「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 68 69 70 71 72 73 74 75 76 .... 141 142 次へ＞- OPTICAL FILM WHICH HAS PATTERN OF TWO OR MORE COLOR TONES, MANUFACTURING METHOD OF THE OPTICAL FILM, COLOR CONVERSION FILTER USING THE OPTICAL FILM, AND MULTI-COLOR LIGHT-EMITTING DEVICE
複数の色調のパターンを有する光学フィルム、その製造方法、およびそれを用いた色変換フィルタおよび多色発光デバイス - 特許庁 - To provide a halftone phase shift mask capable of giving suitable light transmission to a halftone film according to the size of a pattern.
パターンの寸法に応じて適切な光透過率をハーフトーン膜に対して与えることが可能なハーフトーン型位相シフトマスクを提供すること。 - 特許庁 - When the 1st and 2nd divisions are exposed to electromagnetic radiation, a line or dot pattern is generated in the boundary part between the divisions by the cancellation of light.
第１と第２の区分は、電磁放射に露光されるとき、光の相殺により区分の境界部に線または点のパターンを発生する。 - 特許庁 - The polarized state of an incident light to the mask or the substrate is stabilized, and the pattern on the mask is exposed on the substrate.
マスクまたは感光性基板への入射光の偏光状態を安定化させ、その後にマスク上のパターンを感光性基板上に露光する。 - 特許庁 - In the photomask, a light shielding film is formed in a pellicle frame-mounting region in the outer periphery of a pattern region on a transparent substrate.
透明基板上のパターン領域の外周におけるペリクルフレーム装着領域に遮光膜が形成されていることを特徴とするフォトマスク。 - 特許庁 - To transfer a designated pattern well even when an exposure light over the wavelength of 200 nm is used in an exposure process using a resist mask.
レジストマスクを用いた露光処理において波長２００ｎｍを越える露光光を用いる場合でも、所定のパターンを良好に転写する。 - 特許庁 - A picture frame pattern 32 to prevent light leakage on the periphery of the display region is arranged on the outer circumference of the display region on the array substrate.
アレイ基板上において、表示領域の外周には、表示領域周縁の光漏れを防止する額縁パターン３２が設けられている。 - 特許庁 - To optically inspect the deformation of a cylindrical object from the reflected light from the object even if the inspected object has a pattern.
検査対象物に柄や模様がある場合にも、物体の反射光から円筒状対象物の変形を光学的に検査できるようにする。 - 特許庁 - To obtain a resist material which causes neither surface roughness nor pattern roughness to exposure light of which the wavelength is 300 nm band or less.
波長が３００ｎｍ帯又はそれ以下の露光光に対して、表面荒れ及びパターンラフネスが生じないレジスト材料を得られるようにする。 - 特許庁 - To control the characteristics such as a line width of a pattern to be transferred using other characteristics than the upper limit of the spectrum width as spectrum characteristics of laser light.
レーザ光のスペクトル特性として、スペクトル幅の上限値以外の特性を用いて、露光されるパターンの線幅等の特性を制御する。 - 特許庁 - To provide a light permeable electromagnetic shield material and its manufacturing method having a highly precise mesh pattern conductive layer which can be easily acquired.
容易に得ることができる、高精度のメッシュパターン導電層を有する光透過性電磁波シールド材、及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a halftone phase shift mask capable of giving suitable light transmissivity to a halftone film according to the size of a pattern.
パターンの寸法に応じて適切な光透過率をハーフトーン膜に対して与えることが可能なハーフトーン型位相シフトマスクを提供すること - 特許庁 - To provide an exposure technique inexpensively forming a fine pattern under wavelength grade of an illumination light and acquiring high alignment accuracy.
照明光の波長程度以下の微細パターンを、安価に形成可能であるとともに高い重ね合わせ精度が得られる露光技術を提供する。 - 特許庁 - The waveform pattern PT is set so that relaxation oscillation specific to the laser light source is produced larger as the scanning speed Vh is lower.
この波形パターンＰＴは、走査速度Ｖhが遅くなるほどレーザ光源固有の緩和振動を多く生じさせるように設定されている。 - 特許庁 - The mount 3 uses a multilayer substrate, and a conductive pattern 3a formed on its surface layer is electrically connected to the semiconductor light-emitting element 2.
