「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 66 67 68 69 70 71 72 73 74 .... 141 142 次へ＞- To provide a foreign object inspecting apparatus capable of increasing S/N ratio when the quantity of detection light from a foreign object and that from a pattern are set to be S and N, respectively, when inspecting the foreign object on a substrate having a pattern.
パターン付き基板の異物検査において、異物からの検出光の光量をＳ、パターンからの検出光の光量をＮとしたときのＳ／Ｎ比を向上させることができる異物検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a low cost ornamental display device in a game machine providing a highly ornamental effect by allowing a pattern itself to brightly emit a light, facilitating the change in a design pattern, and having a superior handling property.
模様自体が明るく発光して高い装飾効果が得られ、意匠パターンの変更が容易であり、低価格且つ安価で取り扱いに優れた装飾効果の高い遊技機における装飾表示装置を提供する。 - 特許庁 - The optical processing element has a pattern formed by arraying a plurality of metal fine structural bodies, having a diameter D<λ to incident light, having a wavelength λ of linear shape on a substrate at an interval d1<D as a unit array pattern.
波長λの入射光に対し、直径ＤがＤ＜λである金属微細構造体の複数個を基板上に間隔ｄ１＜Ｄで離隔して直線状に配列させたパターンを単位配列パターンとする。 - 特許庁 - To provide a multicolor light-emitting device with a high degree of preciseness, which can selectively and finely pattern-form a color conversion layer without using a metal mask having a problem regarding the degree of preciseness, when the color conversion layer is pattern-formed.
色変換層をパターン形成する際に、精細度に問題があるメタルマスクを使わずに、色変換層を微細に選択的にパターン形成する、精細度の高い多色発光デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The game board 501 is provided with a segment display part 10 and a surface light emitting part 18, and three special pattern display parts 551 are disposed in a line as a display unit (a display device 11) displaying a single pattern.
遊技盤５０１には、セグメント表示部１０と面発光部１８とを備え１つの図柄を表示する表示ユニット（表示装置１１）として特別図柄表示部５５１が３個一列状に配置されている。 - 特許庁 - To provide an inspection method of a pattern defect capable of stably detecting a target defect in various processes by reducing the misdetection of grain or morphology or the effect of interference light intensity irregularity, and an inspection device of the pattern defect.
グレインやモホロジーの誤検出や干渉光強度ムラの影響を低減して、様々なプロセスにおけるターゲット欠陥を安定に検出できるパターン欠陥検出方法及びその装置を提供すること。 - 特許庁 - The amplified spontaneous light is amplified in the line pattern, and emitted from the end surface of the line pattern.
基板、および該基板上に載置した、所定の励起光を照射することにより、蛍光を発する＋３価の非対称型希土類イオン錯体を導入した透明マトリックスから成る薄膜を備えたレーザー発振装置を作製する。 - 特許庁 - Coins 100 are conveyed one by one and irradiated with slit pattern light penetrating a slit pattern 113 with a first region which a first color component penetrates and a second region which a second color component penetrates alternately arranged.
硬貨１００を一枚ずつ搬送し、第1の色成分を透過する第１の領域と第２の色成分を透過する第２の領域とを交互に配置したスリットパターン１１３を透過したスリットパターン光を照射する。 - 特許庁 - To obtain the resolution sufficiently coping with the fining tendency in the case of exposing a pattern by using extreme ultraviolet light, and to avoid defects such as a difference from line width and positional deviation of the pattern.
極短紫外光を用いて露光を行う場合に、微細化の進展に十分に対応可能な解像性を得られるようにし、さらには線幅の相違やパターンの位置ずれ等といった不具合を招かないようにする。 - 特許庁 - In the 'remote control set state', the microcomputer 12 extracts a code pattern from a signal transmitted from the remote controller of the other equipment and supplied via a light receiving part 117 and correlates this code pattern with the identification information.
