「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 63 64 65 66 67 68 69 70 71 .... 141 142 次へ＞- Thereby, a light distribution pattern formed by the light reflected by the intermediate slope 18a3 is formed to obliquely break into two light distribution patterns formed by light reflected by the first and second horizontal surfaces 18a1 and 18a2, and both the light distribution patterns are formed to be smoothly connected to each other by the provision of the corner part R.
これにより、中間斜面１８ａ３で反射した光により形成される配光パターンは、第１および第２水平面１８ａ１、１８ａ２で反射した光により形成される２つの配光パターンに対して斜めに割り込むように形成されるが、上記コーナＲの付与により両配光パターンを滑らかに繋がるように形成する。 - 特許庁 - A light shielding pattern is formed using a laminate of a film of a metal nanoparticle ink prepared by dispersing metal nanoparticles and a film of a dye ink which absorbs ≥90% of light from a light source, or a film of a mixed ink comprising a metal nanoparticle ink and a dye ink having ability to form a monolayer film which absorbs ≥90% of light from a light source.
金属微粒子を分散させた金属微粒子インクの塗膜と光源からの光を９０％以上吸収する染料インクの塗膜の積層塗膜の積層膜、又は金属微粒子インクと光源からの光を９０％以上吸収する単層塗膜形成能を持つ染料インクとの混合インクの塗膜で遮光パターンを形成する。 - 特許庁 - The vehicle light includes a first lens being a convex lens arranged on an optical axis and a planar light source arranged in the vicinity of a rear side focal point of the first lens, and forms a first light distribution pattern having a horizontal and a slanted cut-off lines at the top end part on the irradiation surface by deflection controlling the direct light from the planar light source by the convex lens.
車両用灯具は、光軸上に配置された凸レンズである第１レンズと、第１レンズの後側焦点近傍に配置された面状光源とを備え、面状光源からの直射光を凸レンズで偏向制御することにより、照射面上で上端部に水平および斜めカットオフラインを有する第１配光パターンを形成する。 - 特許庁 - The exposure equipment 1 makes exposure light 11a, 12a emitted from two light sources (a first light source 11 and a second light source 12) transmit through different light transmission areas respectively, in a predetermined pattern of a mask 13, and irradiate regions corresponding to respective bisected regions of each picture element or pixel of the alignment material film formed on an exposure object member 2.
露光装置１は、２個の光源（第１の光源１１及び第２の光源１２）から出射した露光光１１ａ，１２ａを、マスク１３の所定のパターンにおける夫々異なる光透過領域に透過させ、露光対象部材２上に形成された配向材料膜の各絵素又は画素の各分割領域に対応する領域に照射する。 - 特許庁 - Diffraction light generated by an index diffraction grating 13 is made to reinterfere with a moving diffraction grating 15; an interference pattern (periodic light intensity distribution) of the interference light is allowed to vibrate by rotational vibration of a modulation mirror 16; phase modulation of the periodic light intensity distribution is performed, and then the modulated signal is detected by a light receiving part 17.
インデックス回折格子１３で発生した回折光を、移動回折格子１５で再干渉させ、その干渉光の干渉縞（周期的な光強度分布）を変調ミラー１６の回転振動で振動させ、その周期的な光強度分布の位相変調したうえで、受光部１７でその変調信号を検出する。 - 特許庁 - The vehicle headlamp 1 forms a desired low-beam light distribution pattern by a condensing lamp unit 20 and a diffusion lamp unit 30 which have respectively semiconductor light-emitting elements 22, 32 with rectangular light-emitting faces 22a, 32a and projection lenses 21, 31 for projecting light emitted from the semiconductor light-emitting elements 22, 32 to the front of the lamp.
