「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 78 79 80 81 82 83 84 85 86 .... 141 142 次へ＞- To provide a pattern forming technique for forming a pattern on a substrate by coating a substrate surface with an application liquid containing a photo-curable material and irradiating with light, which is capable of preventing the application liquid from being adhered to the periphery of a nozzle and securely irradiating and curing the applied liquid with light.
基板表面に光硬化性材料を含む塗布液を塗布して光照射することで基板上にパターンを形成するパターン形成技術において、ノズル周辺での塗布液の固着を防止し、しかも、塗布された塗布液に確実に光を照射して硬化させることのできる技術を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity to both of light of 350-370 nm and light of 400-410 nm, capable of forming a resist pattern having a good profile with high resolution, and ensuring good strippability of the formed resist pattern, and a photosensitive element using the composition.
３５０ｎｍ〜３７０ｎｍ及び４００ｎｍ〜４１０ｎｍのいずれの光に対しても高感度であり、良好な形状を有するレジストパターンを高解像度で形成することができるとともに、形成されたレジストパターンの剥離性が良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメントを提供すること。 - 特許庁 - This manufacturing method uses the photomask 7 which has a pattern A for diffuse reflection area formation formed inside and a transparent pattern B formed outside and the exposure is carried out after the surface of the substrate 1 is coated with the positive photoresist with which a light-absorbing material having light absorptivity in a sensitive wavelength range is mixed.
この製造方法では、内側に拡散反射領域形成用パターンＡが外側に透明パターンＢが形成されたフォトマスク７を用い、基板１の表面上に感光波長域に対して吸光性を有する吸光性材料が混入したポジ型のフォトレジストを塗布してから露光を行う。 - 特許庁 - The light emitting module 10 is provided with: a metal substrate 12; an insulation layer 24 covering the upper surface of the metal substrate 12; a conductive pattern 14 formed on the upper surface of the insulation layer 24; and a light emitting device 20 which is fitted on the upper surface of the metal substrate 12 and electrically connected with the conductive pattern 14.
発光モジュール１０は、金属基板１２と、金属基板１２の上面を被覆する絶縁層２４と、絶縁層２４の上面に形成された導電パターン１４と、金属基板１２の上面に固着されて導電パターン１４と電気的に接続された発光素子２０とを主要に備える。 - 特許庁 - A rink course 1 is composed of a concrete panel 3 spread over the surface of the ground surface 2, a wavelet pattern is drawn on the surface of the concrete panel 3 by fluorescent painting, a light emitting body 4 is formed from that pattern and in order to enhance the stage effect, the fluorescent colors of adjacent light emitting bodies 4 are made different.
リンクコース１は基礎面２の表面に敷設されたコンクリートパネル３により構成されるもので、コンクリートパネル３の表面には、例えば波形模様に、蛍光塗料により描画してその模様により発光体４を形成しており、演出効果を高めるために、隣接する発光体４の蛍光色を異ならせてある。 - 特許庁 - With the fiber laser modulation apparatus 1, the pattern signal 11 generated at the pattern generator 2 is formed by the output level of four periods of a low output period, an output elevation period, a high-output period and an output fall period, so that an output light 14 becomes a rectangular form pulsed light without the surge pulse.
出力光１４が、サージパルスを伴わない矩形状のパルス光となるよう、ファイバレーザー変調装置１では、パターン発生器２で生成するパターン信号１１を、低出力期間、出力上昇期間、高出力期間及び出力低下期間の４期間の出力レベルで形成するようにしている。 - 特許庁 - An aligner 9 by which the pattern of the mask R is exposed by exposure light B on the base plate P through a projection optical system 12, is provided with a line width detector to detect the pattern line width of the mask R and a controller 23 to control the exposure of the exposure light B based on the detected result of the line width detector.
露光光ＢによりマスクＲのパターンを投影光学系１２を介して基板Ｐに露光する露光装置９において、マスクＲのパターン線幅を検出する線幅検出装置と、線幅検出装置の検出結果に基づいて、露光光Ｂの露光量を制御する制御装置２３とを備える。 - 特許庁 - To set a light distribution pattern for low beam to be a light distribution pattern with a cutoff line and to sufficiently ensure visibility of a the upper part before a vehicle during high beam running, in a vehicular headlamp constituted so that beam switching between the low beam and the high beam is performed by vertically tilting a reflector by a given angle.