「リモコン設定状態」におけるマイコン１２は、他の機器のリモコンから送信され受光部１１７を介して供給された信号からコードパターンを抽出し、これと上記識別情報とを対応付ける。 - 特許庁 - To provide an image pickup method capable of always providing an optimum quality of a vein pattern, in image pickup of a vein pattern of a finger by transmitted light, without being affected by a difference, if any, of an external environment.
透過光による指静脈パターンの撮像において、外部環境の違いがあっても、それに影響されることなく、常に最適な静脈パターンの品質が得られる撮像方式を提供することにある。 - 特許庁 - The difference between the light transmittance of the inside of the larger pattern 1a and that of the periphery of the pattern 1a therefore becomes smaller than the difference in transmittance between the insides of the smaller patterns 1b and the peripheries of the patterns 1b.
そのため、大パターン１ａの内側の光の透過率と大パターン１ａの周囲の光の透過率との差が小パターン１ｂの内側と小パターン１ｂの周囲との透過率の差よりも小さくなる。 - 特許庁 - After a resist pattern formation process with a prescribed layer of a semiconductor wafer, a selected wafer is irradiated with an inspection light which causes fluorescence emission in the resist pattern, for example, ultraviolet ray (UV) of a prescribed wavelength band.
半導体ウェハ所定層におけるレジストパターン形成工程終了後、選ばれたウェハは、そのレジストパターンに対して蛍光発光させる検査用の光、例えば所定の波長帯を有する紫外線（ＵＶ）を照射する。 - 特許庁 - To give a functional group to the surface of a pattern organizer, and to provide a manufacturing method for the pattern organizer that does not require any post treatment or the like after exposure to light.
本発明は、パターン形成体の表面に官能基を付与することが可能であり、かつ露光後の後処理等が不要であるパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁 - To provide an inexpensive decorative display device in a game machine which can obtain a high decorative effect by making a pattern itself brightly emit light, easily change a design pattern, is excellent in handling and has the high decorative effect.
模様自体が明るく発光して高い装飾効果が得られ、意匠パターンの変更が容易であり、且つ安価で取り扱いに優れた装飾効果の高い遊技機における装飾表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a template, which has light transmittance, mold releasability, durability, mechanical strength, shape stability and the dimensional precision of a fine pattern and also has the fine pattern for molding a photosetting resin.
光透過性、離型性、耐久性、機械的強度、形状安定性を備え、かつ微細パターンの寸法精度を備える、光硬化性樹脂を成形するための微細パターンを有するテンプレートの製造方法の提供。 - 特許庁 - To provide a structure of bonding pattern for improving a degree of freedom for selection of a pattern material, and for obtaining a sufficient power supplying/heat radiating structure in a high-output light emitting element.
パターン材料選択上の自由度を高めることができるとともに、高出力型の発光素子における十分な電力供給・放熱構造を得ることができる接合用パターンの構造を提供する。 - 特許庁 - The uneven pattern 40 in which a part of the repeatedly formed uneveness is deficient is formed on the surface of the recording medium 30 so as to be corresponding to the information, and the uneven pattern 40 is reproduced using the near-field light.
記録媒体３０の表面に、繰り返し形成された凹凸の一部が欠損されている凹凸パターン４０が情報に対応して形成され、この凹凸パターン４０を、近接場光を用いて再生する。 - 特許庁 - When the pattern painting material is to be placed, the pattern painting materials in matched colores are used corresponding to the circumferential concrete face, a dark color is selected from the lightest color in order to be placed so as to control light and shade.
紋様塗装材の打ち込みに際しては、周囲コンクリート面の淡色に合わせて調色した複数の紋様塗装材を用い、最も淡い色から順次濃い色を選択して打ち込み、濃淡を制御する。 - 特許庁 - A reticle 11 made of a glass substrate as a photomask is provided with a light shielding film pattern 12 relating to formation of elements and integrated circuits on a semiconductor wafer as well as with an auxiliary pattern 13 which corrects degeneracy of lines due to influences of the optical proximity effect during exposure in an isolated pattern P1 in at least a sparse pattern region, as shown in Figures (a) and (b).
