「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 60 61 62 63 64 65 66 67 68 .... 141 142 次へ＞- To provide a technique for reducing effect of a speckle pattern to a display image in an image display apparatus using a laser light source.
レーザ光源を用いた画像表示装置において、表示画像に対するスペックルパタンの影響を低減できる技術を提供する。 - 特許庁 - To permit external setting of the combinations of displayed colors and a lighting pattern in an incoming call notice means utilizing light for a mobile phone.
携帯電話装置の光による着信報知手段で、表示色の組み合わせや点灯パターンを外部から設定可能なようにする。 - 特許庁 - To provide a luminescent device and a lighting apparatus capable of suppressing increase in temperature of a light-emitting device by effectively using a wiring pattern layer.
配線パターン層を有効に利用して、発光素子の温度上昇を抑制できる発光装置及び照明器具を提供する。 - 特許庁 - A first mold mask having pattern-shaped projecting parts and recessed parts is used, and a photosensitive silver paste in the recessed parts is hardened by being irradiated with UV light.
パターン状の凸部と凹部を有する第１のモールドマスクを用い、ＵＶ光を照射して、凹部内の感光性銀ペーストを硬化する。 - 特許庁 - Light shielding material C is applied, inpoured to the groove pattern 38 to form a frame part 39 approximately on the same surface as the surface of the glass substrate 32.
溝パターン38に遮光性材料Ｃを塗布して流し込んで、ガラス基板３の表面と略面一の額縁部39を形成する。 - 特許庁 - When the information is to be reproduced, the fluorescent pattern generated by the reproducing light irradiating the information recording part 10 is detected.
この情報の再生時には、情報記録部１０に対して照射された再生光により生じる蛍光パターンを検出する。 - 特許庁 - To solve a problem that a flickering variation pattern that a conventional warning light system has is too monotonous to arouse sufficient attention.
従来の警光灯システムの持っている点滅変化パターンが単調であり十分な注意を喚起できないという課題を解決する。 - 特許庁 - To provide a pattern drawing apparatus that can continue drawing process, even when an abnormality occurs in a part of a light irradiation means.
一部の光照射手段に異常が発生した場合にも、描画処理を継続することができるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a headlamp for a vehicle capable of adjusting a prescribed position and a prescribed luminous intensity of light distribution pattern for overhead sign.
従来の車両用前照灯では、オーバーヘッドサイン用の配光パターンの所定の位置に所定の光度値を確保することが難しい。 - 特許庁 - The second resist film 34 exposed to light by developing treatment is removed to form the second resist film 34 into a desired rewiring pattern.
現像処理により露光された第２のレジスト膜３４を除去して、第２のレジスト膜３４を所望の再配線パターンにパターニングする。 - 特許庁 - To optically inspect the deformation of an object from reflected light from the object even if the inspected object has a pattern.
検査対象物に柄や模様がある場合にも対象物の変形を物体の反射光から光学的に検査できるようにする - 特許庁 - The irradiation with light of 180-200 nm wavelength may be carried out immediately after or immediately before the pattern forming exposure.
前記波長１８０〜２００ｎｍの光照射は、パターン形成露光直後、または、パターン形成露光直前に行うことができる。 - 特許庁 - This solubilized layer and the organic film are removed with a removing solution to form a resist pattern which is finer than the limit determined by the wavelength of light for exposure.
この可溶化層と有機膜とを剥離液で除去するこにより、露光波長限界を超えた、微細なレジストパタ−ンを形成する。 - 特許庁 - To provide a digital mirror device (DMD) pattern drawing apparatus which uses a high-accuracy and inexpensive microlens array causing no attenuation of exposure light.
露光光の減衰がなく、高精度で安価なマイクロレンズアレーを使用するデジタルミラーデバイス（ＤＭＤ）パターン描画装置を提供する。 - 特許庁 - To acquire the accurate luminance information of a pattern on a substrate, and to set illumination light quantity optimal to check for the substrate.
基板上におけるパターンの正確な輝度情報を取得し、基板に対して検査に最適な照明光量を設定すること。 - 特許庁 - To manufacture easily an electromagnetic wave shielding type light transmission window material having a mesh conductive pattern with small line width and high numerical aperture.
