「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 73 74 75 76 77 78 79 80 81 .... 141 142 次へ＞- To provide a light shielding screen and a tablecloth, which can be used for both a Japanese-style room and a western-style room, and on which one's favorite pattern, etc., can be easily drawn.
和洋に拘わらず使用できるとともに、好みの模様等を簡単に施すことができる 、遮光スクリーンとテーブルクロスを提供すること。 - 特許庁 - To enable a light emitting device which is superior in efficiency and whose threshold current is low to be manufactured by controlling quantum dots controlled in size, shape, and an arrangement pattern.
量子ドットのサイズ、形状および配列の形態をコントロールすることにより、しきい電流値が低く、かつ効率のよい発光素子を作製すること。 - 特許庁 - If a period for an image pattern in a selected image processing mode interferes with the number of beams from the light source, the number of beams used for drawing is changed.
選択された画像処理モードでの画像パターンの周期が光源のビーム本数と干渉するときは、描画に使用するビーム数を変更する。 - 特許庁 - A color having good visibility or a pattern is provided to the molding 5 and, at the same time, glass powder or the like is adhered to the surface thereof to treat so as to have high reflectivity of light.
モール５には視認性の良い色や模様を持たせると共に、表面にガラス粉末等を付着させて高い光反射性を持つように処理する。 - 特許庁 - A pattern is drawn on a substrate 90, by having a light beam from an irradiating unit 33 irradiated toward the substrate 90 held on a substrate holding plate 21.
基板保持プレート２１に保持された基板９０に向けて照射ユニット３３から光ビームを照射することで、基板９０にパターン描画を行う。 - 特許庁 - The screen luminance of a pattern projected on the screen is measured, and when a measured luminance level is lower than a reference value, the exchange of the projection light source is instructed.
スクリーンに写し出されたパターンのスクリーン輝度を測定し、基準値を下回る測定輝度レベルのとき、投影用光源の交換を指示する。 - 特許庁 - To provide a lighting fixture which can soften the feeling of a child afraid of darkness at bedtime with a pattern reflected on a cover at lighting of a night light.
常夜灯点灯時にカバーに模様が映し出され、就寝時に暗闇を怖がる子供の気持ちを和らげることができる照明器具を提供する。 - 特許庁 - Then the luminance levels of the phosphors obtained from all the measured patterns are rearranged, based on the light emission position to calculate a profile of each measured pattern (steps #10, #12).
そして、全測定パターンで得られた発光螢光体の輝度レベルを発光位置に基づき並べ換えて測定パターンのプロファイルが算出される（ステップ＃１０，＃１２）。 - 特許庁 - To provide a dial for an instrument capable of securing excellent visibility by reducing light reflectance, while acquiring a novel appearance with a metallic pattern.
金属調模様を備えて斬新な見映えを得つつ、光反射率を低減して良好な視認性を確保することが可能な計器用文字盤を提供する。 - 特許庁 - Then, detection results obtained by the line sensors 6, 8 are computed and the influence of the diffraction light from the pattern is eliminated for judging the presence of the foreign object.
そして、ラインセンサ６および８より得た検出結果を演算し、パターンからの回折光の影響を除去して異物の存在を判定する。 - 特許庁 - Specially, when the line widths of the characters are increased in the boldface processing, a pattern in which a light emitting element one element inside from the end of the line width becomes B (blue) is avoided.
特に、太字処理において、文字の線幅を太くする際、線幅の端から１つ内側の発光素子がＢ（青色）となるパターンを避ける。 - 特許庁 - To prevent the occurrence of the display irregularity of a liquid crystal display by accurately forming a pattern even when a part having a different light reflectance is present on an exposure stage.
露光ステージに光の反射率が異なる部分があっても、高精度のパターン形成を可能とし、液晶表示装置の表示ムラの発生を防止する。 - 特許庁 - To prevent a problem that a stripped pattern is generated at a light color portion in the vicinity of a leading line of a page or the like with a simple method.
誤差拡散法を採る画像処理において、ページ先頭ライン付近の色の薄い部分に縞模様発生などの不具合を簡単な方法で防止する。 - 特許庁 - Thus, the light density is made uniform without deforming the mask pattern P by thinning or thickening, and the optical proximity correction can be easily carried out.
これによって、マスクパターンＰを細くしたり太くしたりして変形させることなく、光密度を均一化して光近接効果補正を容易に行える。 - 特許庁 - When the light emitting part 2 is fabricated, a transparent PET 17 having a thickness of 50-500 μm on which a circuit pattern 18 is formed previously is employed.
発光部２の作製に際しては、予め回路パターン１８を形成した例えば厚さ５０〜５００μｍ程度の透明ＰＥＴ１７を用いる。 - 特許庁 - To provide a lighting tool for a vehicle capable of forming a low-beam light distribution pattern with a slanted cutoff line without increasing the number of lighting tool units.
灯具ユニット数を増やさずに斜めカットオフラインを有するすれ違い配光パターンを形成することができる車両用灯具を提供する。 - 特許庁 - To provide a stamper which is used for a photo polymer method using a photo curable resin and has high durability and light transmissible properties even in minute transfer pattern.