図１（ａ），（ｂ）において、フォトマスクとして、ガラス基板であるレチクル１１に、半導体ウェハ上への素子及び集積回路形成に関する遮光膜パターン１２と共に、少なくとも疎パターン領域における孤立パターンＰ１に、露光時の光近接効果の影響によるライン縮退を補正する補助パターン１３が付加されている。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method by tilting a light modulating means to image for exposure, by which a permanent pattern such as a wiring pattern is efficiently formed with high definition by forming a desired imaged pattern on an exposure face of a photosensitive layer while suppressing production of jaggy without decreasing an exposure speed.
前記光変調手段を傾斜させて描画を行う露光を行うパターン形成方法において、露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ効率よく形成可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In a barcode pattern recording method for recording a barcode pattern in an optical disk having a data area including a signal to be read by light irradiation, and a reflective film formed on the data area, a barcode pattern is formed in the reflective film on the data area by a laser, and the barcode pattern is formed on the track of the optical disk.
光の照射により読み取り可能な信号を含むデータ領域と、前記データ領域の上に形成された反射膜とを備えた光ディスクにバーコードパターンを記録する方法であって、前記データ領域の上の前記反射膜にレーザーによりバーコードパターンを形成し、前記バーコードパターンが前記光ディスクのトラック上に形成されるバーコードパターン記録方法。 - 特許庁 - Using a translucent mold structure having a mold pattern corresponding to a portion wherein a pattern is formed by nanoimprint and a pattern composed of a conductive film which corresponds to a portion wherein a pattern is formed by diabatic near-field exposure, ultraviolet light is irradiated on the rear face of the mold structure simultaneously in an imprint process to perform diabatic optical near-field exposure.
ナノインプリントによりパターンを形成する部位に対応するモールドパターンと、非断熱近接場露光によりパターンを形成する部位に対応する導電膜によるパターンを有する透光性のモールド構造を使用し、インプリント工程時に同時にモールド構造背面より紫外光を照射し、非断熱近接場光露光を行う工程を行う。 - 特許庁 - The device for providing a pattern for calibration includes: a hologram 1 on which the pattern for calibration composed of a plurality of feature points arranged with a depth is recorded as a three-dimensional image and which is installed so that the recorded pattern for calibration is imaged by the imaging apparatus 3; and an illumination 2 irradiating the hologram 1 with predetermined illumination light, so that the pattern for calibration is reproduced.
奥行きをもって配置された複数の特徴点からなる校正用パターンが三次元像として記録され、記録された校正用パターンを撮像装置３により撮像可能に設置されるホログラム１と、ホログラム１に対して、校正用パターンを再生可能に所定の照明光を照射する照明２とを備えた。 - 特許庁 - The pattern 4 of the first decorative layer 6 is concealed and the pattern 8 of the second decorative layer 10 is expressed at an angle at which the multi- reflection ink of the second decorative layer 10 reflects light, while the pattern 8 of the second decorative layer 10 is concealed and the pattern 4 of the first decorative layer 6 is expressed at an angle different from the above.
前記第２の装飾層１０の多重反射性インキが光を反射する角度からは前記第１の装飾層６の図柄４が隠蔽され前記第２の装飾層１０の図柄８が表出され、そうでない角度からは前記第２の装飾層１０の図柄８が隠蔽され前記第１の装飾層６の図柄４が表出される、 - 特許庁 - Since a display pattern, a sound effect pattern and a light emission pattern as a series of variation patterns of the variable display is designated at a time by a variation pattern designating command, it is not necessary to transmit control commands to respective control boards S, D, M, and L from the main control board C at each point where the state of the variable display changes.
