is freely changeable, is enjoyed.
装飾体１の表面にはブリリアントカット面８からの反射光による色模様が浮き上がった感じに見えると共に、反射光による色模様が見る方向や見る角度を変えることで変化に富んだ色模様となり、変貌自在の遊色効果を楽しむことができる。 - 特許庁 - An exposure module, which is used for transferring a pattern to a fibrous slender member by a photolithographic technique, has a light transmissive substrate, in which a cylindrical cavity having an inlet and an outlet is arranged, and a light shielding pattern arranged on the wall surface of the cylindrical cavity.
ファイバー状の細長い部材にフォトリソグラフィ技術によってパターンを転写するための露光モジュールであって、入口及び出口を有する筒状の空洞が設けられる透光性の基体と、前記筒状の空洞の壁面に設けられた遮光パターンとを有する、露光モジュールが提供される。 - 特許庁 - To provide a plasma display panel that enables formation of a light- shielding pattern between the display electrodes uniformly and without causing defects or the like to be generated, in the process of forming the light-shielding pattern (black stripe) and enables to make a high quality display, and to provide its manufacturing method.
遮光パターン（ブラックストライプ）を形成する工程で、均一でかつ欠陥等を発生させることなく表示電極間に遮光パターンを形成することを可能とし、高品位な表示を可能とするプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - In this EL sheet, a conductive polymer 6 having light transmittivity can be formed with high minuteness on the other surface of the light transmissive film substrate 1 arbitrarily with a desired character, pattern, etc. by drawing the desired character, desired pattern, etc., arbitrarily by using an ink jet printer.
このＥＬシートは、光透過性フィルム基板１の他方の面に、光透過性を有する導電性ポリマー６を、インクジェットプリンターを用いて任意に所望の文字やパターンなどを描画することにより、所望の文字やパターンなどを任意に、かつ高精細に形成可能とするものである。 - 特許庁 - To enable to obtain a low-beam light-distribution pattern making an owner driver easy to drive and giving an opposite driver little glare, in a projector type headlight for a car structured to make a beam irradiation toward front at a low-beam light-distribution pattern having a given cutoff line.
所定のカットオフラインを有するロービーム配光パターンで前方へビーム照射を行うように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯において、自車ドライバには運転しやすく対向車ドライバにはグレアを与えるおそれが低いロービーム配光パターンが得られるようにする。 - 特許庁 - A photosensitive material solution of a conductive film is selectively discharged by a droplet-discharging method, is selectively exposed to laser light, and then is developed or etched, thereby allowing only the region exposed to laser light to be left and realizing source wiring and drain wiring having a more microscopic pattern than the pattern formed by discharging.
液滴吐出法で感光性の導電膜材料液を選択的に吐出し、レーザ光で選択的に露光した後、現像またはエッチングすることによって、レーザ光で露光した領域のみを残し、吐出後のパターンよりも微細なソース配線およびドレイン配線を実現する。 - 特許庁 - In order to improve deterioration of a signal resulting from mismatching of the characteristic impedance of the wiring pattern 21, the relation between the characteristic impedance of the wiring pattern 21 and the extinction ratio of the light-emitting element 2 is grasped, and occurrence of jitter is reduced by controlling the light-emitting element 2 at the optimal extinction ratio.
配線パターン２１の特性インピーダンスの不整合に起因する信号劣化を改善するため、配線パターン２１の特性インピーダンスと発光素子２の消光比の関係を把握しておき、最適な消光比で発光素子２を制御し、ジッターの発生を低減する。 - 特許庁 - This device is provided with a point light source 1 for projecting a dot pattern onto the optical film 2 to be irradiated, an imaging element 3 capable of picking up reflected light by the optical film 2, and a detecting means for detecting a distortion in the dot pattern of a picked-up image picked up by the imaging element 3.
光学フィルム２にドットパターンを投影して照射する光源１と、前記光学フィルム２による反射光を撮像可能な撮像素子３と、前記撮像素子３による撮像画像の上記ドットパターンの歪を検出する検出手段とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁 - The headlight device control ECU decreases the illuminance of the high-beam light distribution pattern when a vehicle enters a detection range of the vehicle detection device, and increases the illuminance of the high-beam light distribution pattern after the lapse of waiting time when the vehicle within the detection range departs from the detection range.
