「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 71 72 73 74 75 76 77 78 79 .... 141 142 次へ＞- A second resist layer 11 is formed so as to fill a space between the first resist patterns, being selectively exposed to light and developed to form a second resist pattern 12.
次に、第１のレジストパターン間を埋めるように第２のレジスト層１１を形成し、選択的に露光、現像して、第２のレジストパターン１２を形成する。 - 特許庁 - Furthermore, The additional light-distributing pattern PA2 is displaced from the headlight front direction to a road shoulder side by horizontally swiveling the headlight unit with a swiveling mechanism.
その上で、灯具ユニットをスイブル機構により水平方向に旋回させて、付加配光パターンＰＡ２を灯具正面方向から路肩側へ変位させる。 - 特許庁 - An exposure apparatus includes a reticle stage 11, which holds a reticle 37 placed inside a chamber 13 and projects light of a pattern image onto the wafer to the reticle 37.
露光装置は、チャンバ１３内に配置されるレチクル３７を保持するレチクルステージ１１を備え、レチクル３７に形成されたパターンの像をウエハに露光する。 - 特許庁 - This stick includes a rod-shaped section (1), a handle (2) and a ferrule (3), and a light reflecting sheet (5 or 5A) having a pattern layer (51 or 51A) is wound around the rod-shaped section (1).
棒状部（１）、取っ手（２）、石突き（３）を有し、前記棒状部（１）に模様層（５１，５１Ａ）を有する光反射シート（５，５Ａ）を巻き付けた杖である。 - 特許庁 - A light source emission control part 13 controls a lighting pattern of an LED backlight 10 synchronously with writing of a video signal to a liquid crystal panel 15.
光源発光制御部１３は、液晶パネル１５に対する映像信号の書き込みに同期させて、ＬＥＤバックライト１０の点灯パターンを制御する。 - 特許庁 - Further, the multilayered reflective film ML1 has a light shielding band SD1 formed by removing an area surrounding an outer periphery of the pattern region RP1 like a groove.
更に、多層反射膜ＭＬ１は、パターン領域ＲＰ１の外周を囲む部分を溝状に除去することで形成された遮光帯ＳＤ１を有している。 - 特許庁 - The fine-pattern forming process can be advantageously applied to a semiconductor light emitting device, particularly, to a photonic crystal structure required to have fine patterns or a structure using a surface plasmon resonance principle.
特に微細パターンが求められるフォトニック結晶構造または表面プラズモン共鳴原理を用いた構造に有益に採用されることができる。 - 特許庁 - The light from the scenery is so regulated that the pattern of the image element of the high density is formed in the image region of the high density on the photosensitive member.
風景からの光は、高濃度のイメージ要素のパターンが感光部材上の高濃度のイメージ領域に形成されるように調整される。 - 特許庁 - The device 27 is positioned so that the light receiving surface 30b may face to a circuit pattern surface 66a side when the device 27 is held on the circuit board 66.
測光装置２７が回路基板６６に保持されたとき、受光面３０ｂが回路パターン面６６ａ側を向くように位置決めがされている。 - 特許庁 - The first conductor pattern 11a has a first arranging direction d_11a and is included in the mounting region 11c of the light emitting element.
第１導体パターン１１ａは、第１方向の配置方向ｄ_１１ａを有しているとともに、発光素子の実装領域１１ｃ内に含まれている。 - 特許庁 - The immersion exposure apparatus 100 includes a projection optical system 2 configured to project a pattern of an original 10 onto the substrate 44 via a liquid 42 to expose the substrate 44 to light.
液浸露光装置１００は、原版１０のパターンを投影光学系２および液体４２を介して基板４４に投影して基板４４を露光する。 - 特許庁 - To provide a reflection surface design method of a reflection mirror of a vehicle lighting in which controllability of a light distribution pattern and efficiency in designing are enhanced.
配光パターンの制御性及び設計作業の効率が向上される車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain an aqueous fluorescent recording material capable of recording information pieces such as a fluorescent letter and a pattern having excellent light resistance and durability, or the like, and non-information pieces.
耐光性及び耐久性に優れた蛍光文字や模様等の情報及び非情報の記録が可能な水性蛍光記録材を提供すること。 - 特許庁 - When the number of apertures in the light receiving system is changed, the TIS or the MIS is reduced, and measurement of the superposition error complying with the characteristics of the pattern is carried out.
受光系の開口数を変更することにより、ＴＩＳ又はＭＩＳを低減して、パターンの特性に応じた重ね合わせ誤差の測定を行う。 - 特許庁 - To provide a defect inspection apparatus capable of highly accurately detecting pattern defects without reducing the light quantity of a laser beam used for defect detection.
欠陥検出に用いるレーザ光の光量が低減することなく、パターン欠陥の検出を高感度にて行うことができる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - The liquid crystals attain the state of diffusing the light and the pattern indicating the character 'OFF' is displayed in the state that the liquid crystal display device is not energized.
液晶表示装置に通電されない状態において、液晶は光を拡散する状態となり、「ＯＦＦ」の文字を表すパターンが表示される。 - 特許庁 - A control part 30 varies the focal length of the liquid lens 14 with a predetermined pattern in the term in which the light is scanned onto the photoreceptor drum 32.