車両用前照灯１は、長方形の発光面２２ａ，３２ａを有する半導体発光素子２２，３２と、半導体発光素子２２，３２からの出射光を灯具前方へ投影する投影レンズ２１，３１とをそれぞれ備えた集光用灯具ユニット２０及び拡散用灯具ユニット３０によって所望のすれ違い用配光パターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a headlight device for a vehicle which, while attaining both functions of a diffusion light distribution and a condensing light distribution, can improve a layout flexibility in a light by reducing the number of LED units in the light and can attain a light distribution pattern variation in which unpleasantness in a direction of a driver's vision is controlled.
拡散配光と集光配光の両機能を併せて達成しながらも、灯具内のＬＥＤユニット数削減により、灯具内のレイアウト自由度の向上を図ることができると共に、ドライバーの視線方向に対し違和感を抑えた配光パターンの変化とすることができる車両用前照灯装置を提供すること。 - 特許庁 - Among laser light beams emitted from the junction surface 6A by a semiconductor laser 6 in this optical pickup device, an unnecessary light component 8 having a larger radiation angle but smaller light intensity than a signal light 17 incident on the signal diffraction grating 5 of a hologram element 13 is converged on two focuses P1, P2 by stray light prevention hologram pattern sections 11, 12.
この光ピックアップ装置によれば、半導体レーザ６がその接合面６Ａから出射するレーザ光のうち、ホログラム素子１３の信号用回折格子５に入射する信号光１７よりも放射角が大きく光強度が小さな不要光８を、迷光防止用ホログラムパターン部１１，１２でもって２つの焦点Ｐ１，Ｐ２に集光させる。 - 特許庁 - To detect defects in a minute wiring pattern formed on a sample by improving the contrast of an optical image of the sample formed by the interference between the zeroth and higher-order diffracted light of reflected light arising from illuminating light reflected by the sample surface, in a defects detecting optical system which detects defects in a pattern formed on the sample surface.
試料表面に形成したパターンの欠陥を検出する欠陥検出光学系において、照明光により試料表面で反射した反射光の０次光と高次回折光の干渉により形成される試料の光学像のコントラストを向上させることにより、試料上に形成された微細な配線パターンの欠陥を感度良く検出する。 - 特許庁 - To provide a mask which is used to manufacture an optical diffusing film wherein a columnar minute area having a refractive index varied in the perpendicular direction of a resin layer is formed to change the scattering property by an angle of incidence of light, and has a pattern consisting of areas for transmitting light and a pattern intercepting light and excludes an influence of occurring black defects.
樹脂層の厚み方向に屈折率が異なる柱状の微小領域を形成し、光の入射角度によって散乱性が変化する光拡散フィルムを作製するマスクで、光を透過する領域からなるパターンと、光を遮断するパターンを有し、かつ発生した黒欠陥の影響を排除したマスクを提供することである。 - 特許庁 - The pattern to be displayed is visualized by forming the transmission type diffraction grating (16) corresponding to the pattern in such a manner that when natural light transmitted and diffracted through the transmission type diffraction grating (16) is reflected and diffracted on the optical disk (14) and the reflected light (-first order diffracted light) entering the back face of the transmission type diffraction grating (16) exits perpendicular to the shell 11.
透過型回折格子（１６）を透過回折した自然光が光ディスク（１４）において反射回折し、透過型回折格子（１６）の裏面に入射した反射光（−１次の回折光）がシェル（１１）に対して垂直に射出するように、表示すべきパターンに対応して透過型回折格子（１６）を形成することで、パターンを可視化する。 - 特許庁 - During the plural number of times of imaging under pattern light with a first brightness for three-dimensional measurement, the plural number of times of imaging under pattern light with a second brightness for three-dimensional measurement and imaging under uniform light of the respective color components with the first brightness and the second brightness for obtaining brightness image data are performed.
そして、三次元計測を目的として第１輝度のパターン光の下で複数回の撮像が行われる合間に、三次元計測を目的とした第２輝度のパターン光の下での複数回の撮像や、輝度画像データを取得することを目的とした第１輝度及び第２輝度の各色成分の均一光の下での撮像が行われる。 - 特許庁 - The light diffusing ends are exposed to the display part of this display device according to a prescribed pattern, plural optical fibers are embedded, a laser beam is introduced to these optical fibers, and a light display pattern formed of the plural light diffusing ends is generated in the display part so as to provide the display means for improving the visibility.