前照灯装置制御ＥＣＵは、車両が車両検知装置の検知範囲に入った場合、ハイビーム用配光パターンの照度を低減せしめ、検知範囲内の車両が当該検知範囲から外れた場合、待機時間の経過後にハイビーム用配光パターンの照度を増大せしめる。 - 特許庁 - When irradiating light from a light source 1 onto a wafer W via an optical system 2 and 2a, either of the processes can be selected that a process wherein a pattern formed on the mask 6 is transferred as it is, and a process wherein an inverted image of the pattern formed on the mask 6 is transferred.
光源１からの光を光学系２、２ａを介しての、ウエハＷ上への照射は、マスク６に形成されているパターンをそのまま転写する工程と、マスク６に形成されているパターンの反転像を転写する工程とを選択自在におこなえるようにした。 - 特許庁 - To provide a pattern processing method and a pattern processing apparatus capable of directly processing a membrane with a high degree of accuracy by irradiating a light pervious to a mask between a light source and a substrate to the membrane on the surface of the substrate and at the same time, capable of precisely masking and processing a large-sized substrate with a required minimum sized-mask.
光源と基板との間のマスクを透過した光を基板表面の薄膜に照射し、薄膜を直接高精度に加工できると共に、必要最小限の大きさのマスクで大型サイズの基板も適切にマスクしつつ加工できるパターン加工方法及び加工装置を提供する。 - 特許庁 - An image processing and control part 600 extracts a variable density pattern, which indicates the shape of the object to be measured from the first light reception signal by the interference light pencil and forms an object signal, which indicates changes in the shape and location of the object to be measured from the movement of the variable density pattern.
画像処理及び制御部６００は、干渉光束による第１受光信号から測定対象物形状を示す濃淡パターンを抽出し、その濃淡パターンの移動から測定対象物の形状及び位置変化を示す対象物信号を形成する。 - 特許庁 - To provide a garment with color changing property enabling clearly recognizing the pattern and color of a portion under ultraviolet rays in the daytime and enabling a different design and color to come to the surface in the dark through letting a pattern part accumulating sunlight and illumination light spontaneously emit light.
日中の紫外線下においては、一部の図柄や色彩が明確に認識でき、また暗闇においては、太陽光や照明光を蓄光した図柄部分が自然発光することで、異なったデザインや色彩を浮き出させることができる変色性衣服を提供すること。 - 特許庁 - The variation pattern has a part where the light output value of the illumination load gradually increases, and the turn-on circuit gradually increases the light output of the illumination load from a relatively low frequency f1 to a relatively high frequency f2 (for example, in a second section s2 and a third section s3) according to the variation pattern.
変化パターンに、照明負荷の光出力値が漸増する部分を有し、点灯回路は、変化パターンに基づいて照明負荷の光出力を、比較的低い周波数ｆ１から比較的高い周波数ｆ２へと漸増する（例えば、第２の区間ｓ２と第３の区間ｓ３）。 - 特許庁 - According to the measurement result of the real object's shape or the data related to the real object's shape input by users, either one among the pattern type of the projecting structure light, the pattern size and the projecting position of the structure light with respect to the real object is made varied.
また、実物体の形状の測定結果又は使用者により入力された実物体の形状に関するデータに応じて、投影する構造光のパターンの種類、パターンの大きさおよび実物体に対する構造光の投影位置のうちいずれかを変更するようにする。 - 特許庁 - A part of the object light is transmitted through the aperture hole 7d of the hologram 7, and is reflected by an AF frame pattern 9 provided at the eyepiece side inversion prism 4, and only the light of a specified wavelength is reflected by the hologram 7, so that an AF frame is displayed as an information display pattern inside a finder.
一方、物体光の一部は、ホログラム７の開口穴７ｄを透過し、接眼側反転プリズム４に設けられたＡＦフレームパターン９で反射され、ホログラム７で特定波長の光のみが反射され、ファインダ内情報表示パターンとしてＡＦフレームが表示される。 - 特許庁 - A luminance pattern by reflected light or transmitted light for every angle on a preset slice level of the atypical industrial products are pregathered by a reference sample, and is registered in a computer, and is matched in a pattern with luminance data obtained from the atypical industrial products on the production line.
予め基準サンプルによって、異形製品の予め設定したスライスレベル上の各角度ごとの反射光又は透過光による輝度パターンを収集してコンピュータに登録、生産ライン上の異形工業製品から得られる輝度データとのパターンマッチングを行う。 - 特許庁 - In a method for irradiating the mask pattern of a photomask with light from an exposure light source and projection-aligning the image of the mask pattern on the surface to be exposed of a substrate to be treated by a projection optical system, the photomask is housed in a casing and scanned to be projection-aligned together with this housing.
