「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 76 77 78 79 80 81 82 83 84 .... 141 142 次へ＞- A control signal indicating the lighting pattern is inputted to a control circuit 12 on the side of the light projector 1 through communicating circuits 14, 15 to control an emitter driving circuit 16 on the side of the light projector 1 in a similar manner.
またこの点灯パターンを示す制御信号は、通信回路１５，１４を介して投光器１側の制御回路１２に与えられ、投光器１側で発光体駆動回路１６を同様に制御する。 - 特許庁 - The light imaging system includes the RGB-LED 14, the RGB-LED driver IC 13, a microphone and a CPU and controls the light emission pattern of the RGB-LED 14 according to sound input from the microphone.
発光システムはＲＧＢ−ＬＥＤ１４とＲＧＢ−ＬＥＤドライバＩＣ１３とマイクとＣＰＵとを備えており、マイクから入力される音に応じてＲＧＢ−ＬＥＤ１４の発光パターンを制御する。 - 特許庁 - This makes light illuminated forward through the opening section 20b form a light distribution pattern in a shape corresponding to the opening shape of the opening 20b at a place adequate to the overhead sign illumination.
これにより、開口部２０ｂを介して前方へ照射される光によって、オーバヘッドサイン照射に適した位置に、該開口部２０ｂの開口形状に対応した形状の配光パターンを形成するようにする。 - 特許庁 - The pattern layer, the optical selective reflective layer, the hologram forming layer and the reflective layer have transmissivity to visible light and further the reflective layer has a refractive index different from that of the hologram forming layer to visible light.
前記パターン層、光選択反射層、ホログラム形成層および反射層は、可視光に対して透過性を有し、かつ、前記反射層は、可視光に対して前記ホログラム形成層とは異なる屈折率を有する。 - 特許庁 - The light emitting element 13 has a mounting surface including a first electrode 13np electrically connected to the first pattern 12-1 and a second electrode 13pp electrically connected to a second pattern 12-2.
発光素子１３は、第１のパターン１２−１に電気的に接続された第１の電極１３ｎｐと、第２のパターン１２−２に電気的に接続された第２の電極１３ｐｐとが形成された実装面Ｍを有している。 - 特許庁 - Only an object present in an irradiation area 602 of the spotlight 611 among objects 612-615 constituting an image of a performance pattern selected by a performance pattern selection part 201 is set as a portion reflecting the light from the spotlight 611.
演出パターン選択部２０１が選択した演出パターンの画像を構成するオブジェクト６１２〜６１５のうち、スポットライト６１１の照射領域６０２にあるオブジェクトのみを、スポットライト６１１からの光が反射する部分とする。 - 特許庁 - The wiring board 1 includes a light transmissive substrate 10, an alignment mark 14 and a first wiring pattern 21 which are formed on a first surface 11 of the substrate 10, and a second wiring pattern 22 formed on a second surface 12 of the substrate 10.
配線基板１は、光透過性の基板１０と、基板１０の第１の面１１に形成されたアライメントマーク１４及び第１の配線パターン２１と、基板１０の第２の面１２に形成された第２の配線パターン２２と、を含む。 - 特許庁 - The reticle for metal patterning includes an IC pattern ensemble region and a TEG pattern region patterned next to each other, interposing a light non-transmitting solid region (region A), and has a scribe line in the region A.
ＩＣパターン集合領域とTEGパターン領域が光非透過ベタ領域（領域Ａ）をはさんで並んでパターニングされている金属膜パターニング用レチクルにおいて、前記領域Ａにスクライブラインを有する金属パターニング用レチクルとした。 - 特許庁 - To easily and accurately measure a color slurring measuring pattern without causing cost rise by relating the shape of the color slurring measuring pattern to the shape of the light receiving area of an image detection sensor in the case of performing color slurring correction.
色ずれ補正を行うに際し、色ずれ測定用パターンの形状と画像検出センサーの受光領域の形状を関係づけることにより、コストアップを生じることなく、容易にパターンの正確な測定を可能とすることである。 - 特許庁 - The traverse pattern and the longitudinal pattern alternatively repeat the light region and the dark region per each unit length of one third of side length in the traverse or longitudinal direction of the central part 11.