線幅が小さく開口率の高いメッシュ状の導電性パターンを有した電磁波シールド性光透過窓材を容易に製造する。 - 特許庁 - The LED element emitting the light of the complex wavelength is manufactured by removing the mask pattern after depositing the fluorescent film.
蛍光膜を蒸着させた後に前記のマスクパターンを除去することによって複合波長の光を発生するLED素子を製造する。 - 特許庁 - The prescribed pattern is printed by a prescribed ink to receive a beam from the surrounding light source and to generate a corresponding infrared ray.
所定のパターンは、周囲の光源からの光線を受け取り、対応する赤外線を生じるように、所定のインクでプリントされている。 - 特許庁 - The resist layer 12 is irradiated with ultraviolet light 15 through a photomask 14 having a pattern of a Cr film 14b on the surface of a glass substrate 14a.
レジスト層12に、ガラス基板14ａ表面にＣｒ膜14ｂによるパターンを有するフォトマスク14を通して紫外光15を照射する。 - 特許庁 - An image processing section 13 performs comparison (pattern matching) by a predetermined image processing using the imaging signal generated by the ultraviolet light L_UV.
画像処理部１３が、この紫外光Ｌ_UVによる撮像信号を用いて、所定の画像処理による比較（パターンマッチング）を行う。 - 特許庁 - The beam 3 diffracted by the hologram board 16 forms inside the workpiece 1 a unit diffraction pattern for diffracting visible light.
ホログラム板１６により回折された回折ビーム３が、加工対象物内１に、可視光を回折させる単位回折パターンを形成する。 - 特許庁 - Then, the resist film 102 thus formed is selectively irradiated with exposure light consisting of extreme ultraviolet rays to perform pattern exposure.
続いて、形成されたレジスト膜１０２に極紫外線よりなる露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う工程。 - 特許庁 - The linear pattern 7 is provided on the parallel sides opposing to each other of the polygonal pixel or the polygonal sub-pixel and transmits oblique light 8.
線状パターン７は、多角形画素又は多角形サブピクセルの向かい合う平行な辺に備えられており、斜め光８を透過する。 - 特許庁 - The pallet 12 is provided with a reading part 45 for reading the ID pattern 13, by transmitting the light from the backlight 11.
そして、パレット１２には、バックライト１１の光を透過させることによりＩＤパターン１３を読み取る読み取り部４５が設けられている。 - 特許庁 - The CCD camera 4 which is disposed directly above the print board K, photographs a portion of the print board K being irradiated of the light pattern.
ＣＣＤカメラ４は、プリント基板Ｋの真上に配置され、プリント基板Ｋ上の前記光パターンの照射された部分を撮像する。 - 特許庁 - In the diffraction element 50, high light utilization efficiency can be obtained while the diffraction element has a low cost by forming a pitch Λ of a rugged pattern of a diffraction grating 10 so as to satisfy the range of 1.7λ≤Λ≤2.0λ
また、その回折素子を用いた高い光利用効率を有しかつ安価な光ピックアップ装置を提供する。 - 特許庁 - A main control part 200 irradiates a position corresponding to a pattern stop position on the selected valid line with the light of a selected color.
主制御部２００は、選定された有効ライン上の図柄停止位置に対応する位置に選定された色の光を照射する。 - 特許庁 - Among these optical beacons, the optical beacon #0 repeats emission of light pattern with longer interval than the total sum of intervals of the optical beacons #1 to #6.
このうち、光学ビーコン♯０は、光学ビーコン♯１〜♯６の発光パターンに要する時間の総和よりも長い周期で発光を繰返す。 - 特許庁 - A dimmer filter 12, that dims an incident light from a lens 11 into 1/n, is stuck to a solid-state image pickup element 13 in a checkered pattern by unit of pixel.
レンズ11からの入射光を1／ｎにカットする減光フィルタ12を、固体撮像素子13に、画素単位で市松模様に貼り付ける。 - 特許庁 - A transmitting part transmits control signals for switching the light emission pattern of the display part, to a plurality of installed emergency signal lights.
