「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 58 59 60 61 62 63 64 65 66 .... 141 142 次へ＞- On the display surface side of a single rectangular light emitting substrate 4, three sets of pattern light emitting element groups 11 and six light emitting element pairs 21 for a light transmission plate arranged in parallel on both sides of them are mounted along the array direction of display areas 10A-10C for three digits.
単一の矩形状の発光基板４の表示面側に、３組の図柄発光素子群１１とそれらの両側に平行状に配置された６対の導光板用発光素子対２１とが、３桁の表示領域１０Ａ〜１０Ｃの配列方向に沿って実装されている。 - 特許庁 - To provide a formation capable of visualizing brilliance of a light reflection layer and visualizing an OVD (optical variable device) image in particular when the light reflection layer is an OVD, under reflection light and capable of visualizing another latent image pattern under transmission light.
反射光下においては、光反射層の光沢を視認することができ、特に光反射層がＯＶＤの場合には、ＯＶＤ画像を視認することができ、透過光下においては別の潜像模様を視認することができる形成体を提案することを目的とする。 - 特許庁 - The image enhancing mask 6 has a semi-light-shielding mask pattern formed of the semi-light-shielding portion 8 which transmits the exposure light in the same phase with a translucent part 7 as a reference and the phase shifter 9 which transmits the exposure light in the opposite phase with the translucent part 7 as a reference.
イメージ強調マスク６においては、透光部７を基準として露光光を同位相で透過させる半遮光部８と、透光部７を基準として露光光を反対位相で透過させる位相シフター９とによって、遮光性を有するマスクパターンが構成されている。 - 特許庁 - In the optical encoder of a manipulator 1, the light enters into slits 40A, 40B and 40Z where two kinds of reflective parts 41A and 41B with different light reflectances are longitudinally arranged in a prescribed pattern, and a light reception device receives the reflective light reflecting from the slits 40A, 40B and 40Z.
マニピュレータ１の光学式エンコーダでは、反射率の異なる２種類の反射部４１Ａ、４１Ｂが長手方向に所定のパターンで配置されるスリット部４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｚに光を入射し、スリット部４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｚで反射した反射光を受光素子で受光する。 - 特許庁 - The lens CPU 5 reads out a light emission table 20 in response to start or completion of a prescribed photographing operation (a focus preset position setting operation, a go-home operation, or the like) and controls the light emission part 6 so as to cause the light emission part 6 to emit light in a flickering pattern, a color, or the like corresponding to the prescribed photographing operation.
レンズＣＰＵ５は、所定の撮影動作（フォーカスプリセット位置設定動作、ゴーホーム動作等）が開始又は完了したときに、発光テーブル２０を読み出して、所定の撮影動作に応じた点滅パターン、色等で発光するように、発光部６を制御する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method and device of a light guide plate capable of emitting planar light with high appearance quality and high uniformity in case of forming a dot pattern by an ink jet method, a light guide plate, a planar light source device equipped with the same, and a transmission image display device.
ドットパターンをインクジェット法により形成する場合において、外観品位が高く、均一性の高い面状の光を出射することが可能な導光板の製造方法および製造装置、導光板、これを備えた面光源装置および透過型画像表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a UV-curing type ink for a light guide plate capable of obtaining suitable UV-curing characteristics, mechanical characteristics, water resistance or the like at the forming of a light diffusion pattern on the light guide plate, and the light guide plate having high luminance and fewer luminance unevenness at the use of the UV-curing type ink.
導光板における光拡散パターンの形成において、良好な紫外線硬化特性、機械的特性、および耐水性等が得られる導光板用紫外線硬化型インキ、およびそれを用いてなる高輝度で、輝度ムラ等が少ない導光板を提供する。 - 特許庁 - A pattern display device is provided with means which introduces a part of light radiated from an external light source into the device and irradiates an arbitrary position of a marker with the light, whereby both saving power and securing the visibility in the state where sufficient environmental light cannot be obtained at night or the like are achieved.
外部光源から照射された光の一部を本図柄装置内に導入し、その光を標示体の任意の位置に照射する手段を設けることで、夜間など充分な環境光が得られない状況下での節電と視認性確保を両立させた。 - 特許庁 - The position of each cartridge is detected based on previously measured each time required for each cartridge from the exposure process to the toner image detection process by the density sensor 110, and the received light amount obtained by receiving the reflected light from a detection pattern by the specular-reflected light receiving part and the diffused-reflected light receiving part.