そして、横方向パターン、及び縦方向パターンは、中央部１１の横方向、及び縦方向における辺の長さに対して１／３の長さにそれぞれ設定される単位長さごとに明領域、及び暗領域を交互に繰り返している。 - 特許庁 - To provide a photomask having an auxiliary pattern to be used for photolithographic techniques using an exposure light source at a short wavelength such as an excimer laser exposure device, in which phenomena of chipping, peeling or falling in the auxiliary pattern are prevented from occurring.
エキシマレーザ露光装置などの短波長の露光光源を用いたフォトリソグラフィ技術に使用する補助パターンを設けたフォトマスクにおいて、補助パターンの欠け、剥離、倒れ現象の発生を防止したフォトマスクを提供する。 - 特許庁 - The wiring board 1 includes a substrate 10 with light transparency; an alignment mark 14 and a first wiring pattern 21 formed on a first face 11 of the substrate 10, and a second wiring pattern 22 formed on a second face 12 of the substrate 10.
配線基板１は、光透過性の基板１０と、基板１０の第１の面１１に形成されたアライメントマーク１４及び第１の配線パターン２１と、基板１０の第２の面１２に形成された第２の配線パターン２２と、を含む。 - 特許庁 - To provide an information display panel which has metal glossiness, at the same time, can represent a beautiful pattern, can perform gradation-expression of transmission light of a backlight and, therefore, can represent a more beautiful pattern.
金属光沢性を有しつつ美しい模様を表現することができ、バックライトの透過光が階調表現できるので、さらに美しい模様を表現することができる情報表示パネルを提供することを課題とする。 - 特許庁 - The photomask has a mask pattern on one principal face of a transparent substrate, wherein the principal face including the mask pattern is covered with a thin film layer having a refractive index higher than that of air and high refractive index for exposure light.
透明基板の一主面側にマスクパターンを有するフォトマスクにおいて、前記マスクパターンを含む一主面側が、空気より屈折率が高く露光光に対して透過率の高い薄膜層で覆われていることを特徴とする。 - 特許庁 - Also, a hologram pattern on the optical recording medium 18 is irradiated by reading beams 16, and a beam splitter 17 having a half mirror surface 17a for image forming diffracted light from the hologram pattern onto the imaging device 19 is provided.
また、読み取りビーム１６を光記録媒体１８上のホログラムパターンに照射し、ホログラムパターンからの回折光を撮像素子１９に結像させるためのハーフミラー面１７ａを有するビームスプリッタ１７が設けられている。 - 特許庁 - The illumination unit include a paper phenol base circuit board 32 having a wiring pattern 34, a plurality of light-emitting elements 33 mounted on the paper phenol base circuit board 32, and stripe slits 38 formed in the surface of the wiring pattern 34.
配線パターン３４を有する紙フェノール基材回路基板３２と；紙フェノール基材回路基板３２に実装された複数の発光素子３３と；配線パターン３４の面に形成された線条スリット３８とを具備する。 - 特許庁 - The location of the base pattern in a substrate 1 is detected all over the substrate 1, and drawing data supplied to a drive circuit of a light beam irradiation apparatus 20 are created according to the location of the detected base pattern in the substrate 1.
下地パターンの基板１内での位置を、基板１全体に渡って検出し、検出した下地パターンの基板１内での位置に応じて、光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する描画データを作成する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a pattern formation body that can form a high-definition pattern at low cost and with good manufacturing efficiency and that can use a non-parallel light source.
本発明は、製造効率よく低コストに高精細なパターンを形成することが可能であり、かつ平行光でない光源を用いることが可能なパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁 - To provide an apparatus and method for inspecting unevenness of a periodic pattern which can accurately image and detect unevenness even in an object to be inspected in which it is difficult to inspect by visible light, such as a periodic pattern, particularly a halftone mask.
周期性のあるパターン、特にハーフトーンマスクのように可視光による検査が困難とされるような被検査体に対しても、ムラを高精度に撮像、検出可能な周期性パターンのムラ検査装置、および方法を提供する。 - 特許庁 - The present invention relates to the photosensitive resin composition containing a polyimide resin having an acid-dissociative group, a compound of generating sulfonic acid by irradiation of light, and a crosslinking agent, a manufacturing method for the pattern using the composition, and the electronic device having the pattern.