送信部は、複数設置される前記非常用信号灯に対し、表示部の発光パターンを切換えさせる制御信号を発信する。 - 特許庁 - Further, an LED light source 15 may be arranged on a side surface of the viewing-side panel substrate 11a formed with the fixed pattern portion 13.
また、固定図柄部１３が形成されている視認側のパネル基板１１ａの側面にＬＥＤ光源１５を配設してもよい。 - 特許庁 - To provide a pattern correcting device which is capable of preventing deterioration in light transmittance by the splashes, when electrodes of short defective parts are removed.
ショート欠陥部の電極を除去したときの飛散物による光透過率の低下を防止し得るパターン修正方法を提供する。 - 特許庁 - At least, one of a plurality of pattern line rotating members 22 is constituted of a light transmissible member, a first polarized light sheet is fixed to its outer circumferential face or internal circumferential face in such a manner as being visible stacked on a plurality of patterns except for a specific pattern and a lighting means 25 is disposed inside the pattern line rotating means.
複数の図柄列回転部材２２のうちの少なくとも１つを光透過可能な部材によって構成し、その外周面又は内周面に第１の偏光シートを特定の図柄を除く複数の図柄と重なって見える状態に固定するとともに、この図柄列回転部材の内側に照明手段２５を配置する。 - 特許庁 - A pattern 5a on a TAB tape 5 is carried to an inspection section 1 by a tape conveyance mechanism 10, illumination light is applied from a transmission illumination means 1a, the transmitted illumination image of the pattern 5a is imaged by a CCD line sensor 1c, illumination light is applied from a vertical illumination means 1b, and the vertical illumination image from the pattern 5a is imaged.
テープ搬送機構１０により、ＴＡＢテープ５上のパターン５ａを検査部１に搬送し、透過照明手段１ａから照明光を照射し、ＣＣＤラインセンサ１ｃでパターン５ａの透過照明画像を撮像するとともに、落射照明手段１ｂから照明光を照射し、上記パターン５ａの落射照明画像を撮像する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having sensitivity to active light rays such as far-ultraviolet light represented by an ArF excimer laser, for example, superior in the flatness of a pattern surface without impairing fundamental material properties such as transparency to radiation, sensitivity, a resolution, and a pattern shape, and useful as a chemical amplification type resist which is improved against pattern collapse on a substrate.
活性光線、例えばＡｒＦエキシマレーザー等に代表される遠紫外線等に感応し、放射線に対する透明性、感度、解像度、パターン形状等の基本物性を損なわずに、パターン表面の平滑性に優れ、かつ基板上でのパターン倒れが改善された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The substrate of the display filter includes a transparent substrate 11, a conductive pattern part 13 provided on one side surface of the transparent substrate 11 and patterned in a predetermined shape, and a black light shielding part 211 provided between the transparent substrate 11 and the conductive pattern part 13 to shield visible light going from the transparent substrate 11 side to the conductive pattern part 13.
ディスプレイ用フィルタ用の基材は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面側に設けられ、所定の形状にパターニングされた導電パターン部１３と、透明基材１１と、導電パターン部１３との間に透明基材１１側から導電パターン部１３に向かう可視光を遮光する黒色の遮光部２１１を備える。 - 特許庁 - In the method, the dot pattern is transferred to the transparent film 21 used as the material of the light guide plate 1 by facing the film with metal molds 71, 72 (71m, 72m) having the dot pattern irregularities formed by a X-ray lithography electroforming method to constitute the light guide pattern 15 and pressing and moving rotatable rollers 61, 62 on them.
導光板１の素材としての透明フィルム２１に、前記導光パターン１５を構成するドットパターンの凹凸をＸ線リソグラフィー電鋳法により形成した金型７１・７２（７１ｍ・７２ｍ）を対面させた状態で、回転可能なローラ６１・６２によって圧接しつつ送ることで、前記ドットパターンを透明フィルム２１に転写する。 - 特許庁 - Illumination light is irradiated to enter an inspection domain obliquely from the side on which a pattern of TAB tape is formed by a reflection illumination means 12, and illumination light is irradiated from the opposite side to the side on which the pattern is formed by a transmission illumination means 13, to thereby image the pattern by an imaging means 11.