光硬化性樹脂を用いたフォトポリマ法に使用する、微細化された転写パターンでも高耐久性かつ光透過性スタンパを提供する。 - 特許庁 - A test pattern formed on a test reticle Rt is projected onto a light reception surface 42 of an image pickup mechanism 41 via a projection optical system PLe to be inspected.
テストレチクルＲｔ上に形成されたテストパターンを、被検投影光学系ＰＬｅを介して撮像機構４１の受光面４２上に投影する。 - 特許庁 - To provide a device for projection and image pickup having a compact projector capable of performing pattern projection and illumination by substantially white light to an object.
被写体に対してパターンの投影とほぼ白色光による照明とを行なえる小型な構成の投影装置を備えた投影撮影装置を提供する。 - 特許庁 - A flashing speed is faster than a human's sense of vision follows and, whatever flashing pattern may be used, it looks like a light of an identical luminance to the human.
点滅の速度は人間の視覚が追従するよりも十分速く、いずれの点滅パターンを用いても、人間には一様な輝度の光に見える。 - 特許庁 - A pattern image for focal validation is formed on the whole liquid crystal light valve 32, and a projected image of a focal mark is formed at the center position CT.
液晶ライトバルブ３２の全体にフォーカス確認用のパターン像が形成され、中心位置ＣＴにフォーカスマークの被投射画像が形成される。 - 特許庁 - The light shielding film is disposed around the smaller patterns 1b but the film is not disposed around the larger pattern 1a to expose the transparent substrate 1.
小パターン１ｂの周囲には、遮光膜が設けられているが、大パターン１ａの周囲には遮光膜が設けられておらず、透明基板１が露出している。 - 特許庁 - To provide an imaging apparatus which adds phase data for controlling the thinning of a specific pattern part and the emission timing of a light emitting element.
本発明は特定パターン部分について細線化及び発光素子の発光タイミングを制御する位相データの付加を行う画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an exposure mask capable of faithfully transferring a pattern using a constant amount of light, while improving the resolution limit of a transfer apparatus.
本発明は、転写装置の解像限界を向上せしめると共に、一定の光量で忠実なパターン転写を行うことのできる露光マスクを提供する。 - 特許庁 - The center spot alone can be shielded from light, which realizes a high degree of diffraction pattern of high precision.
目的の回折像を遮光することなく、中心スポットのみを遮光できるように作用するので、高次レベルの回折像を高精度で得ることができる。 - 特許庁 - When the liquid film FL is dried with the first irradiation light Le1, a layer pattern FP having high definition and precision is formed without poor drying.
液状膜ＦＬは、第１照射光Ｌｅ１によって乾燥されると、乾燥不足もなく高精細、高精密な層パターンＦＰが形成される。 - 特許庁 - The diagnosis of the display functions include the function diagnosis of a back light 1b and the function diagnosis for preparing an image pattern in a liquid crystal display panel 1a.
表示機能の診断には、バックライト１ｂの機能診断と、液晶表示パネル１ａに画像パターンを作成させるための機能診断とが含まれている。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for easily manufacturing a small and light inductance element by saving a space without winding a wire or forming a conductive pattern on a printed wiring board.
線材を巻回したり、印刷配線基板に導電パターンを形成しなくても、省スペースで小型・軽量なインダクタンス素子を簡単に製造する。 - 特許庁 - This inspection apparatus for a semiconductor device is provided with a function for shielding selectively diffracted light of the circuit pattern existing on an object to be inspected.
半導体装置の検査装置において、被検査対象上に存在する回路パターンの回折光を選択的に遮光する機能を具備する構成とした。 - 特許庁 - The resist film 102 is subjected to pattern exposure by selectively irradiating the resist film 102 with exposure light while a liquid 103 is disposed on the resist film 101.
続いて、レジスト膜１０１の上に液体１０３を配した状態で、レジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。 - 特許庁 - The photomask 200 includes a transparent substrate 205 and a light-shielding layer pattern 210, wherein the transparent substrate 205 has low transmissivity regions 230 at the front surface thereof.
透明基板２０５及び遮光膜パターン２１０を備え、透明基板２０５は、前面に低透過率領域２３０を備えるフォトマスク２００である。 - 特許庁 - Hereby, a place where light reflectance changes sharply can be stipulated by the pattern made of the same film as the fuse element for laser trimming.
これによって光反射率が急峻に変化する場所をレーザトリミング用ヒューズ素子と同じ薄膜により形成されたパタンによって規定できるようにした。 - 特許庁 - The measuring light flux reflected on the eyeground F is received by the CCD 23 through the freely curved prism 31 and a prism 22 to photograph the ring pattern.
眼底Ｆで反射された測定光束は、自由曲面プリズム３１およびプリズム２２を介してＣＣＤ２３により受光され、リングパターンが撮像される。 - 特許庁 - If the flatness accuracy of the glass substrate 20 is proper, the photolithography apparatus 10 makes the glass substrate 20 exposed to exposure laser light LP and forms a circuit pattern.