酸解離性基を有するポリイミド樹脂、光照射によりスルホン酸を発生する化合物、および架橋剤を含有する感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 - 特許庁 - In the laser deposition process, a film pattern 40 containing a functional liquid material is formed on a substrate 21 and irradiated with a laser beam, and a wiring pattern is formed with heat generated through photothermal transformation caused by absorbing laser light.
レーザ成膜方法は、機能性液状材料を含む膜パターン４０を基板２１上に形成し、膜パターン４０にレーザ光を照射し、レーザ光の吸収による光熱変換で発生する熱で配線パターンを形成する。 - 特許庁 - To provide: a new photosensitive resin composition which is uncolored and can form a pattern having a high transmittance to visible light; a cured resin pattern formed using the same; and a display element.
着色がなく、可視光に対する高い透過率を有するパターンを形成することができる新たな感光性樹脂組成物と、それを用いて形成された硬化樹脂パターン及び表示素子を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The light-propagating layer 2 is formed by forming a reflection film mask pattern 3A which reflects a laser beam on the surface of a glass 1 and irradiating the inner part of the glass 1 with femtosecond laser beams 7 through the reflection film mask pattern 3A.
ガラス１の表面にレーザビームを反射する反射膜マスクパターン３Ａを形成することにより、ガラス１の内部に反射膜マスクパターン３Ａを介してフェムト秒レーザビーム７を照射して光伝搬層２を形成する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a transmission type phase shift photomask which efficiently manufactures the high-quality photomask which is free of roughness in an etching surface, is improved in the overlap accuracy of a resist pattern and a light shielding layer pattern and has excellent resolution property.
エッチング面に荒れがなく、レジストパターンと遮光層パターンの重ね合わせ精度が向上した、解像性に優れた高品質なフォトマスクを効率よく製造する透過型位相シフトフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The method for forming a resist pattern includes steps of forming a resist film by using the above resist composition for EUV on a substrate, exposing the resist film to EUV light, and forming a resist pattern by developing the resist film.
支持体上に、前記ＥＵＶ用レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜をＥＵＶ露光する工程、および前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a method for forming a pattern of a metal oxide thin film using a precursor solution, which is capable of improving the light application sensitivity without improving any nature of a raw material solution, and improving any disturbance of a pattern form by the development.
原料溶液の性質を改善をすることなく、光照射感度を向上し、現像によるパターン形状の乱れを改善し得る、前駆体溶液を用いた金属酸化物薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has good line width roughness (LWR) performance and forms a pattern with suppressed application defects, and to provide a pattern forming method using the same.
ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能が良好であり、且つ塗布欠陥が抑制されたパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method and a resist film using the same, which form a pattern satisfying high sensitivity, high resolution and favorable line width roughness at the same time.
高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネスを同時に満足するパターンを形成することが可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法並びにレジスト膜の提供。 - 特許庁 - An image processing circuit 34a extracts the projection pattern within an image from the CCD 24a, computes the size of the projection pattern, and computes the distance from the infrared light emission end to the observed region and the irradiation angle to the observed region.
画像処理回路３４ａは、ＣＣＤ２４ａからの画像内の投影パターンを抽出し、その大きさを算出して、赤外光の出射端から被観察部位までの距離、および被観察部位への照射角度を算出する。 - 特許庁 - The forming method of a circuit pattern includes (1) a step to apply the aforementioned composition on a substrate, (2) a step to expose the photosensitive composition to light and then to develop, and (3) a step to perform wet etching of the substrate by using the pattern as a resist.
回路パターン形成方法は、（１）基板上に上記感光性組成物を塗布する工程、（２）上記感光性組成物にパターン露光した後現像する工程、（３）該パターンをレジストとして基板をウエットエッチングする工程を含む。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method enhancing a shape control property of a pattern comprising a liquid drop by enhancing an irradiation strength and an irradiation position accuracy of a laser light irradiation on the liquid drop deposited on a substrate, and a liquid drop delivery apparatus.