表示装置の表示部分に、所定のパターンに従って光拡散端を露出させるようにして、複数の光ファイバーを埋設し、この光ファイバーにレーザビームを導入することにより、表示部分に複数の光拡散端によって形成される光表示パターンが生じさせることで、視認性を向上させた表示手段を提供できる。 - 特許庁 - A light reflecting mask 100 includes a reflecting layer 102 which is provided on a substrate 101 and reflects light, an absorbing layer 105 which is provided on the reflecting layer 102 and absorbs light, a device pattern which is formed in a first region of the absorbing layer 105, and the reflectance measuring pattern which is formed in a second region of the absorbing layer 105.
光反射型マスク１００は、基板１０１上に設けられ、かつ光を反射する反射層１０２と、反射層１０２上に設けられ、かつ光を吸収する吸収層１０５と、吸収層１０５の第１の領域に形成されたデバイスパターンと、吸収層１０５の第２の領域に形成された反射率測定パターンとを含む。 - 特許庁 - To provide an effective manufacturing method of a highly efficient semiconductor device which can use even ArF (argon fluoride) excimer laser light as exposure light in patterning, can control the thickening amount of a resist pattern to be fixed even if conditions such as temperature and atmosphere change, and has a fine wiring pattern or the like beyond exposure limit in a light source of an exposure device.
パターニング時に露光光としてＡｒＦ（フッ化アルゴン）エキシマレーザー光をも利用可能であり、レジストパターンの厚肉化量を温度、雰囲気等の条件が変化しても一定にコントロールすることができ、露光装置の光源における露光限界を超えて微細な配線パターン等を有する高性能な半導体装置の効率的な製法方法の提供。 - 特許庁 - The optical diffusing film wherein the columnar minute area having the refractive index varied in the perpendicular direction of the resin layer is formed to change the scattering property by an angle of incidence of light is manufactured by using the mask which has the pattern consisting of areas for transmitting light and the pattern intercepting light and in which black defects which occur are partially removed.
樹脂層の厚み方向に屈折率が異なる柱状の微小領域を形成し、光の入射角度によって散乱性が変化する光拡散フィルムを、光を透過する領域からなるパターンと、光を遮断するパターンを有し、かつ発生した黒欠陥を部分的に除去したマスクを用いることにより解決した。 - 特許庁 - The manufacturing method of the test mask includes steps of forming a pattern of a light shielding film on a glass substrate and of changing the film thickness of the light-shielding film in the pattern, wherein the step of changing the film thickness of the light-shielding film is repeated to produce a test mask.
テストマスクは、数種類の透過率を有し、かつ各々の種類の透過率において寸法の異なるパターンを有するようにしたものであり、テストマスクの製造方法は、ガラス基板上の遮光膜のパターン形成を行う工程と、パターンの遮光膜の膜厚を変える工程と、を備え、前記遮光膜の膜厚を変える工程を繰り返し、テストマスクを作製する。 - 特許庁 - A signal body 61 has an attachment portion 61a attachable to or detachable from a connecter, at least one signal light, and a wiring pattern electrically connecting the attachment portion 61a and the signal light.
信号機本体６１は、コネクタに着脱自在な取付部６１ａと、少なくとも一つの信号灯と、取付部６１ａと信号灯との間を電気的に接続する配線パターンとを備える。 - 特許庁 - The light of the LED is reflected to a vehicle front by the mirror 3, and the mirror 3 is reciprocally rotated by the scanning actuator 4, and a light distribution pattern is formed in an illumination area by the periodic motion of the mirror 3.
ＬＥＤの光をミラー３で車両前方に反射させ、ミラー３を走査用アクチュエータ４で往復回動し、ミラー３の周期運動により照明領域に配光パターンを形成する。 - 特許庁 - Further, by arranging the positions of the p-type electrodes and n-type electrodes in such a way that they may be shifted mutually, the light emitting point in the light emitting layer 2 is controlled according to a selection pattern of the p-type electrodes and n-type electrodes.