変動パターン指定コマンドによって変動表示の一連の変動パターンとしての表示パターンと効果音パターンと発光パターンとを一度に指定することができるので、変動表示の状態が変化する各ポイント毎に、主制御基板Ｃから各制御基板Ｓ，Ｄ，Ｍ，Ｌへそれぞれ制御用コマンドを送信する必要がない。 - 特許庁 - It also includes a step for etching the work with the resist pattern as a mask, a step for radiating the light of photosensitizing wavelength band for the photosensitizer to the resist pattern through the photomask, a step for etching the work with the resist pattern as the mask, and a step for removing the resist pattern on the work.
また、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、若しくは、前記レジストパターンに、フォトマスクを介して前記感光剤の感光波長域の光を照射するステップ、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、前記被加工物上の前記レジストパターンを除去するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁 - In this card, at least one face is provided with a first dot pattern in which coordinate values or code values are patterned in a predetermined disposition direction and recognized by predetermined irradiating light, and the area where the first dot pattern is disposed is provided with a second dot pattern in which the above values are patterned in the disposition direction different from that of the first dot pattern.
少なくとも一面に座標値またはコード値を所定の配置方向でパターン化し所定の照射光により認識可能な第１のドットパターンが設けられ、前記第１のドットパターンが設けられた領域に前記第１のドットパターンとは異なる配置方向でパターン化された第２のドットパターンが設けられたカードとした。 - 特許庁 - Also, the method includes a step of etching the workpiece with the resist pattern as a mask, or a step of irradiating the resist pattern with light in a photosensitive wavelength range of the photosensitizer via a photomask, a step of etching the workpiece with the resist pattern as a mask, and a step of removing the resist pattern on the workpiece.
また、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、若しくは、前記レジストパターンに、フォトマスクを介して前記感光剤の感光波長域の光を照射するステップ、前記レジストパターンをマスクとして前記被加工物をエッチングするステップ、前記被加工物上の前記レジストパターンを除去するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁 - To surely perform recognition processing even for an electronic component which is formed of a light transmitting material and for which a pattern is executed on the bottom surface.
光を透過する材質で作製されると共にその底面にパターンが施された電子部品であっても、確実に認識処理できること。 - 特許庁 - When the prism members 14S, 14W are positioned in the first location by means of the switching device 15, a light distribution pattern HP for high beam is illuminated.
また、切替装置１５でプリズム部材１４Ｓ、１４を第１位置に位置させたときには、ハイビーム要配光パターンＨＰが照射される。 - 特許庁 - The light source part 2 of the lamp tool 1 lights up in a flash emission pattern of a firefly type gently repeating lighting on and off.
この車両用灯具１では、光源部２が緩やかに点灯および消灯を繰り返すホタル型の点滅発光パターンにて点灯する。 - 特許庁 - To reduce the amount of displacement of an exposure pattern on a substrate by uniformizing intensity distribution of illuminating light irradiated on a fly's eye lens.
フライアイレンズに照射される照明光の強度分布を均一化することによって、基板上の露光パターンの位置ずれ量を減少させる。 - 特許庁 - A second shade 40 forms a partial shape of the low-beam light distribution pattern in a traveling lane area with the backward focal position as an advance position.
第２シェード４０は後方焦点位置を進出位置として走行車線領域にロービーム用配光パターンの一部形状を形成する。 - 特許庁 - In the color filter 100, a light-shielding region 20 and a transmission region 30 are arranged in a specified matrix pattern on a transparent substrate 10.
カラーフィルタ１００は、透明な基板１０上に、遮光領域２０と透過領域３０とが、所定のマトリクスパターンで配列されている。 - 特許庁 - To provide a light source device of superior quality which is free of a decrease in luminance and further free of a defect of outward appearance such as a black stripe, an interference pattern, etc.
輝度の低下を招くことなく、黒筋や干渉模様などの外観上の欠陥のない品位に優れた光源装置を提供する。 - 特許庁 - The center of gravity is calculated for each divided image to extract the intermediate concentration (S214-S218), which is defined as the mask image of the border of the light-and- shade pattern.