各カートリッジにつき予め計測された露光から濃度センサ１１０によるトナー像の検出までの各時間と、検出用パターンからの反射光を正反射光受光部および拡散反射光受光部で受光して得られた受光量とから、各カートリッジの位置を検出する。 - 特許庁 - On one side face 11 between side faces 11a and 11b in a lengthwise direction including short sides of a light transmission body 11 having a rectangular cross section, a light scattering pattern for scattering light incident to the light transmission body 11 is formed by screen-printing of white paint.
断面矩形状導光体１１の短辺を含む長手方向の側面１１ａ、１１ｂのうち、一方の側面１１ａには導光体１１に入射した光を散乱させるための光散乱パターン２０が白色塗料をスクリーン印刷等することによって形成されている。 - 特許庁 - In the laser marking method, a marking pattern is formed on a marking object 6 by irradiating the marking object 6 with pulsed light oscillated from a pulsed light source 1 of an MOPA structure in which a semiconductor laser outputting directly-modulated pulsed light is used as a seed light source.
当該レーザマーキング方法は、直接変調されたパルス光を出力する半導体レーザを種光源として使用したＭＯＰＡ構造のパルス光源１から発振されるパルス光をマーキング対象物６に照射することで、マーキング対象物６にマーキングパターンを形成していく。 - 特許庁 - In the light source apparatus provided with the light emitting element such as a light emitting diode, a flexible printed wiring board wherein a wiring pattern for lighting the light emitting element is provided and a supporting base material holding the wiring board, a protective member is provided on the upper side of the wiring board.
発光ダイオード等の発光素子、及び、該発光素子を点灯させるための配線パターンが設けられたフレキシブルプリント配線基板と、該配線基板を保持する支持基材とを備えた光源装置であって、該光源装置は、配線基板の上方に保護部材が設けられてなる光源装置。 - 特許庁 - A light shielding resist layer 2 is applied to the surface of glass board material 1 by a spin coating, and is irradiated with patterning light through a predetermined photomask to be exposed, then a photosensitive area of the light shielding resist layer 2 is dissolved by a solvent, developed and baked, thereby forming the light shielding resist layer 2 having a predetermined pattern.
ガラス基材１の表面に遮光レジスト層２をスピンコートによって塗布し、所定のフォトマスクによってパターン光を照射して感光させ、遮光レジスト層２の感光領域を溶剤で溶解して現像し、ベーキングして所定のパターンを有する遮光レジスト層２を形成する。 - 特許庁 - Thus, the focusing points of the return light passed through the objective lens 110 for the BD and of the return light passed through the objective lens 109 for the HD are separated for optical detection, and one of the return light does not enter the sensor pattern receiving the other return light.
これにより、光検出上では、ＢＤ用対物レンズ１１０を経由した反射光とＨＤ用対物レンズ１０９を経由した反射光の収束位置が分離され、一方の反射光が他方の反射光を受光するセンサーパターンに入射することはない。 - 特許庁 - To provide a lamp with double filament type in which, by suppressing that light emitted from a low beam filament for passing is reflected by inner lead wires supporting a high beam filament for driving, occurrence of irregular reflection light which does not contribute to formation of low beam light distribution pattern and gives an adverse effect is prevented, and thereby, an optimal light distribution pattern can be formed.
ダブルフィラメントタイプの電球において、すれ違いビーム用フィラメントから放出された光が走行ビーム用フィラメントを支持する内部リード線で反射されるのを抑制することによって、すれ違い用配光パターンの形成に寄与せず、且つ有害な影響を与える乱反射光の発生を防止し、よって最適な配光パターンの形成が可能となるようにすること。 - 特許庁 - The pattern fixing process favorably contains a process in which a photosensitive organic material is impregnated in the pattern layer, a process in which the pattern layer impregnated with the photosensitive organic material is exposed to light, a process in which the carbon nanotube is exposed by removing the photosensitive organic material on the surface of the pattern layer, and a process in which the photosensitive organic material in the pattern layer is cured.
パターン固定工程は、感光性有機材料をパターン層内に含浸させる工程と、感光性有機材料が含浸したパターン層を露光する工程と、パターン層表面の感光性有機材料を除去してカーボンナノチューブをパターン層表面に露出させる工程と、パターン層内部の感光性有機材料を硬化させる工程と、を含むことが好ましい。 - 特許庁 - A plurality of first exposure segments are arranged in adjoining one another in a pattern area defined on a substrate where a resist film is formed; and the resist film in each first exposure segment is successively exposed to light in a first exposure luminous energy to transfer a mask pattern over the entire pattern area.