そして、ｐ型電極とｎ型電極とを互いに位置をずらして配置し、ｐ型電極とｎ型電極との選択パターンによって発光層２における発光点を制御する。 - 特許庁 - The lower end portion of the second reflector 12 is positioned near the focus Fo of the projection lens 8 and has a light and darkness boundary forming portion 12b for forming a cut line of a low-beam light distribution pattern.
第２リフレクタ１２の下端部は、投影レンズ８の焦点Ｆｏ近傍に位置するとともに、すれ違い配光パターンのカットラインを形成する明暗境界形成部１２ｂを備えている。 - 特許庁 - To provide a light guide pattern processing method and machine to efficiently manufacture a light guide plate of various patterns and sizes in a short time by directly impacting the surface with chips.
チップを用いて加工面を直接打撃して様々な形と大きさのパターンに導光板を短時間に効率よく製造できるようにした導光板のパターン加工方法及びその装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method which can manufacture a light transmissive electromagnetic shielding material using a simple method, which is excellent in light transparency, electromagnetic wave shielding property, appearance, and visibility, and has a highly precise mesh pattern.
光透過性、電磁波シールド性、外観性、および視認性に優れ、高精度のメッシュパターンを有する光透過性電磁波シールド材を、簡易な方法で製造することができる製造方法を提供する。 - 特許庁 - The aligner carrying out an exposure process by projecting a prescribed pattern of light onto a wafer is equipped with a stage 2 on which the wafer is placed and a light irradiating unit 6.
ウェーハに所定のパターンで光を照射して露光を行なう露光装置は、ウェーハを載置するためのステージ２と、ステージ２上に載置されたウェーハに対して光を照射する光照射部６とを有する。 - 特許庁 - When the two alignment marks are detected, the work stage 3 is shifted so that they should become a predetermined positional relationship, and thus, exposing light is irradiated from the light emitter 1 so as to expose the mask pattern to the work piece W.
２つのアライメントマークが検出されると、それらが所定の位置関係になるようにワークステージ３を移動し、光照射部１から露光光を照射し、ワークＷにマスクパターンを露光する。 - 特許庁 - When the light meanders, energy of a near foot part of a meandered side is absorbed to a high refractive index region part, and the center of the intensity of the light comes closer to the center side of the core pattern 101 to correct meandering.
光が蛇行すると蛇行した側の裾野部のエネルギが高屈折率領域部に吸収され、光は強度の中心がコアパターン１０１の中心側に寄せられて、蛇行が補正される。 - 特許庁 - To provide an imaging device capable of using a simple structure to block a light beam entering a device body from a penetrated terminal hole, without requiring a dedicated light-blocking member or conductive foil pattern.
専用の遮光部材や導箔パターンを必要とすることなく、簡単な構造で貫通した端子穴から装置本体の内部に進入する光線を遮光することができる撮像装置を提供する。 - 特許庁 - This crystallization apparatus, which is provided with a mask (1) and an illumination system (2), applies light having light intensity distribution with inverted peak pattern on a semiconductor film (3) via the mask to form a crystallized semiconductor film.
マスク（１）を照明する照明系（２）を備え、マスクを介して逆ピークパターンの光強度分布を有する光を半導体膜（３）に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。 - 特許庁 - The aberration-measuring mask for measuring the lens aberrations of an exposure device is provided with a substrate for transmitting exposure light of the exposure device, and a pattern part inverting the phase of the exposure light by 180 degree.
露光装置のレンズ収差を測定するための収差測定用マスクにおいて、露光装置の露光光を透過する基板と、露光光の位相を１８０度反転させるパターン部とを備える。 - 特許庁 - The plurality of the first light sources P1 are arrayed in a first array pattern so that an in-plane luminous distribution can be uniform at a prescribed height when the first light source group only is lighted as a whole.