基板に着弾した液滴に照射するレーザ光の照射強度や照射位置精度を向上して、液滴からなるパターンの形状制御性を向上したパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁 - Frame covers 20, 22 to cover an illuminating lamp 14 are used, and a reflecting surface sheet 10 with a hologram pattern is disposed in it, so that light with the hologram pattern which is reflected by the radiation of the illuminating lamp is appreciated on the opposite side.
照明灯１４を囲うフレームカバー２０，２２を使用し、その内部にホログラム模様の付いた反射面シート１０を配置させ、その照明灯の照射により反射したホログラム模様光が対向側で観賞されるようにする。 - 特許庁 - The first pattern is projected to an object to be measured T by a projecting device 11, and the second pattern is projected to the object to be measured T by an auxiliary projecting device 12 comprised of a light source 121 of a laser or the like and a half mirror 122.
第１パターンは投影装置１１により計測対象Ｔに投影され、また第２パターンはレーザーなどの光源１２１およびハーフミラー１２２により成る補助投影装置１２により計測対象Ｔに投影される。 - 特許庁 - To provide a pattern projection device, making an illuminating area in the shape of a phosphor on the whole, projecting a measurement pattern with an enough quantity of light efficiently, and performing accurate observation.
本発明は、照明領域を全体として蛍光体の形状とすることができ、十分な光量の測定パターンを効率よく投影することができ、正確な観察を行うことができるパターン投影装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus capable of sufficiently securing a quantitative difference of reflected light between an intermediate transfer belt 5 as a base material and a registration correction control toner pattern when the toner pattern is detected by a reflection type optical sensor.
反射型光学センサによるレジストレーション補正制御用のトナーパターンの検出時に、下地となる中間転写ベルト５とトナーパターンとの反射光量の差を十分に確保することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - Since the intensity of light being projected to the lower layer photosensitive material decreases only at the outline position of the phase shifter, a fine pattern is formed, and the pattern density is doubled because the patterns are formed on the opposite sides of the phase shifter.
位相シフタの輪郭位置でだけ下層感光性材料に照射される光の強度が低くなるため、微細パターンを形成することができ、位相シフタの両側にパターンができるのでパターン密度を倍加することができる。 - 特許庁 - Although a diffusion pattern by dot printing is formed in the rear face of the light guide 11, a rectangular section 11a corresponding to a reel indication window 1a of a center panel 1 is a translucent part in which the diffusion pattern is not formed.
導光体１１の裏面には、ドット印刷による拡散パターンが形成されているが、中央パネル１のリール表示窓１ａに対応する矩形部分１１ａは拡散パターンが形成されない透光部となっている。 - 特許庁 - According to an embodiment, an imprint template, which is a template including a concavo-convex pattern on one surface, comprises: a substrate having light permeability; and a resin layer which is provided on the substrate and is to be a convex portion of the concavo-convex pattern.
本実施形態によれば、インプリント用テンプレートは、１面に凹凸パターンを有するテンプレートであって、光透過性を有する基材と、前記基材上に設けられ、前記凹凸パターンの凸部となる樹脂層とを備えている。 - 特許庁 - Next, a second pattern exposure which irradiates exposing light on the second resist film 105 through a second mask 103B is carried out, and the second resist film 105 develops to form a second resist pattern 105a from the second resist film 105.
続いて、第２のレジスト膜１０５に第２のマスク１０３Ｂを介した露光光を照射して第２のパターン露光を行い、第２のレジスト膜１０５を現像して、第２のレジスト膜１０５から第２のレジストパターン１０５ａを形成する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method which increases the profile controlling properties of a pattern which consists of drops by enhancing the irradiation strength and irradiation position accuracy of laser light to irradiate the drops that is dropped on a substrate, and to provide a drop discharge apparatus therefor.
基板に着弾した液滴に照射するレーザ光の照射強度や照射位置精度を向上して、液滴からなるパターンの形状制御性を向上したパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a lighting fixture for a vehicle arranged so as to make beam projection to the road surface ahead of the vehicle with a specified light distribution pattern, capable of making the beam projection with different distribution pattern in accordance with the vehicle running situation.
所定の配光パターンで車両前方路面へ向けてビーム照射を行うように構成された車両用灯具において、車両走行状況に応じて異なる配光パターンでビーム照射を行えるようにする。 - 特許庁 - To provide a rotary type pattern display device for a game machine capable of preventing the leakage of light to the outside, making it impossible to view the inside of a pattern display body from the outside and making the display area of patterns look large.