レジスト膜が形成された基板上に定義されるパターン領域に複数の第１露光区画を互いに隣接させて配列し、パターン領域の全面にわたり第１露光量で、マスクパターンを第１露光区画それぞれのレジスト膜に対して逐次露光する。 - 特許庁 - After transferring a chip pattern to the negative resist film by EUV light exposure, the chip pattern is transferred by etching the intermediate layer film by using the negative resist film as a mask, and then the chip pattern is transferred by etching the lower layer film by using the intermediate layer film as a mask.
ＥＵＶ光露光によりネガ型レジスト膜にチップパターンを転写した後、当該ネガ型レジスト膜をマスクとして中間層膜をエッチングしてチップパターンを転写し、その後、当該中間層膜をマスクとして下層膜をエッチングしてチップパターンを転写する。 - 特許庁 - To provide a forming method for a fine pattern with which a pattern with high precision can be obtained by applying a liquid material which is excellently released from a mold material to an in-printing lithography method, and a manufacturing method for a polarized light separating element using the same forming method for the fine pattern.
型材との離型性に優れた液体材料をインプリンティングリソグラフィー法に適用することにより、高精度のパターンが得られる微細パターンの形成方法、及び該微細パターンの形成方法を用いた偏光分離素子の製造方法を提供する - 特許庁 - In the measuring device of the three-dimensional curved surface shape, the slit pattern is a pattern shifted in the direction orthogonal to the slit direction, or the plurality of stripe patterns show a code corresponding to the floodlight angle onto the position where combinations of light and shade of stripes of each pattern are projected.
スリットパタンは、スリット方向と直交する方向にシフトされたパタンとし、又は、複数のストライプパタンは、各パタンのストライプの明暗の組み合わせが投影された位置への投光角度に対応するコードを示す３次元曲面形状の測定装置。 - 特許庁 - By the print method, patterns are formed in two steps so as to form all of the lower pattern and the upper pattern perpendicular to the lower pattern in directions parallel to printing directions, which results in uniform thickness and patterns of the light shielding member and excellent reproducibility.
本発明の印刷法によれば、下部パターン及びこれに対して垂直である上部パターンが全て印刷方向と平行な方向になるように、２回に分けてパターンを形成するので、遮光部材の厚さ及び模様が均一となり、再現性が優れている。 - 特許庁 - When a false pattern is generated in pattern formation, since the transmittance of the organic film pattern can easily be varied by irradiation with light, fine adjustment of the quantity of phase shift can easily be performed by varying the transmittance without varying the film thickness.
そしてパターン形成に際して、疑似パターンが発生する場合は、光照射によって容易に透過率を変更可能であるため、膜厚を変更することなく、透過率を変更することにより、容易に、位相シフト量の微調整を行うことが可能となる。 - 特許庁 - To provide a traffic light machine for pedestrians for allowing much more persons to understand display conditions by making the area of a pattern and a background area being the background of the pattern different from each other to dynamically express the pattern in a status that crossing is possible.
横断可能状態において、絵柄の領域と、絵柄に対して背景となる背景領域とを互いに異ならせて、絵柄を動的に表現することで、より多くの人が表示状態を理解できる歩行者用交通信号機を提供する。 - 特許庁 - A fine pattern can be easily produced, although a large photomask is used, by forming an additional pattern inside a photomask window and using reinforcing/compensating interference of light to allow a production of a smaller pattern.
本発明は、フォトマスクウィンドウの内部に追加的なパターンを形成することによって、光の補強／相殺干渉を用いて、より小さなパターン製作が可能であるようにすることで、大きいフォトマスクを利用しながらも微細パターン製作が容易であるという長所を有する。 - 特許庁 - To obtain a resist pattern having a good pattern shape while suppressing the occurrence of scum when a resist pattern is formed with light for exposure having a wavelength of 1 nm band to 30 nm band or 110 nm band to 180 nm band.
露光光として１ｎｍ帯〜３０ｎｍ帯又は１１０ｎｍ帯〜１８０ｎｍ帯の波長を持つ露光光を用いてレジストパターンを形成する場合に、スカムを殆ど発生させることなく、良好なパターン形状を有するレジストパターンが得られるようにする。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition for black resist which is free from development residue, has excellent pattern dimensional stability and a pattern contactness, can obtain a pattern excellent in sharpness of its edge shape with a wide development margin, and can obtain a black resist high in light shielding property.
現像残渣がなく、パターン寸法安定性及びパターン密着性に優れ、パターンのエッジ形状のシャープ性が良好なパターンを広い現像マージンで得ることができ、遮光性の高いブラックレジストが得られるブラックレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - When the pattern recognition by the pattern recognition means is impossible, recognition operation is repeated while changing an illumination characteristic (e.g. a light emission amount, an irradiation angle, or an irradiation direction) of an illumination means, and operation based on a recognition result thereof is performed when succeeding in the pattern recognition.