制御部３０は、感光体ドラム３２に光が走査されている期間において、予め定められたパターンで液体レンズ１４の焦点距離を変化させる。 - 特許庁 - To manufacture a panel plate used for light emitting panel device and having a pattern for decoration etc., at low cost without reference to its amount of production.
発光パネル装置に用いる、装飾等のパターンを有するパネル版を、少量生産であってもまた大量生産であっても、低コストで生産する。 - 特許庁 - Further, the flattening film 18 is exposed (exposure quantity: 50 mJ/cm2) to irradiating light through a photomask 42 having an opening pattern 42a arranged (Fig.(d)).
また、開口パターン４２ａを配したフォトマスク４２を介して光を照射して平坦化膜１８を露光（露光量：５０ｍＪ／ｃｍ^２ ）する（図３（ｄ））。 - 特許庁 - Thus, the exposure light quantity can be set by easy calculation and the three-dimensional resist pattern having little error with respect to the designed value can be produced.
これにより、簡便な計算で露光量を設定し、設計値に対する誤差が少ない３次元形状のレジストパターンを作成することができる。 - 特許庁 - The defect of a wiring pattern of a lead of the film carrier tape for electronic component mounting is detected by transmitting transmission light to a film carrier tape for electronic component mounting.
電子部品実装用フィルムキャリアテープに対して、透過光を透過させて、電子部品実装用フィルムキャリアテープのリードの配線パターンの不良を検知する。 - 特許庁 - When a projection unit projects light of a predetermined pattern on the base surface from a position higher than the base surface, a camera unit performs photographing on the base surface.
投影部がこの台面よりも高い位置から同台面上に所定の絵柄の光を投影すると、カメラ部は上記台面上の撮影を行なう。 - 特許庁 - A lithographic equipment includes a phase adjuster that adjusts the phase of a light wave crossing an optical device of the phase adjuster while exposing a pattern onto a substrate.
リソグラフィ装置は、基板にパターンを露光する間に、位相調整器の光学素子を横断する光波の位相を調整する位相調整器を含む。 - 特許庁 - A side face 13 of the light-guide axis member 10 includes a first radiation part 16 equipped with a first rough-surface processing part having first unevennesses of an irregular pattern.
導光軸部材１０の側面１３は、不規則パターンの第１凹凸を有する第１粗面加工部が設けられた第１放射部１６を含む。 - 特許庁 - The shade 8 is provided with an edge 32 forming a cutoff line of a light distribution pattern and integrally formed with a lens holder 27.
この発明は、シェード８には、配光パターンのカットオフラインを形成するエッジ３２が設けられていると共に、レンズホルダ２７が一体に設けられている。 - 特許庁 - Since cord disk is rotated synchronously with an imaging device (436), the position of the imaging device (436) can be measured by the pattern of detection of light passed through the apertures (530).
コードディスクは撮像素子（４３６）と同期して回転するので、開口（５３０）を通過する光の検知パターンは撮像素子（４３６）の位置を測定する。 - 特許庁 - Then the particles 11 are exposed on the surface of the film 13 by irradiating a conductive pattern forming area with laser light (b).
導電パターン形成領域にレーザ光照射を行うことにより、導電粒子含有絶縁膜１３の表面に導電粒子１１を露出させる(ｂ)。 - 特許庁 - The three-dimensional information input camera is provided with a photographing means that photographs a photographing area and with a projection means that projects a pattern light to the photographing area.
３次元情報入力カメラは、撮影領域を撮影する撮影手段と、撮影領域にパターン光を投影する投影手段とを備える。 - 特許庁 - Light passing through the translucent sheet and the first and second projections is refracted, mutual moire interference is caused, and the solid pattern is observed on both the faces.
透光性シート、第１および第２の突起を通過する光が屈折され、相互モアレ干渉を引き起こし、両面に立体的な模様が観察される。 - 特許庁 - The DMD unit 40 is provided with DMDs 42 for selectively reflecting the light to form a pattern on the surface of the substrate 22.
前記ＤＭＤユニット４０には、前記基板２２の表面にパターンを形成するために、光を選択的に反射させるＤＭＤ４２が設けられる。 - 特許庁 - Consequently, the pattern part has a small light quantity on an imaged image, and is detected as an image having a lower brightness than a peripheral brightness.
このため、撮像される画像上において当該パターン部分は光量が少なく、周囲の輝度よりも低い低輝度画像として検出される。 - 特許庁 - To provide a Levenson type phase shift mask in which increase in the dimension of the formable minimum pattern element due to the proximity effect of light can be effectively suppressed.
形成可能な最小パターン要素寸法が光近接効果により増大するのを効果的に抑制できるレベンソン型位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a photomask capable of precisely working a light-shielding pattern and suppressing the variation of resist line width due to flare, and to provide a manufacturing method for the photomask.
遮光パターンを高精度で加工できると共にフレア起因によるレジスト線幅変化を抑制できるフォトマスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - A storage section 161 stores the optical signal received by the light receiving section 141 in a frequency being N times the prescribed blinking pattern and in the units of frames.