外部への光の漏れを防止し、かつ外部から図柄表示体の内部を視認し得なくすると共に、図柄の表示領域を大きく見せることが可能な遊技機用の回転式図柄表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive type pattern forming material having high sensitivity and high resolution, excellent in various performances such as dimension controllability and developed with an aqueous alkali solution and to provide a method for producing a mask for exposure in which the pattern forming material is made to function as a light shielding film.
高感度、高解像度、寸法制御性等の諸性能に優れたアルカリ水溶液を用いて現像するポジ型パタン形成材料およびそれを遮光膜として機能させる露光用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The sub-lamp units 19, 21 are provided with vertical change mechanisms to change the irradiation direction in a vertical direction, a horizontal change mechanism to change the irradiation direction in right and left directions, and a pattern change mechanism to change the light distribution pattern, respectively.
サブランプユニット１９，２１は、照射方向を上下方向に変更する上下変更機構と、照射方向を左右方向に変更する左右変更機構と、配光パターンを変更するパターン変更機構とをそれぞれ備える。 - 特許庁 - A circuit pattern is drawn partially in beltlike regions Ra_01, Ra_02, Ra_03,... with multiple exposure light beams of the respective exposure units and the beltlike regions Ra_01, Ra_02, Ra_03,... are connected partially overlying one another in the Y direction to obtain the whole circuit pattern.
各露光ユニットの多重露光により回路パターンを部分的に帯状領域Ｒａ_01、Ｒａ_02、Ｒａ_03・・・に描画し、帯状領域Ｒａ_01、Ｒａ_02、Ｒａ_03・・・をＹ方向に一部重ね合わせて繋ぐことにより回路パターン全体を得る。 - 特許庁 - Namely, a part of a pattern of metal wiring material located at a layer upper than a channel layer of a thin-film transistor constituting a pixel circuit is laid out so that spacing in the pattern comprising a lower electrode material of a light emitting element is blocked.
すなわち、画素回路を構成する薄膜トランジスタのチャネル層よりも上層に位置する金属配線材料の一部パターンを、発光素子の下部電極材料で構成されるパターン間の隙間を塞ぐようにレイアウトする。 - 特許庁 - In the flare value calculation method, an average light intensity in the case of performing exposure processing to a substrate using a mask pattern group in which mask patterns created with two or more kinds of sizes are arranged is calculated for every above-mentioned mask pattern.
前記フレア値算出方法、では、複数種類の寸法で作成されたマスクパターンが配置されたマスクパターン群を用いて基板への露光処理を行った場合の平均光強度を前記マスクパターン毎に算出する。 - 特許庁 - After a cholesteric liquid crystal layer 16 provided on a temporary substrate 10 is laminated on a substrate 22, the cholesteric liquid crystal layer 16 is heated up to a prescribed temperature and exposed to an active light beam using a pattern at this temperature to form a first pattern.
仮支持体１０に設けたコレステリック液晶層１６を、基板２２にラミネートしてコレステリック液晶層１６に対して、所定の温度に加熱し、この温度条件下で活性光線をパターン露光して第一のパターンを形成する。 - 特許庁 - By the light, data are latched by an IC that is operating under the influence of a test program, test pattern output is obtained from the IC, and it is judged whether the IC is in an appropriate operation state or not according to the test pattern output.
この光により、試験プログラムの影響下で作動中のＩＣにデータがラッチされ、そのＩＣからテストパターン出力が得られ、そのテストパターン出力によってＩＣが正しい動作状態にあるか否かを判定する。 - 特許庁 - The CPU 120 corrects an adjustment pattern image on the basis of the conducted stripe element width, rewrites contents of a pattern image memory 107 and instructs an image processing section 108 and a liquid crystal light valve drive section 110 or the like to project an image.
ＣＰＵ１２０は、導き出したストライプ要素幅に基づき、調整用パターン画像を修正して、パターン画像メモリ１０７の内容を書き換え、画像処理部１０８，液晶ライトバルブ駆動部１１０などに画像投射を指示する。 - 特許庁
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