露光光源からの光でフォトマスクのマスクパターンを照射して、マスクパターンの像を、投影光学系により被処理基板の被露光面に投影露光する方法において、前記フォトマスクを筐体に収容し、この筐体ごと走査して投影露光を行う。 - 特許庁 - Under a state where the temperature at at least a part of the circumferential edge part of the transparent substrate is sustained higher than the temperature in the central part of the transparent substrate, the light shading film is etched by a plasma etching method using the resist film pattern as an etching mask thus forming a light shading film pattern.
前記透明基板の周縁部のうち少なくとも一部の温度を前記透明基板の中心部分の温度より高く維持する状態で、前記レジスト膜パターンをエッチングマスクとし、プラズマを利用するエッチング方法によって前記遮光膜をエッチングして遮光膜パターンを形成する。 - 特許庁 - The arithmetic part 94b of the control unit 94 compares the pattern shape of the diffracted light from the micropattern part 100a with the pattern shape of a diffracted light in the optimal etching state prestored in the memory unit 91 and judges their agreement or disagreement.
さらに、制御部９４の演算部９４ｂにおいては、この微細パターン部分１００ａからの回折光のパターン形状と、記憶部９１に予め記憶される最適なエッチング状態における回折光のパターン形状との比較を行い、それらの一致／不一致を判断する。 - 特許庁 - An irradiation direction control section 56 control the irradiation direction of the right and left lights so as to match the lower end of the upward cut-off line of the left side additional light distributing pattern or the right side additional light distributing pattern to the left end or the right end of the preceding vehicle detected by the preceding vehicle detection section 52.
照射方向制御部５６は、前方車検出部５２により検出された前方車の左端または左端に左側付加配光パターンまたは右側付加配光パターンの上向きカットオフラインの下端を一致させるように、左右の灯具の照射方向を制御する。 - 特許庁 - When the inspection pattern 5a of a TAB tape 5 is fed, transmitted illumination light and reflected illumination light are thrown by a transmission illumination means 1a and a reflecting illumination means 1b and the whole of the inspection pattern 5a is scanned so as to pass the region under an inspection part 1 by a scanning means 2.
ＴＡＢテープ５の検査パターン５ａが搬送されてくると、透過照明手段１ａと反射照明手段１ｂにより透過照明光、反射照明光を照射し、走査手段２により、検査パターン５ａ全体が検査部１の下を通過するように走査する。 - 特許庁 - The specification section 1b acquires an intensity pattern of the optical signals received by the light receiving section 1a on the basis of the intensity information, and specifies a location on the basis of the acquired intensity pattern and positional information of the positioning signal transmission device 3 contained in the optical signals received by the light receiving section 1a.
特定部１ｂは、強度情報に基づいて受光部１ａの受信した光信号の強度パターンを取得し、取得した強度パターンと、受光部１ａの受信した光信号に含まれている測位信号送信装置３の位置情報とに基づいて所在位置を特定する。 - 特許庁 - A plurality of measurement patterns with different light emitting positions of phosphors in each measurement pattern are displayed on a display screen of a measured CRT, and a light emitting position of the phosphors, and the luminance level in each measurement pattern are calculated from a photographed image (steps #2-#8).
被測定用ＣＲＴの表示面に測定パターン間でパターン内の発光螢光体の発光位置が異なる複数の測定パターンを表示させ、この撮像画像から測定パターン毎に、各測定パターン内の発光螢光体の発光位置と輝度レベルが算出される（ステップ＃２〜＃８）。 - 特許庁 - A method of manufacturing a photomask comprises: a step S12 of preparing a half-tone-type phase shift mask on which a mask pattern is formed; and a step S15 of forming a light-shielding frame by selectively applying a light-shielding material onto a region around the region in which the mask pattern is formed.
実施形態に係るフォトマスクの製造方法は、マスクパターンが形成されたハーフトーン型位相シフトマスクを用意する工程Ｓ１２と、マスクパターンが形成された領域の周囲の領域に選択的に遮光材を塗布して遮光枠を形成する工程Ｓ１５とを備える。 - 特許庁 - A multilayer film made of a niobium oxide film with the film thickness of 5 nm and the refractive index of 2.30 and a silicon oxide film with the film thickness of 55 nm and the refractive index of 1.45 is formed on a lower layer side of the first light-transmitting electrode pattern 11 and the second light-transmitting electrode pattern 12.