マウント部材３に多層基板を用い、その表層に形成された導電性パターン３ａと半導体発光素子２とを電気的に接続する。 - 特許庁 - This structural double refraction pattern PT has a prescribed angle and the light quantity condensed onto the resist substrate 30 varies according to this angle.
この構造性複屈折パターンは、所定の角度を有しており、レジスト基板３０上に集光される光量はこの角度に応じて異なる。 - 特許庁 - To provide a functional sheet having a minute dot pattern reliably recognized by an infrared camera in spite of transparency to a visible light.
可視光に対して透明でありながら、赤外線カメラによって確実に認識される、微細なドットパターンを有する機能性シートを提供する。 - 特許庁 - Stamping includes pressing a stamping block having a shape and pattern that are the inverse of the desired optical element against the surface of a light emitting diode.
スタンピングは、所望の光学エレメントを逆にした形状及びパターンスタンピングブロックを発光ダイオードの面に対してプレスする工程を含む。 - 特許庁 - To provide an electron beam projection exposure system for efficiently determining the sectional shape of an electron beam for exposing to a pattern to be exposed to light.
露光すべき電子ビームの断面形状を、露光すべきパターンに対して効率よく定めることができる電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁 - Increase of surface gloss of the coating film is suppressed and Moire pattern of light can be made less noticeable by formulation with the thermoplastic fluororesin.
熱可塑性フッ素樹脂の配合により、コーティング膜の表面光沢の増加を抑え、光の干渉模様を目立たなくすることができる。 - 特許庁 - To arrange a light emitting region with a variety of patterns without relying on an arrangement pattern in the formation region of a TFT or the like in an organic EL display device.
有機ＥＬ表示装置において、ＴＦＴ等の形成領域の配列パターンに依らずに、発光領域を多様なパターンで配置する。 - 特許庁 - Originating on the scratch 24, the single crystal wafer 12 is cleaved along a cleavage direction in a direction from the dummy pattern 18 toward the light emitting part 11.
このキズ２４を起点としてダミーパターン１８から発光部１１に向かう方向に単結晶ウェハ１２を劈開方位に沿って劈開する。 - 特許庁 - The known pattern is read by projecting the first reference light and a tap coefficient obtained thereby is stored (S1-S3).
まず、既知パターンを第１の参照光を照射して読み出して等化処理を行い、それにより得られたタップ係数を記憶する（Ｓ１〜Ｓ３）。 - 特許庁 - A stripe-shaped pattern from a projection device 52 is made to agree with a main beam of light LL in the center of the right half face 28R so as to be projected on a subject.
投影装置５２からストライプ状のパターンを右半面２８Ｒの中心の主光線Ｌ_Lに一致させて被写体に投影する。 - 特許庁 - To allow accurate exposure control over details by controlling turning-on/off of individual semiconductor light sources in response to an exposure pattern.
露光パターンに応じて個々の半導体光源の点消灯を制御することにより、細部に渡って正確な露光制御が可能とすること。 - 特許庁 - To accurately, safely and harmlessly pattern the upper face electrode of a field effect light-emitting device based on an org. polymer which can be used for a multicolored display.
多色ディスプレイに適用できる有機ポリマーをベースとした電界発光デバイスの上面電極を正確、安全、無害にパターン化する。 - 特許庁 - In the illumination method generating a proximity field light by projecting an irradiation light 210 to a mask 201 having a mask pattern of micro openings not larger than the wavelength size on a mask base material, i.e. a transparent substrate, an illumination means generating the proximity field light is arranged to illuminate the boundary surface of the transparent substrate and the mask pattern with the irradiation light obliquely from the transparent substrate side.
マスク母材である透明基板上に波長サイズ以下の微小開口によるマスクパターンを有するマスク２０１に、照射光２１０を入射させ近接場光を発生させる照明方法であって、前記照射光により、前記透明基板と前記マスクパターンとの境界面を、該透明基板側から斜めに照明するようにして、近接場光を発生させる照明手段を構成する。 - 特許庁 - The external shielding film 230 is constituted of a lens pattern 231 made by a plurality of aspherical lenses 232 formed on one surface of a base material 235, and an external light shielding pattern 233 comprising an external light shielding part 234 formed on the other surface, thereby absorbing external environmental light 310 by the external light shielding part 234, to improve the contrast ratio in a bright room, to raise the luminance and to extend the viewing angle.