リフレクタを上下方向に所定角度傾動させることによりロービームとハイビームとのビーム切換えを行うように構成された車両用前照灯において、ロービーム用の配光パターンをカットオフラインを有する配光パターンとした上で、ハイビーム走行時における車両前方上方の視認性を十分に確保する。 - 特許庁 - To solve the problem in conventional inspection apparatus and inspection method using a Fourier transform filter that a reflecting light from an edge of an irregular circuit pattern cannot be removed although the apparatus and method are effective to remove a diffraction light from a repeated pattern, and consequently sophisticated image processing such as processing the edge, distinguishing foreign matters from false failures in the vicinity of the edge, etc., is required.
従来のフーリエ変換フィルタを用いた検査装置及び検査方法では、繰り返しパターンからの回折光の除去には有効であるが、不規則な回路パターンのエッジ部からの反射光は除去できず、エッジ部処理やエッジ部近傍における異物と疑似不良の識別等高度な画像処理が必要でありる。 - 特許庁 - The arrangement intervals of a plurality of LEDs constituting lamp units 203 and 210 are arranged densely and coarsely, and the area of a wiring pattern connected to the light-emitting elements at a part where the arrangement intervals of the LEDs are dense is larger than the area of a wiring pattern connected to the light-emitting elements, at a part where the arrangement intervals of the LEDs are coarse.
ランプユニット２０３，２１０を構成する複数のＬＥＤの配置間隔は疎密に配置され、ＬＥＤの配置間隔が密となっている箇所の発光素子に接続される配線パターンの面積は、ＬＥＤの配置間隔が疎となっている箇所の発光素子に接続される配線パターンの面積よりも大きい。 - 特許庁 - When a vehicle travels while turning toward an opposite traffic lane side, an auxiliary light distribution pattern P(B) having an oblique cut-off line CLb is added to the further upper side than the oblique cut-off line CL2 of a low beam light distribution pattern P(L) by moving the movable shade to the shielding releasing position to enhance visibility of the front in the turning direction.
そして、車両が対向車線側へ旋回走行する際には、可動シェードを遮蔽解除位置に移動させることにより、ロービーム配光パターンＰ（Ｌ）の斜めカットオフラインＣＬ２よりも上方側に斜めカットオフラインＣＬｂを有する補助配光パターンＰ（Ｂ）を付加し、旋回方向前方の視認性を高める。 - 特許庁 - To provide a halftone mask having a structure of a light shielding film and a translucent film layered on a transparent substrate, in which admissibility for an alignment error is increased by patterning a first layer (light shielding film) by using indispensable pattern data if great importance is placed on the first layer and by patterning a second layer by using redundant pattern data including errors of superposition.
透明基板上に遮光膜と半透過膜とが積層した構造を備えるハーフトーンマスクにおいて、アライメント装置によって第１層目と第２層目とのアライメントを行った際に発生する、第１層目と第２層目との間にアライメント誤差により必要なパターンが得られなくなるという問題を解決する。 - 特許庁 - The headlamp 10 includes an irradiating unit 30 for scanning and emitting the light from a semiconductor laser element 21 (a semiconductor laser device 20), a control part 41 for determining the light distribution pattern formed by the light emitted from the irradiating unit 30, and an output adjusting part 40 for adjusting output of the semiconductor laser element 21 by interlocking with scanning of the irradiating unit 30 based on the light distribution pattern determined by the control part 41.
この前照灯１０は、半導体レーザ素子２１（半導体レーザ装置２０）からの光を走査して出射する照射ユニット３０と、照射ユニット３０から出射する光により形成される配光パターンを決定する制御部４１と、制御部４１により決定された配光パターンに基づいて、照射ユニット３０の走査に連動して半導体レーザ素子２１の出力を調節する出力調節部４０とを備える。 - 特許庁 - Thus, as compared with a pattern drawing device having only one light source, the frequency of the lights emitted to a region where one drawn pattern element is drawn on the substrate 9 can be doubled and the moving speed of the substrate 9 in the main scanning direction during drawing the pattern can be increased to improve the drawing speed of the pattern on the substrate 9.
これにより、１つの光源のみを有するパターン描画装置に比べて、基板９上の１つの描画パターン要素が描画される領域に照射される光の周波数を２倍とすることができ、パターンの描画時における基板９の主走査方向の移動速度を増大させて基板９に対するパターンの描画速度を向上することができる。 - 特許庁 - This plasma display device includes a filter having a first base layer, a second base layer having a smaller refractive index than the first layer, and an external light shielding sheet including a plurality of pattern parts formed at spaces between the first and second base layers, wherein among the plurality of pattern parts, the interval between the two pattern parts adjacent to each other is larger than the height of the pattern part.