パターン認識手段によるパターン認識が不能の場合に、照明手段の照明特性（例えば、発光量，照射角，照射方向）を変化させつつ認識動作を繰り返し、パターン認識が成功すると、その認識結果に基づく動作を行う。 - 特許庁 - The mask means 80 includes a pattern area on which a pattern 80p through which a light is transmitted, a clear inspection mark 80t formed at a prescribed position with respect to the pattern area, and reference sections 80a, 80b that are used to position the mask means 80 at a prescribed position.
マスク手段８０は、光を透過するパターン８０ｐが形成されたパターン領域と、パターン領域に対して一定位置に形成された明瞭な検査マーク８０ｔと、マスク手段８０を所定位置に位置決めするための基準部８０ａ，８０ｂとを含む。 - 特許庁 - Next, an exposure pattern corresponding to the detected light quantity is discriminated by a control part 11 on the basis of an exposure pattern table 131, and exposure start timing in a digital camera 30 is changed and set to exposure start timing corresponding to the discriminated exposure pattern.
次いで、露光パターンテーブル１３１に基づいて、検出光量に対応する露光パターンが制御部１１により判別され、デジタルカメラ３０における露光開始タイミングが、判別された露光パターンに対応する露光開始タイミングに変更設定される。 - 特許庁 - In the keyboard device, a reflection pattern 31 is arranged corresponding to the positions of keys on the lower side or the upper side of a light guide plate 15, and the kind of the reflection pattern 31 corresponding to some of keys is made different from the kind of the reflection pattern 31 of the other keys.
キーボード装置では、導光板１５の下面側または上面側に、キーの位置に対応づけて反射パターン３１を配置し、かつ、一部のキーに対応する反射パターン３１の種類を他のキーの反射パターン３１の種類と異なるものにする。 - 特許庁 - To provide a permanent pattern forming method which can form a permanent pattern (insulating film, a protective coat of solder resist pattern or the like) in a printed-circuit board field, including a package substrate in high accuracy and efficiency by suppressing the strain of an image focused on a light-sensitivity layer.
感光層上に結像させる像の歪みを抑制することにより、パッケージ基板を含むプリント配線基板分野における永久パターン（絶縁膜、ソルダーレジストパターンなどの保護膜）を高精細に、かつ、効率よく形成可能な永久パターン形成方法の提供。 - 特許庁 - The vehicle light includes an LED light source disposed so as to direct its irradiation direction downward; a condenser imaging lens disposed forward of the LED light source and shaped such that substantially lower half thereof from the optical axis is cut; and a reflector surface configured to reflect light incident thereon from the LED light source and transmit the reflected light through the condenser imaging lens to form a predetermined light distribution pattern.
照射方向が下向きとなるように配置されたＬＥＤ光源と、前記ＬＥＤ光源よりも前方に配置され、光軸よりも下側略半分がカットされた形状の集束結像用レンズと、前記ＬＥＤ光源から入射する光を反射し、当該反射光が前記集束結像用レンズを透過し、所定配光パターンを形成するように構成された反射面と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁 - The exposure mask is used to irradiate an object to be processed with light from a light irradiating device to form a pattern, and the mask comprises a photocatalyst layer 101 formed of a photocatalyst that develops a catalytic function by light from the light irradiating device and a light shielding layer 102 in contact with the photocatalyst layer and having an opening to selectively block the light from the light irradiating device.
光照射装置から光を照射し、被処理物にパターンを形成する際に用いる露光用マスクであって、 前記光照射装置からの光によって触媒機能を発現する光触媒によって形成された光触媒層１０１と、 前記光触媒層に接し、前記光照射装置からの光を選択的に遮光する開口が形成された遮光層１０２と、を備えている構成とする。 - 特許庁 - The pattern forming material has on a support a pattern forming layer comprising a high molecular compound having a functional group whose hydrophilicity or hydrophobicity is varied by light and having a structure which can directly be bonded to the top of the support by a chemical bond, wherein the pattern forming layer is irradiated with light of ≤700 nm to vary the hydrophilicity or hydrophobicity of the surface of the pattern forming layer.