外光遮蔽フィルム２３０を、基材２３５の一面に形成された複数の非球面レンズ２３２で成されたレンズパターン２３１、および他の一面に形成された外光遮蔽部２３４からなる外光遮蔽パターン２３３で構成することにより、外部環境光３１０が外光遮蔽部２３４で吸収され、明室におけるコントラスト比を向上させ、輝度を高めて視野角を広げることができる。 - 特許庁 - The exposure device for a master disk of an optical disk which imposes intensity modulation on the laser light from a laser light source by the acoustooptic element and irradiates a resist master disk with the intensity- modulated laser light to form an exposure pattern is provided with a means which controls the temperature of the acoustooptic element to control the laser light direction.
レーザ光源からのレーザ光を音響光学素子により強度変調し、この強度変調されたレーザ光をレジスト原盤に照射することにより露光パターンを形成する光ディスク用原盤露光装置において、音響光学素子の温度を調節する手段を設けることによりレーザ光方向を制御する。 - 特許庁 - To provide an illumination device in which color unevenness or brightness unevenness never occurs because a part in which red color is emphasized periodically appears on an emitting face side of a light guide member and a red striped pattern occurs on the emitted light of the light guide member, and in which emitted light with no color unevenness and uniform brightness can be obtained.
導光部材の出射面側に赤色の強調された部分が周期的に現れて導光部材の出射光に赤の縞模様が生じてしまい、色むらと輝度むらが生じるということはなく、色むらのない輝度の均一な出射光を得ることができる照明装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a beam splitter and an optical device applying it, capable of confirming the light-receiving surface of the reflected light side and setting the light-receiving surface at a desired position, even if a pattern where plural metal surfaces are arrayed is formed on the surface of a light-transmission substrate or the joined surface of prisms.
光透過性基板の表面又はプリズムの接合面において、複数の金属面を配列したパターンを形成しても、この反射光側の受光面を確認することができ、受光面を所望の位置に設定することができるビームスプリッタとそれを応用した光学装置を提供すること。 - 特許庁 - The controller 50 supplies the light source 42 with a control pulse signal CS for flickering the light source 42 in two-level state by repeating a pulse sequence pattern consisting of a plurality of bits of a fixed number, each bit of which can take two states of a first level for lighting the light source 42 and a second level for unlighting the light source 42.
制御装置５０は、各ビットが光源４２を点灯させる第１レベルと消灯させる第２レベルの２状態を取ることができる一定数の複数ビットから成るパルス列パターンを繰り返すことによって、光源４２を２値状態で明滅させる制御パルス信号ＣＳを光源４２に供給する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a display device capable of maintaining the light-emitting efficiency and luminance half life at a high level in a light-emitting element, having a transfer layer as a light-emitting layer, even when this transfer layer containing an organic light-emitting material coated and formed on a support substrate is pattern-formed on a device substrate by thermal transfer.
支持基板上に塗布形成した有機発光材料を含む転写層を、熱転写によって装置基板上にパターン形成した場合であっても、この転写層を発光層とした発光素子における発光効率および輝度半減寿命を高く維持できる表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Since a specific pattern shape for reflecting light incident in the inside of the light guide plate from the light incoming end surface is not installed on the reflecting surface according to the incline angle, a mold used in the manufacture of the light guide plate can be manufactured easily and in a short time, cost is reduced and time requiring the manufacture is shortened.
このように、傾斜角に応じた反射面には、入光端面から導光板内部に入射した光を反射するための特別なパターン形状を設けないので、導光板の製造に使用する金型を容易かつ短時間で製作でき、低コスト化及び製作に要する時間の短縮が可能となる。 - 特許庁 - In measuring the film transmittance of a fine pattern and the like of a light-semitransmitting film formed on a transparent substrate, light of a measurement wavelength is converged on the light-semitransmitting film to be a measurement object so as to be the smallest diameter (beam waist) and transmitted, and the whole transmitted light is subsequently collected in an integrating sphere and is detected by a detector.
透明基板上に形成された半透光膜の微細パターン等の膜透過率の測定において、測定対象物となる半透光膜に、測定波長の光が最も小さなスポット径（ビームウエスト）となるように集光させて透過させた後、その透過光を全て積分球に取り込んでディテクタで検出する。 - 特許庁 - This ornamental display device 50 provided in the game machine comprises a display plate 55 formed by printing a pattern (FEVER) on a light guide plate such as an acrylic plate with a paint having a light diffusing property, and a frame 62 incorporating a light source part (an LED substrate 70) emitting a light to the end face of the display plate 55.