プラズマディスプレイ装置は、パネルの上部基板側に形成され、第１ベース層と、第１ベース層より小さな屈折率を有する第２ベース層と、第１、２ベース層の間に互いに離隔して形成される複数のパターン部を含む外光遮断シートと、を備えるフィルタを含み、複数のパターン部のうち、互いに隣接した２つのパターン部間の間隔は、パターン部の高さより大きい。 - 特許庁 - The resist pattern forming method has steps of placing on a base material a liquid material, containing a resist and fine particles exhibiting reflection factor/wavelength characteristics different from those of the base material in a visible light region to form a material pattern 10A on the base material, and drying the material pattern to form a resist pattern 10B.
レジストパターン形成方法が、レジストと、可視光域において下地物体の反射率・波長特性とは異なる反射率・波長特性を呈する微粒子と、を含有した液状材料を前記下地物体上に配置して、前記下地物体上に材料パターン１０Ａを形成する工程と、前記材料パターンを乾燥してレジストパターン１０Ｂを形成する工程と、を有している。 - 特許庁 - The semiconductor light-emitting device is provided with a substrate 31 and a semiconductor layer, an active layer, and an electrode layer formed on the substrate, in which a multi-pattern structure is provided including a first pattern 32 formed in a corrugated structure between the substrate and the semiconductor layer, and a second pattern 33 having a corrugated structure formed on the corrugated structure of the first pattern.
基板３１及び基板上に形成された半導体層、活性層及び電極層を備える半導体発光素子において、基板と半導体層との間に凹凸構造で形成された第１パターン３２と、第１パターンの凹凸構造上に形成された凹凸構造の第２パターン３３と、を備える多重パターン構造を有する半導体発光素子である。 - 特許庁 - In the exposure method where a mask formed with a desired pattern and an auxiliary pattern having dimensions smaller than those of the desired pattern is illuminated and light passed through the masks are projected to a body exposed through a projection optical system, the body is exposed at a position shifted from a best image focusing position when the auxiliary pattern is resolved.
所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法が小さな補助パターンとを有するマスクを照明して当該マスクを経た光を投影光学系を介して被露光体に投影し露光する露光方法において、前記補助パターンが解像されてしまう場合に、最良結像フォーカス位置からずれた位置で前記被露光体を露光することを特徴とする露光方法を提供する。 - 特許庁 - A pattern on a mask is transferred onto a surface of a three-dimensional structure as an axially endless pattern without seam by irradiating a planar photomask face having a predetermined mask pattern with light, reflecting the transmitted light on a three-dimensional reflection mirror having a conical opening, irradiating a photosensitive material applied on the surface of the three-dimensional structure with the reflected light for exposure, and intermittently supplying the three-dimensional structure.
所定のマスクパターンを有する平板型フォトマスク面上に光を照射し、その透過光をすり鉢形状の開口穴を有する立体反射型ミラーによって反射させて、立体構造体の表面に塗布した光感光性材料に照射して露光させるとともに、この立体構造体を間欠的に供給することにより、立体構造体の表面上に、マスク面上のパターンを、継ぎ目が無く、しかも軸方向に際限なく連続したパターンとして転写する。 - 特許庁 - The wireless light emitting display apparatus is constituted of many light emitting modules 10 arranged on positions to be displayed in a prescribed array pattern and respectively having individual identification IDs and at least one control computer 2 for controlling selective on/off of these light emitting modules 10 in accordance with respective individual identification IDs.
表示対象位置に所定の配列パターンを以って設置され、固体識別ＩＤを付与された多数個の発光モジュール１０と、これら発光モジュール１０を固体識別ＩＤによって選択的に点灯・消灯制御する少なくとも１台の制御コンピュータ２とから構成する。 - 特許庁 - In a pattern sequence of input/output signals of an optical pickup, a differential output signal of a light quantity detecting element outputting an electrical signal according to a light beam receiving quantity emitted from a light source, is arranged adjacently to a power source voltage and a reference potential.