ガラス基板２０の平面精度が良好であれば、露光装置１０は、露光用レーザ光ＬＰによりガラス基板２０を露光させ、回路パターンを形成する。 - 特許庁 - The pattern size of the photomask 8 is allowed to be less than the length of from one end to the other end of adjacent two light shielding patterns 3 and 3.
フォトマスク８のパターンサイズは、遮光膜３の隣接する２箇所の遮光膜パターンの端から端までの寸法よりも少し小さくなっている。 - 特許庁 - The wiring pattern 11 is formed by irradiating the back of the carrier board 6 with laser light to melt the lead wires 8 formed on the base board 7.
この配線パターン１１は、キャリア基板６の裏面にレーザ光を照射し、ベース基板７に形成された導線８を溶融させることによって形成する。 - 特許庁 - A specific machine (machine A) that is a specific aligner is arbitrarily selected from among a plurality of aligners for exposing a substrate to light via a mask pattern.
マスクのパターンを介して基板を露光する複数の露光装置のうちから特定の露光装置である特定号機（号機Ａ）を任意に選定する。 - 特許庁 - In a display window 4i of the lid 4, an information plate 5 which transmits the light from the LEDs in a specific pattern is arranged and a cover 6 is placed thereupon.
蓋部４の表示窓４ｉには、各ＬＥＤからの光を所定のパターンで透光する情報板５が配置され、その上にカバー６が装着される。 - 特許庁 - Especially, the sum total of the absolute value of the difference of the light quantity between the normalized output from the line sensor and the approximate expression of the Fresnel diffraction pattern is calculated as the correlation value.
特にラインセンサの正規化出力とフレネル回折パターンの近似式との光量の差の絶対値の総和を相関値として計算する。 - 特許庁 - Thus, the light source device having the radiation intensity distribution suitable for the radiation pattern mask of IrDA1.1 at the minimum optical output can be obtained.
こうすることによって、最小の光出力で、ＩrＤＡ１.１の放射パターンマスクに適合した放射強度分布を有する光源装置を得ることができる。 - 特許庁 - To provide a pattern-forming method which reduces the number of defects formed in a resist film to provide a satisfactory yield, in lithography using a short-wavelength light source.
短波長光源を用いたリソグラフィーにおいて、レジスト膜中に形成される欠陥数を低減し、歩留まりのよいパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To more effectively suppress the interference pattern (mutilation of FFP) of light, which leaks from an n-type contact layer than a conventional one in a stably oscillating semiconductor laser.
安定して発振する半導体レーザにおいて、従来よりも効果的にｎ型コンタクト層から漏れ出る光の干渉縞（ＦＦＰの乱れ）を抑制すること。 - 特許庁 - A resist film 102 is formed on a substrate 101, and the formed resist film 102 is subjected to pattern exposure by selectively irradiating with exposure light.
基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、形成したレジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。 - 特許庁 - To provide a photomask and an exposure method which allow an exposure pattern with a size equal to or smaller than a wavelength of an exposure light beam to be obtained at low cost and high throughput.
露光光線の波長以下の大きさの露光パターンを、低コストかつ高スループットに得ることができるフォトマスク及び露光方法を提供すること。 - 特許庁 - Therefore, the temperature sensor pattern is formed directly in the structure of the light emitting diode chip and can provide more accurate temperature detection data in real time.
従って、該温度センサパターンは発光ダイオードチップの構造内に直接形成され、一層正確でリアルタイムな温度検知データを提供することができる。 - 特許庁 - When a finger of an operator approaches the detection electrode 2, the backlight 6 is switched on and the light transmission pattern 3a looms up on a surface 1a of the design plate 1.
検知電極２に操作者の指が近づくと、バックライト６が点灯され、意匠板１の表面１ａに光透過パターン３ａを浮かび上がる。 - 特許庁 - To improve accuracy of a circuit simulation in pattern design by faithfully reproducing a diode characteristic of a light emitting device formed of an organic material.
有機材料で形成された発光素子のダイオード特性を忠実に再現することでパターン設計時における回路シミュレーションの精度を向上させる。 - 特許庁 - The photomask has a photocatalyst film formed by allowing photocatalyst fine particles of a specified size to fly and deposit onto at least a light-transmitting pattern region of a photomask substrate.
フォトマスク基板の少なくとも光透過パターン領域に定サイズの光触媒微粒子を飛翔付着させた光触媒膜を有するフォトマスクである。 - 特許庁 - To provide a method of forming a fine pattern using a fluorine-containing polymer which has a high transparency to exposure light having a short wavelength such as F_2 laser.
Ｆ_2レーザー光のような短波長の露光光に対して透明性の高い含フッ素重合体を用いた微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a vehicular headlamp capable of changing an illuminance distribution of a light distribution pattern to enhance visibility in a location distant from a vehicle as needed.
配光パターンの照度分布を変化させ、車両遠方の視認性を必要に応じて高めることができる車両用前照灯を提供する。 - 特許庁
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