複数の第１の光源Ｐ１は、第１の光源グループのみを全体的に点灯させた場合に所定の高さでの面内輝度分布が一様となるように第１の配列パターンで配列する。 - 特許庁 - To provide an imaging system capable of performing excellent photography even when arrangement of a stroboscope changes and pattern light projection can not be performed to a subject in photography using auxiliary light.
補助光を使用した撮影に際して、ストロボの配置が変化して被写体にパターン投光をすることができなくなった場合でも、良好な撮影を行うことができる撮像システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a laser emitting device which prevents an interference pattern when laser light is used as a light source without enlarging or complicating the device, or lowering illuminance.
装置の大型化及び煩雑化をもたらすことなく、また照度の低下をもたらすことなく、レーザ光を光源に使用した場合の干渉縞の発生を防止することができるレーザ照明装置を提供する。 - 特許庁 - At that time, blue light is irradiated from an additional lamp unit for forming light distribution pattern for lane mark irradiation PA and thereby, visibility of the lane mark LM1 is increased sufficiently.
その際、このレーンマーク照射用配光パターンＰＡを形成するための付加灯具ユニットからは青色光が照射される構成とし、これによりレーンマークＬＭ１の視認性を十分に高める。 - 特許庁 - When a control part 113 designates a calibration pattern in DMD 106, LED light from a LED light source 116 is space-modulated by the DMD 106 and is irradiated on a workpiece 102.
制御部１１３がＤＭＤ１０６にキャリブレーションパターンを指定すると、ＬＥＤ光源１１６からのＬＥＤ光は、ＤＭＤ１０６により空間変調されて被加工物１０２上に照射される。 - 特許庁 - To provide a fine pattern forming method which obviates the occurrence of the deterioration in dimensional accuracy by the influence of reflected light, etc., from a light shielding body surface in projection exposing using a phase shift mask having high phase angle controllability.
位相角制御性の高い位相シフトマスクを用い投影露光時に遮光体面からの反射光等の影響による寸法精度劣化の生じない微細パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - The method is characterized by polarization-diverging an optical detection path to arrange array-like spatial filters on at least one or more optical paths and to filter diffracted light and scattered light from a normal pattern.
検出光路を偏光分岐して少なくても一つ以上の光路にてアレイ状の空間フィルタを配置し、正常パターンからの回折光や散乱光をフィルタリングすることを特徴とする。 - 特許庁 - The rear surface 7 of the light guide plate 2 has a pattern 12 having a sloping surface with a slope angle of smaller than 90° and 75° or above in the thickness direction of the light guide plate 2.
また、導光板２における背面７側の面には、導光板２の厚さ方向に対して９０度より小さく７５度以上の傾斜角度の傾斜面を有するパターン１２が形成されている。 - 特許庁 - A front face or a back face of the cover 54 is provided with a contrast pattern to radiate light beams having predetermined constant solid angles i.e., equal solid angle light beams.
カバー５４の表面または裏面には、光源５２から予め定めた一定の立体角による光線が射出されるように、すなわち、等立体角光線を射出するための明暗パターンが設けられている。 - 特許庁 - Many micro light sources Pa, Pb,... are defined on the respective three-dimensional surfaces 11, 12 constituting the original picture 10 and the information on the micro light sources is recorded as a hologram pattern on a recording surface 20.
原画像１０を構成する立体の各面１１，１２上に多数の微小光源Ｐａ，Ｐｂ，…を定義し、これら微小光源の情報を記録面２０上にホログラムパターンとして記録する。 - 特許庁 - To provide a vehicle headlight suited for a headlight, a sub headlight or the like, so made to obtain a desired light-distribution pattern with the use of a plurality of LED elements as a light source.
本発明は、光源として複数個のＬＥＤ素子を使用して、所望の配光パターンを得るようにした、前照灯，補助前照灯等に適した車両前照灯を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The angular pattern of a diffraction grating having different diffraction efficiencies of positive side diffracted light and negative side diffracted light of the same order is transferred to the top of a wafer to form a transferred image TP1W on the wafer.