分割画像毎に重心計算して中間濃度を抽出し（Ｓ２１４〜Ｓ２１８）、これを明暗パターンの境界のマスク画像とする。 - 特許庁 - To solve the problem that a precise pattern can not be formed in an ArF resist for exposure to ArF excimer laser light because of inferior durability of the resist against fluorine-based dry etching.
ＡｒＦエキシマレーザ露光用のＡｒＦレジストは、弗素系ドライエッチング耐性が劣るため精密なパターンを形成することができない。 - 特許庁 - To provide a hologram illuminating method for engendering an vividly colored and dreamy atmosphere in an ambient by using reflected hologram pattern light.
ホログラム反射模様光を利用して、周囲に彩色鮮やかで幻想的な雰囲気をかもし出すホログラム照明方法を提供すること。 - 特許庁 - A performance determining means selects a special performance pattern for lighting the infrared light emitter from the held plurality of special performance patterns.
演出決定手段は、保持された複数の特殊演出パターンから、赤外線発光装置を発光させる特殊演出パターンを選択する。 - 特許庁 - A wiring pattern 131, an anisotropic conductive film 132, a panel terminal part 134 or the like are formed on the light shielding layer 136.
この遮光層１３６の上には、上記の配線パターン１３１、異方性導電膜１３２、パネル端子部１３４などが形成されている。 - 特許庁 - The blind device giving no sharp visual image of the background transmitting the device uses a Fourier transform hologram which transforms a point light source into a desired pattern.
透過する背景が鮮明に見えない目隠し装置において、点光源を所望のパターンに変換するフーリエ変換ホログラムを用いる。 - 特許庁 - To accurately control the scanning speed of the rays of light to scan a semiconductor wafer in accordance with the pattern of a lower layer in scan-and-repeat type exposure.
スキャンアンドリピート型の露光において、半導体ウェハ上を走査される光の走査速度を下層のパターンに合わせて正確に制御する。 - 特許庁 - As shown in Fig. 1(b), the photo resist layer 14 is exposed to light, thereby forming a passage pattern 14A about 10 μm wide by lithography.
そして、図１（ｂ）に示すように、このフォトレジスト層１４が露光され、リソグラフィにより幅約１０μｍの流路パターン１４Ａが形成される。 - 特許庁 - At this time point, a light image 52 is displayed on the circumference of the capsule 51b and the variable display speed of the middle pattern varying in the image is lowered (c).
このとき、カプセル５１ｂの周囲に光の画像５２が表示され、その中で変動する中図柄の変動表示速度が低下する（ｃ）。 - 特許庁 - The light-emitting pattern forms a time-varying optical recognition code representing desired data by changing its color along the temporal axis.
この発光パターンは、時間軸に沿って色彩が変化することによって所望のデータを表す時間変化型光学式認識コードを形成する。 - 特許庁 - To provide a method for modifying the void defective part of a photomask capable of accurately modifying the void defective part of the light shielding pattern of the photomask.
フォトマスクの遮光パターンの白欠陥を精度良く修正できるフォトマスクの白欠陥の修正方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A photosensitive conductor paste on a substrate that is applied in an application process S11 of a conductor pattern formation process S1 is exposed to light in an exposure process S12.
導体パターン形成工程Ｓ１の塗布過程Ｓ１１で塗布した基板上の感光性導体ペーストを露光過程Ｓ１２で露光する。 - 特許庁 - The detection part detects brightness of the surface of the object to be measured including components of the pattern light and components of illumination due to the auxiliary illumination part.
検出部は、パターン光の成分と補助照明部による照明の成分とを含む測定対象物の表面の明るさを検出する。 - 特許庁 - To reduce a substrate size of an LED light-emitting device by reducing a width of a bonding area of a conductive pattern of the substrate for bonding a wire.
ＬＥＤ発光装置において、ワイヤをボンディングする基板の導電パターンのボンディング領域の幅を小さくして、基板のサイズを小さくする。 - 特許庁
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