遊技機に設ける装飾表示装置５０を、アクリル板などの導光板に光を拡散する性質の塗料で模様（ＦＥＶＥＲ）を印刷した表示プレート５５と、この表示プレート５５の端面に光を照射する光源部（ＬＥＤ基板７０）を内蔵したフレーム６２とで構成する。 - 特許庁 - The device 142 comprises a performance part with a light emitting area 210 which is light transmissive and is facing the front through a pattern display opening and a device body which is positioned at the back of the performance part and is provided with a plurality of light emitting elements 232a for emitting light to the area 210.
発光演出装置１４２は、光透過性を有すると共に図柄表示用開口部を介して前方に臨む発光領域２１０を備えた演出部と、該演出部の後方に設けられ、該発光領域２１０へ光を照射する複数の発光素子２３２ａを備えた装置本体とから構成される。 - 特許庁 - The exposure device includes an illumination optical system illuminating a reflection-type mask (M) installed on a first surface, by using a light from a light-condensing point (1a) on which light emitted from a light source (1) is condensed; and a projection optical system (PO) projecting a pattern of the mask to a photoreceptive substrate (W) installed on a second surface.
本発明の露光装置は、光源（１）より射出された光が集光する集光点（１ａ）からの光を用いて、第１面に設置される反射型のマスク（Ｍ）を照明する照明光学系と、マスクのパターンを第２面に設置される感光性基板（Ｗ）に投影する投影光学系（ＰＯ）とを備えている。 - 特許庁 - To fill a light shielding material up to an upper face of each groove, without damaging a translucent base material sheet, when manufacturing an optical sheet provided with a light shielding pattern, by filling the light shielding material into grooves of the translucent base material sheet with the plurality of grooves juxtaposed on its surface, and by removing the excessive light shielding material.
表面に複数の溝が並設されている透光性基材シートの溝に遮光性材料を充填し、余分な遮光性材料を除去することにより遮光性パターンを備えた光学シートを製造するにあたり、透光性基材シートを傷つけたりすることなく、溝の上面まで遮光性材料を充填する。 - 特許庁 - The controller 50 supplies the light source 42 with a control pulse signal CS for blinking the light source 42 in a binary state by repeating a pulse sequence pattern consisting of a plurality of bits of a fixed number, each bit of which takes two states of a first level for turning on the light source 42 and a second level for turning off the light source 42.
制御装置５０は、各ビットが光源４２を点灯させる第１レベルと消灯させる第２レベルの２状態を取ることができる一定数の複数ビットから成るパルス列パターンを繰り返すことによって、光源４２を２値状態で明滅させる制御パルス信号ＣＳを光源４２に供給する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition useful in a process with light having a shorter wavelength than KrF excimer laser light, e.g. F2 excimer laser light (157 nm) or EUV (extreme-ultraviolet radiation 13 nm) as a light source and capable of forming a resist pattern having high resolution and a good sectional shape and to provide a base material with a resist layer of the resist composition.
ＫｒＦエキシマレーザー以下の短波長光、例えば、Ｆ_2エキシマレーザー（１５７ｎｍ）やＥＵＶ（真空紫外線１３ｎｍ）を光源とするプロセスに有用であり、高解像性で断面形状の良好なレジストパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物およびそのレジスト層を設けた基材を提供すること。 - 特許庁 - A first resist film 12 sensitive to light of a first wavelength such as UV is formed on the pattern forming surface of a resist film and a second resist film 13 opaque to light of the first wavelength and sensitive to light of a second wavelength different from the first wavelength, such as visible light, is formed on the first resist film 12.
レジスト膜のパターンの形成面上に、紫外線などの第１の波長の光に感光する第１レジスト膜１２を形成し、次に、第１レジスト膜１２上に、第１の波長の光に対して不透過性であり、第１の波長と異なる可視光などの第２の波長の光に感光する第２レジスト膜１３を形成する。 - 特許庁 - Then, light emitted from a light source 8 provided over the base 14 is reflected against the surface of the ball through the hole for light guide of the sensor 7 and the fibers 4 and received by the sensor 7 through the fibers 4 again, and the turning direction and turning quantity of the ball 2 are detected from the light receiving pattern.