支持体上に、光により親疎水性が変化する官能基を有し、かつ、該支持体上に直接化学結合により結合されうる構造を有する高分子化合物からなるパターン形成層を備え、該パターン形成層に、７００ｎｍ以下の光照射を行って、パターン形成層表面の親疎水性を変化させることを特徴とするパターン形成材料、及びそれを用いた画像形成材料。 - 特許庁 - The exposure device equipped with a lighting optical system having a first lighting light source 1 for drawing based upon exposure pattern data and a lighting optical system having a second lighting light source 2 for irradiating a desired area including a pattern-drawn area with an energy beam is used to achieve high-precision pattern formation based on the exposure pattern data with high throughput at low cost.
露光パターンデータに基づいて描画するための第１の照明光源１を有する照明光学系と、前記パターン描画された領域を含有する所望の面積に対してエネルギー線を照射するための第２の照明光源２を有する照明光学系とを備えた露光装置を用いることにより、露光パターンデータに基づく高精度のパターン形成を高スループットかつ低コストに達成する。 - 特許庁 - The aligner transfers the pattern of a mask M to a substrate by an exposure light while the mask M and the substrate are synchronously moved in a predetermined direction.
マスクＭと基板とを所定の方向に同期移動しつつ露光光によりマスクのパターンを基板に転写する露光装置である。 - 特許庁 - To provide a positive radiation-sensitive composition exhibiting high sensitivity and high resolution in pattern formation by irradiation with active light.
活性光線の照射によるパターン形成において、高感度、高解像度を示すポジ型感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁 - (1) A test chart including a light and dark pattern is arranged instead of an original, and the sensor is moved in an optical path direction of the optical system.
すなわち、（１）明暗パターンを含むテストチャートを原稿の代わりに配置し、センサ部を光学系の光路方向に移動させる工程。 - 特許庁 - Then, the fluorescent pattern detected by the line sensor 8a is corrected on the basis of the light emission strength distribution detected by the line sensor 8b.
そして、ラインセンサ８ａで検出される蛍光パターンがラインセンサ８ｂで検出される発光強度分布に基づいて補正される。 - 特許庁 - To provide a display panel having a light-emitting function capable of diversifying the location and content of pattern display.
パターン表示について場所的、内容的に多様な変化を付けることが可能な発光機能を搭載した表示パネルを提供する。 - 特許庁 - The method for forming a pattern is constituted by at least a step wherein the photosensitive layer of the photosensitive film is exposed to light.
前記感光性フィルムにおける感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - In this way, it has the high lighting intensity zone at the center part and is suitable to obtain the light distribution pattern P which is long in the right and left on the horizontal line.
このように、中央部に高光度帯を有しかつ水平線上に左右に長い配光パターンＰを得るのに適している。 - 特許庁 - Since it is impossible to distinguish the pattern 7 by a natural light, this concealment card is suitably forgery-proof and is almost free from causing the fluctuation of a magnetic reproduction output.
自然光では絵柄が識別出来ないので偽造防止に適し、また磁気再生出力を変動させることも少ない。 - 特許庁 - The imaging part images an image by the pattern light projected to the object to be measured from a direction different from a projection direction of the protrusion.
撮像部は、投影部の投影方向と異なる方向から測定対象物に投影されたパターン光による像を撮像する。 - 特許庁 - The film pattern 40 is irradiated with laser light 50 emitted from a laser body 51 with an irradiation spot having an enlarged irradiation spot area.
レーザ本体５１から出射されるレーザ光５０は照射スポット面積を広くした照射スポットで膜パターン４０に照射される。 - 特許庁 - To provide a mask blank suited for manufacturing substrate digging type phase shift masks, including a light-shielding film pattern of a tantalum-based material.
タンタル系材料の遮光膜パターンを有する基板掘り込みタイプの位相シフトマスクを作製するのに適したマスクブランクを提供する。 - 特許庁 - To provide a fine pattern measuring method which can efficiently measure a large number of light proximity effect correction patterns by an easy method.
簡便な方法で大量の光近接効果補正パターンを効率よく測定することができる微細パターン測定方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a headlight for a vehicle for satisfying a standard for luminance at an upper zone of a designated light-distributing pattern.
所定配光パターンの上側の領域における明るさの規格を満足することができる車両用前照灯を提供する。 - 特許庁 - An image including the two-dimensional blood vessel pattern of the finger is generated from output of the light receiving element string and displacement information by the scanning.
受光素子列の出力と前記走査による変位情報とから指の２次元の血管パターンを含む画像を生成する。 - 特許庁 - To improve light resistance, heat resistance and pattern forming property (developability) as well as to ensure a favorable molar extinction coefficient and a favorable chromatic valence of a dye.
染料のモル吸光係数や色価が良好であると共に、耐光性、耐熱性、およびパターン形成性（現像性）を良化する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