ＴＡＢテープのパターンが形成されている側から、反射照明手段１２により、検査領域に対して斜めに入射するように照明光を照射するとともに、パターンが形成されている側とは反対側から透過照明手段１３により照明光を照射し、撮像手段１１によりパターンを撮像する。 - 特許庁 - The template has a transfer surface provided with a concave-convex pattern, and is used for forming a shape reflecting the concave-convex pattern on a surface of a resin that is formed by filling a concave part of the concave-convex pattern with a photocurable resin liquid before being cured by light, and curing the photocurable resin liquid by light.
実施形態によれば、凹凸パターンが設けられた転写面を有し、前記凹凸パターンの凹部に、光によって硬化する前の状態の光硬化性樹脂液を充填し、前記光によって前記光硬化性樹脂液を硬化させて形成される樹脂の表面に前記凹凸パターンを反映した形状を形成するためのテンプレートが提供される。 - 特許庁 - This pattern formation method is provided with process for forming a super-high resolution film, for narrowing the beam diameter of irradiated light on the resist film formed on a substrate, the process for irradiating the resist film with the light via the super-high resolution film and performing pattern alignment and the process for developing the resist film, to which the pattern alignment is performed.
基板上に形成されたレジスト膜上に、照射される光のビーム径を絞る超解像膜を形成する工程と、前記超解像膜を介して前記レジスト膜に対して光を照射し、パターン露光を行なう工程と、前記パターン露光が行なわれた前記レジスト膜を現像する工程とを備えるパターン形成方法である。 - 特許庁 - To decrease the influence of redundant diffracted light having an intense peak different from the diffracted light which constitutes the pattern (image) to be displayed in the pattern displayed by the combination of a plurality of minute cells each consisting of diffraction gratings arranged in a matrix, to improve the visibility of the pattern (image) and to reproduce the original design with good fidelity.
回折格子からなる微小なセルをマトリクス状に複数個配置し、それらの集まりによって表現されるパターンにおいて、表現されるべきパターン（画像）を構成する回折光とは異なる、強いピークを持った冗長な回折光の影響を低減し、パターン（画像）の視認度を向上させ、元のデザインを忠実に再現する。 - 特許庁 - In the exposure method performing joint exposure by irradiating an article to be exposed with light source light through a mask pattern of a photomask and then overlapping end regions of adjoining exposure patterns, the joint exposure is performed while gradually reducing the exposure amount in the end region of the exposure pattern from near the center toward an adjoining end of the exposure pattern.
被露光体上にフォトマスクのマスクパターンを通して光源光を照射し、互いに隣接する露光パターンの端部領域を重ね合わせてつなぎ露光する露光方法であって、前記露光パターンの前記端部領域の露光量を前記露光パターンの中央寄りから隣接端部に向かって漸減させてつなぎ露光するものである。 - 特許庁 - A first ink flow channel pattern including a first dissolvable resin and a light absorbing agent is formed so as to cover an area of a base plate where the discharge outlet is formed viewing from above the base plate and a second ink flow channel pattern including a second dissolvable resin and not including a light absorbing agent is formed so as to cover the first ink flow channel pattern.
基板の、その上方からみて吐出口が形成される領域を被覆するように、第一の溶解可能な樹脂と光吸収剤とを含む第一のインク流路パターンを形成し、その第一のインク流路パターンを被覆するように、第二の溶解可能な樹脂を含み光吸収剤を含まない第二のインク流路パターンを形成する。 - 特許庁 - A flame supporting implement 32 like a candlestick and a hollow cover 34 arranged almost around the supporting implement and in which a hologram pattern surface is applied to one side surface 34a are used so that the light of flame irradiates on the hologram pattern surface and the reflected pattern light is revealed through the other side surface 34b of the hollow cover when a candle 36 is lit.
ローソク立てのような火炎支持具３２と、この支持具をほぼ中心にして配置され一方側面部３４ａにホログラム模様面を施した中空カバー３４を使用して、ローソク３６に火をつけたとき、その火炎の光がホログラム模様面に照射してその反射模様光が中空カバーの他方側面部３４ｂを介して顕示されるようにする。 - 特許庁 - This three-dimensional measuring instrument of the present invention is constituted of a pattern projector 1 as a projection means for projecting a pattern light onto a measuring object A, a camera 2 as an imaging means for imaging the measuring object A projected with the pattern light to pick up an image, and a computer 3 for processing a data of the image picked up by the camera 2.