また、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の下層側には、膜厚が５ｎｍで屈折率が２．３０のニオブ酸化膜、および膜厚が５５ｎｍで屈折率が１．４５のシリコン酸化膜からなる多層膜が形成されている。 - 特許庁 - In the reflection plate used for an optical encoder, a reflecting film 2 for reflecting light, a protection film 3 for protecting the reflecting film 2, and a pattern forming film 4 having a lower light reflectance than the reflecting film 2, where a slit pattern is formed are laminated successively on a base material 1.
本発明は、光学式エンコーダに用いられる反射板において、基材１上に、光を反射する反射膜２と、反射膜２を保護する保護膜３と、反射膜２よりも光の反射率が低く、かつスリットパターンが形成されるパターン形成膜４とが順次積層されている。 - 特許庁 - The apparatus for acquiring three-dimensional information projects a plurality of kinds of pattern light onto an object in sequence, the plurality of kinds of pattern light being such that at least some of a plurality of object area boundaries dividing an object area has bright parts while the object areas other than the object area boundaries has dark parts.
３次元情報取得装置は、対象領域を分割する複数の対象領域境界部の少なくともいずれかが明部となるとともに、その対象領域境界部を除く対象領域が暗部となる複数種類のパターン光を前記対象物に順次に投影する。 - 特許庁 - The photomask is provided with a light shielding pattern which comprises a light shielding metal thin film on a transparent substrate and is further provided with a semitransparent pattern comprising semi-tranparent metal thin film having tantalum as a main component which comprises a material selected from tantalum silicide, tantalum oxide, tantalum nitride or their mixture.
フォトマスクは透明基板上に遮光性金属薄膜からなる遮光性パターンを備え、更に珪化タンタル、酸化タンタル、窒化タンタルまたはそれらの混合物から選択される材料からなるタンタルを主成分とする半透明金属薄膜からなる半透明パターンを備える。 - 特許庁 - The film is formed by electrifying the light-transmitting pattern region of the photomask substrate, electrifying the mist of a photocatalyst solution into the opposite polarity, making the mist fly to the photomask, vaporizing the solvent in the mist during flying, and depositing the photocatalyst fine particles on the light-transmitting pattern region.
フォトマスク基板の光透過パターン領域を帯電させ、光触媒溶液のミストを逆極性に帯電させて前記フォトマスクに向けて飛翔させ、ミスト中の溶媒を飛翔中に蒸発させて前記光透過パターン領域に光触媒微粒子を付着させて成膜する。 - 特許庁 - To make compensatable the adverse effect of a dimensional difference occurring, when backward scattering electrons generated at the time of electron beam exposure cover light exposure pattern in the vicinity of an EB exposure area, by light exposure pattern formed on a photomask, and to eliminate a need of complicated calculation for plotting the photomask.
電子ビーム露光時に発生する後方散乱電子が、ＥＢ露光領域に近接する光露光パターンに振りかぶることで生じる寸法差の影響を、フォトマスクに形成する光露光用パターンで補正することができ、且つフォトマスクの描画に際して複雑な計算を必要としない。 - 特許庁 - Further, the first metal layer 23 has a patterning of a prescribed shape which is composed of a circuit pattern 231 connected electrically to the light emitting device 4 and functioning as an electric circuit and a heat radiating pattern 232 functioning for radiating heat generated by the light emitting device 4.
そして、第１の金属層２３は、所定形状にパターニングされ、発光装置４と電気的に接続された電気回路として機能する回路パターン２３１と、発光装置４で発生した熱を放熱するための機能を有する放熱用パターン２３２とで構成されている。 - 特許庁 - To provide a method for injection molding a light guide plate by using a synthetic resin by manufacturing a metal plate easy to mold a recess pattern part of the guide plate and having a pattern for efficiently reflecting a light and mounting the metal plate on one or both side surfaces of a cavity of a mold.
導光板の凹状パターン部が成形しやすく、かつ、光を効率的に反射するパターンを有する金属板を作製し、該金属板を金型のキャビティ部の片面または両面に装着して、合成樹脂を用いて導光板を射出成形する方法を提供する。 - 特許庁
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