記憶部１６１は、受光部１４１により受光された光の信号を、所定の点滅パターンのＮ倍の周波数で、かつ、フレーム単位で記憶する。 - 特許庁 - To form a marking pattern by a dot or a dot array with high visibility by radiating a laser beam onto a surface layer of a light-photosensitive heat-developable photosensitive material.
光感光性熱現像感光材料の表面層にレーザービームを照射して、視認性の高いドットないしドット配列によるマーキングパターンを形成する。 - 特許庁 - To reduce a processing load required for processing the synthesis of results of three-dimensional shape measurements acquired by measuring the same object by changing the projecting direction of pattern light.
同一の対象物についてパターン光の投影方向を変えて計測した３次元形状の計測結果を合成する処理の処理負荷を軽減する。 - 特許庁 - To provide a lighting device for a vehicle, which can form a light distributing pattern in which an area where a nearby vehicle exists is illuminated less than a surrounding area.
周辺車両が存在する領域をその周囲の領域よりも暗くした配光パターンを形成することが可能な車両用灯具を提供する。 - 特許庁 - To utilize rainbow-colored light for coloring an object whose color and pattern can be enjoyed, and to provide a beautiful colored object and patterns with no blur as a picture and a moving picture.
虹色の光を色彩に利用して、その色彩や模様を鑑賞したり、暈けのない綺麗な色彩や模様を、写真や動画として提供する。 - 特許庁 - To manufacture an article covered with a patterned film which can be formed by short-time irradiation with light followed by development with high sensitivity and has superior pattern accuracy.
短時間の光照射で成膜でき、光照射後の現像の感度が高く、しかもパターン精度に優れたパターン膜被覆物品を製造する。 - 特許庁 - The blinds 41a and 41b are so moved as to cover the segments (light shielding zones) exclusive of the pattern regions 55 of the mask during the synchronous movement of the mask and the photosensitive substrate (56).
マスクと感光基板（５６）を同期移動中に、マスクのパターン領域５５以外の部分（遮光帯域）を覆うようにブラインド４１ａ，４１ｂを移動する。 - 特許庁 - Furthermore, the light emitting pattern, as shown in (b), is set so that frequency characteristics in the result of calculating a point spread function may include only non-zero values.
なお、発光パターンは(b)に示すように、その点像分布関数の演算結果における周波数特性が非ゼロの値で構成されるように設定されている。 - 特許庁 - The light entering the core layer 121 is guided in the core layer 121, and optically coupled to a next optical component in the state wherein it does not spread from the near-field pattern.
コア層１２１に入った光は、ニアフィールドパターンから広がらない状態のまま、コア層１２１を導かれ、次の光学部品へ光結合される。 - 特許庁 - Slit light is projected from the projection device 1 onto an object Ob, and a pattern formed on the object Ob surface is imaged by an imaging device 2.
投影装置１からスリット光が物体Ｏｂに投影され、物体Ｏｂの表面に形成されるパターンが投影装置２により撮像される。 - 特許庁 - Then, the second shade 38 is timely moved so that an intermediate light distribution pattern having the vertical cut-off line and the upward cut-off line is formed.
そして、第２シェード３８を適宜移動させて、鉛直カットオフラインおよび上向きのカットオフラインを有する中間的な配光パターンを形成するようにする。 - 特許庁 - To suppress the influences of aberration of the lens in an exposure mask having pattern regions for a plurality of processes on one light transmitting substrate.
１枚の透光性基板に複数工程のパターン領域を備える露光マスクにおいてレンズの収差の影響を抑制できるようにすること。 - 特許庁 - To provide an auxiliary light projector with a simple configuration for projecting an automatic focus detecting pattern of various shapes having a high contrast over a wide range.
簡単な構成で、広い範囲に高いコントラストを有する種々の形状の自動焦点検出用パターンを投影する補助投影装置を提供すること。 - 特許庁 - A minimum pitch region is extracted using design data of an absorber pattern (s1), and a wavelength and an irradiation angle of inspection light are set in advance (s2).
吸収体パターンの設計データを用いて、最小ピッチ領域を抽出し（ｓ１）、一方、検査光の波長および照射角度を予め設定する（ｓ２）。 - 特許庁 - To solve the problem wherein the risk of a part of an irradiated image from a projection lens of a luminous chip from popping out of the cut-off line of the basic light distribution pattern and turning into glare.
発光チップの投影レンズからの出射像の一部が基本配光パターンのカットオフラインから飛び出してグレアとなる虞がある点にある。 - 特許庁 - To provide a press forming method of a light alloy sheet which can apply a surface pattern excellent in designability and aestheticity to a molded article and which is excellent in productivity.
意匠性や美観性に優れた表面模様を成形体に施すことができ、生産性に優れた軽合金板のプレス成形方法を提供する。 - 特許庁 - The air conditioner 110 converts the received infrared signal (the content of a remote operation) into a light-emitting pattern which can be read out by the video device 400.
空調機１１０は、この受信した赤外線信号（遠隔操作の内容）を、ビデオ装置４００が判読可能な発光パターンに変換する。 - 特許庁
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