本発明の三次元計測装置は、計測対象物Ａにパターン光を投影する投影手段としてのパターン投影機１と、パターン光が投影された計測対象物Ａを撮像して画像を撮像する撮像手段としてのカメラ２と、このカメラ２により撮像した画像のデータを処理するコンピュータ３とから構成される。 - 特許庁 - The displacement detection apparatus comprises a light emitting section 44 for irradiating the surface of the paper being transferred with laser light originating from a laser light source 45 and a light receiving section 47 having an image sensor 48 which receives laser light reflected off the surface of the paper within a fixed area B on which the laser light is irradiated, reads an interference fringe pattern imaged, and converts it into an electric signal.
用紙搬送経路上の所定位置に、搬送中の用紙の表面にレーザー光源４５からレーザー光を照射する発光部４４と、レーザー光が照射される一定領域Ｂ内の用紙表面から反射するレーザー光を受光し、結像される干渉縞パターンを読み取り、電気信号に変換するイメージセンサー４８を有する受光部４７とを備えている。 - 特許庁 - A keypad is composed of a light guide plate 220 which guides light to disperse inside, a film 247 placed on an upper surface of the light guide plate and equipped with at least one key button 245 and at least one reflective pattern 230 which is fixed facing the light guide plate and reflects a part of the light dispersed inside the light guide plate 220.
光を内部へ広げるように導くための導光板２２０と、導光板２２０の上面２２２上に配置され、その上面上に少なくとも１つのキーボタン２４５を備えるフィルム２４７と、導光板２２０に対して固設され、導光板２２０内に広がる光の一部をキーボタン２４５側に反射するための少なくとも１つの反射パターン２３０と、を含む。 - 特許庁 - A method for producing the polymer blend material comprises forming the light exposure pattern in two or more kinds of compounds selected from a group consisting of at least two kinds of monomers and/or polymers and simultaneously forming a phase separation structure in the light exposure pattern by irradiating these compounds with light having a light intensity distribution and carrying out oligomerization reaction of these compounds at reaction rate corresponding to the light intensity.
また、本発明のポリマーブレンド材料は、少なくとも二種類のモノマーおよび／またはポリマーからなる群から選ばれる二種類以上の化合物に対して、光強度分布を有する光を照射して、上記光の強度に応じた反応速度で上記化合物を多量化反応させることにより、上記化合物に露光パターンを形成するとともに、上記露光パターン内に相分離構造を形成することにより製造することができる。 - 特許庁 - The rotating reflector 26 emits the visible light from the LED units 154a, 154b as an irradiating beam by the rotational operation thereof, and forms a first light distribution pattern by making the irradiating beam scan and emits the infrared light from the infrared light unit 154c as an irradiating beam, and also forms a second light distribution pattern by making the irradiating beam scan.
回転リフレクタ２６は、その回転動作により、ＬＥＤユニット１５４ａ，１５４ｂからの可視光を照射ビームとして出射するものであり、かつ、該照射ビームを走査せしめることによって第１の配光パターンを形成するとともに、赤外光ユニット１５４ｃからの赤外光を照射ビームとして出射するものであり、かつ、該照射ビームを走査せしめることによって第２の配光パターンを形成する、ように構成されている。 - 特許庁 - A portion of the phase shift mask above the contact holes is covered with one of patterns, a portion of the phase shift mask above respective transistors and the anti-electrostatic-discharge protecting circuit in the active area has a low light transmissivity pattern, and other parts of the phase shift mask have a high light transmissivity pattern.
そのうち、コンタクトホール上方の一部の位相シフトマスクはいずれのパターンにも被覆されず、アクティブ領域内の各トランジスタ上方と抗静電放電保護回路上方の一部の位相シフトマスクは低透光率パターンを具え、位相シフトマスクのその他の部分は高透光率パターンを具えている。 - 特許庁
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