まず、同一次数の正側の回折光と負側の回折光との回折効率が異なる回折格子の山形のパターンをウエハに転写し、ウエハ上に転写像ＴＰ１Ｗを形成する。 - 特許庁 - A daytime running lamp light distribution pattern is formed in such a manner that the lights L2, L3 emitted by the daytime running lamp light source 31 may be reflected by the headlamp reflector 25 and the daytime running lamp reflector 33.
デイタイムランニングランプ用光源３１からの光Ｌ２，Ｌ３が、ヘッドランプ用リフレクタ２５及びデイタイムランニングランプ用リフレクタ３３に反射されてデイタイムランニングランプ用配光を形成するように構成する。 - 特許庁 - The position of the diffusion plate is controlled in such a manner that a desired diffusion pattern generating region is placed on the optical path where the laser light passes while the laser light is outputted based on the detected identification information.
検出された識別情報に基づいて、レーザ光が出力されている時に、所望の拡散パターン生成領域がレーザ光が通過する光路上にくるように、拡散板の位置を制御する。 - 特許庁 - The ultraviolet curing type resin coating material on the printing paper is cured by the irradiation with the ultraviolet light from an ultraviolet light irradiation apparatus 4 to carry out the gloss finish or the gloss finish and the transfer of a pattern.
印刷紙上面の紫外線硬化樹脂塗料は紫外線照射装置４から紫外線の照射を受けて硬化し印刷面に対して艶出し又は艶出しと絵柄の転写が行われる。 - 特許庁 - A stepper 1 is formed so that an integrated circuit pattern formed on a reticule is reduced with a projection lens 22 by the use of ArF excimer laser light from a light source 11 and then exposed on a wafer 30.
光源１１からのＡｒＦエキシマレーザ光により、レチクル２１に形成された集積回路パターンが投影レンズ２２により縮小されてウエハ３０上に露光されるようにステッパー１を構成する。 - 特許庁 - The pattern forming resist contains (a) a compound having an acid decomposable substituent, (b1) a compound which generates a strong acid when irradiated with light and (b2) a compound which generates a weak acid when irradiated with light.
（ａ）酸により分解する置換基を有する化合物と、（ｂ１）光照射により強酸を発生する化合物と、（ｂ２）光照射により弱酸を発生する化合物とを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - At a periphery of the sub mount substrate 2, a side wall 10 composed of a ring-shaped black absorbing member is provided so as to suppress glare light of a light distribution pattern on the lower side of the LED chip 5-1.
サブマウント基板２の周囲には、LEDチップ５−１の下方側の配光パターンのグレア光を抑制するためにリング状の黒色吸収部材よりなる側壁１０が設けられている。 - 特許庁 - A light condensing and/or diffusing optical pattern 33 and two-dimensionally and independently disposed static charge and deformation preventing projecting parts 32 are provided at a light emission surface 31a side of the optical sheet 1.
光学シート１の射出面３１a側に、集光及び／または拡散させる光学パターン３３と、二次元的に独立して配置された帯電・変形防止凸部３２とが設けられている。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a light transmissive dial capable of eliminating a black coating layer to reduce a manufacturing cost, and capable of regenerating a pattern on a surface of an attaching object, and to provide the light transmissive dial.
黒塗装層を省略して製造コストを低減でき、かつ、取付対象の表面の模様を再現できる光透過性文字板の製造方法、および光透過性文字板を提供する。 - 特許庁 - To reduce visibility of dots in a scattering reflection pattern of a light guide plate, and also to achieve high luminance and thinning, concerning a surface light source device and a backlight unit with the same, and an image display apparatus with the backlight unit.
面光源装置、及びこれを備えるバックライトユニット及び画像表示装置において、導光板の散乱反射パターンのドットの視認性を低減するとともに、高輝度・薄型化を図る。 - 特許庁
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