そして、透明ガラス基板１４の上方に設けられた光源８から照射されれる光がセンサ７の導光用の孔とファイバ４とを通過しボール２の表面により反射され、再びファイバ４を通過しセンサ７によって受光され、その受光パターンからボール２の回転方向及び回転量を検出する。 - 特許庁 - The lamp unit 40 includes a reflector 47 to reflect direct light of an LED 25 arranged backward of a projection lens 45 to the front, and a shade 49 to form a cutoff line of the light distribution pattern by shielding one part of reflected light from the reflector 47 and one part of the direct light from the LED 25.
灯具ユニット４０は、投影レンズ４５の後方に配置されたＬＥＤ２５の直接光を前方に反射させるリフレクタ４７と、リフレクタ４７からの反射光の一部及びＬＥＤ２５からの直接光の一部を遮蔽して配光パターンのカットオフラインを形成するシェード４９と、を備える。 - 特許庁 - The exposure apparatus EX executes exposure processing for projecting a pattern of a reticle onto a wafer by a projection optical system 13 by using a light supplied from a light source 1, thereby exposing the wafer, and a measurement processing for adjusting the positions of the reticle and wafer in the exposure processing, by using the light supplied from the light source 1.
露光装置ＥＸは、光源１から供給される光を使ってレチクルのパターンを投影光学系１３によってウエハに投影してウエハを露光する露光処理、および、光源１から供給される光を使って露光処理におけるレチクルとウエハとの位置合わせのための計測処理を実行する。 - 特許庁 - The special pattern display parts 551 are mutually linked together based on the lottery result of the game machine 500 or respond to the change in the game state on the game board 501 so as to change the emitted light color as a light emission mode of the light emitting device 15 for the light guide plate using a full color LED.
そして、これらの特別図柄表示部５５１は互いに連係し合って、遊技機５００での抽選結果に基づいて、あるいは遊技盤５０１上の遊技状態の変化に対応して、フルカラーＬＥＤを用いた導光板用発光素子１５の発光態様として発光色を変化させる。 - 特許庁 - To restrain light distribution unevenness in case a low-beam light distribution pattern with a right-and-left unlevel cutoff lines are to be formed by a lamp tool unit of a projector type using a light-emitting diode as a light source.
車両用前照灯の灯具ユニットとして、発光素子を光源とするプロジェクタ型の灯具ユニットを採用した場合において、その発光素子が、互いに車幅方向に隣接するようにして配置された複数の発光チップを有する構成となっている場合においても、配光ムラの発生を抑制する。 - 特許庁 - In other words, even when the resolution of a stepper does not have precision enough to form an intended pattern shape, the light escaping can be reduced by forming the part where the light escaping tends to occur of a capacity wiring 400 that functions as a light-shielding film in a manner to overlap with other light-shielding films.
言い換えれば、ステッパの解像度が狙いのパターン形状を形成可能なほど十分な精度を有していない場合でも、遮光膜としても機能する容量配線４００のうち光抜けが生じ易い部分を他の遮光膜に重なるように形成することによって、光抜けを低減できる。 - 特許庁 - To provide a device and a method of manufacturing a light guide plate capable of correctly forming a desired pattern on the light guide plate, of manufacturing the light guide plate excelling in quality by preventing deformation of the light guide plate, of increasing a yield, and of reducing manufacturing cost; and a scraper used for them.
導光板に所望のパターンを正確に形成すると共に、導光板の変形を抑制して品質に優れた導光板の製作を可能にし、歩留まりを増大させると共に、製造コストを下げられる導光板の製造方法及び製造装置とそれに用いられるスクレーパを提供する。 - 特許庁 - A pattern is drawn on a substrate by performing a multiple exposure in which a region where light reflected by one mirror in a spatial optical modulator (25) of a light beam irradiation device (20) is irradiated to a substrate and a region where light reflected by the other mirrors are partially overlapped in accordance with scanning of the substrate with a light beam.
光ビーム照射装置（２０）の空間的光変調器（２５）の１つのミラーで反射された光が基板へ照射される領域と、他のミラーで反射された光が基板へ照射される領域が、光ビームによる基板の走査に伴って部分的に重なる多重露光を行って、基板にパターンを描画する。 - 特許庁
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