光ピックアップ装置の入出力信号のパターン配列において、光源から出射される光ビーム受光量に応じた電気信号を差動信号で出力する光量検出素子の差動出力信号が、電源電圧と基準電位に隣接配置されたパターン配列とする。 - 特許庁 - The luminance of a plurality of light emission diodes configuring a back-light 4 of a liquid crystal display 2 is encoded by two or more steps of luminance code values, and light emission is modulated so that the combination of those luminance code values can be periodically changed according to a predetermined code pattern.
液晶ディスプレイ２のバックライト４を構成する複数の発光ダイオードの輝度を複数段階の輝度符号値により符号化するとともに、それら輝度符号値の組合せが予め定められた符号パターンに従い周期的に変化するように変調発光駆動する。 - 特許庁 - To provide a vehicular lighting fixture capable of forming a light-distributing pattern with a clear cutoff line without using a shade and generating spectrum colors, wherein light from a light source having an edge extending in a linear line is reflected with first and second reflectors in sequence.
直線状に延びるエッジを有する光源からの光を、第１および第２リフレクタで順次反射させる構成の車両用照明灯具において、シェードを用いることなく、かつ分光色を生じさせることなく、鮮明なカットオフラインを有する配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁 - An optical signal from a light-emitting element 2 enters an optical transmission medium 10, and then it is received by a light-receiving element 20a in a light-receiving section 20 arranged at the other end of the optical transmission medium 10, and converted from a current into a voltage by a first amplifier 20b before being outputted to a wiring pattern 21.
発光素子２による光信号は光伝送媒体１０に入光し、光伝送媒体１０の他端に配設された受光部２０の受光素子２０ａで受光され、第１の増幅器２０ｂで電流から電圧に変換された後、配線パターン２１へ出力される。 - 特許庁 - In this surface defect inspection device, the light emitting elements 30 are arranged consecutively to remain a prescribed shape of dark face in an inside, in the lay-out pattern, and arranged to receive the irradiation light of each of the light emitting elements 30 reflected from the inspected face on at least one dark face 31 by the imaging camera 4.
レイアウトパターンが発光素子３０を内側に所定形状の暗面を残すように連続的に配置させたものであり、少なくとも１つの暗面３１に撮像カメラ４が被検査面から反射される各発光素子３０の照射光を受光するように配置する。 - 特許庁 - Microlenses on imaging device are formed by a first process of forming microlenses on light-receiving sections selected in the shape of a checkered pattern from a plurality of light-receiving sections, and a second process of forming microlenses on the light-receiving sections which have not been selected in the first process.
固体撮像素子上のマイクロレンズを、複数の受光部の中から市松状に選択された受光部上にマイクロレンズを形成する第一工程、前記第一工程において選択されなかった受光部上にマイクロレンズを形成する第二工程により形成する。 - 特許庁 - A method for evaluating a thin film for a transfer mask having a thin film in which a pattern is formed on a transparent substrate by irradiating with ArF excimer laser exposure light includes a step of evaluating light resistance of the thin film by intermittently irradiating the thin film with pulsed laser light.
ＡｒＦエキシマレーザー露光光が適用され、透光性基板上にパターンが形成された薄膜を備えた転写用マスクのための薄膜の評価方法であって、パルスレーザ光を前記薄膜に間欠的に照射することによって薄膜の耐光性を評価する工程を備える。 - 特許庁 - This mask for reflection type exposure includes: a first layer formed on a support substrate 100 and having a low-reflection processing pattern absorbing exposure light and a reflective multilayer film 101 reflecting exposure light; and a second layer formed on the reflective multilayer film 101 and having an absorber layer 120 absorbing exposure light.
支持基板１００上に形成され、露光光を吸収する低反射加工パターンと露光光を反射する反射多層膜１０１とを有する第１の層と、反射多層膜１０１上に形成され、露光光を吸収する吸収体層１２０を有する第２の層とを備える。 - 特許庁 - The headlight device for a vehicle 10 selectively forms a light distribution pattern among a plurality of them by selectively changing over light-shielding states of light irradiated from a bulb 30 and reflected by a reflector 32 with the use of a first shade 38 and a second shade 40.
車両用前照灯装置１０は、バルブ３０から放射されリフレクタ３２で反射した光を第１シェード３８および第２シェード４０を用いて遮光状態を選択的に切り替えることにより複数種類の配光パターンの中からいずれかの配光パターンを選択的に形成する。 - 特許庁 - By forming recesses and projections for constituting a diffraction grating having a two-dimensional shape in either the body of the mark for forming an alignment pattern or the periphery of the mark, diffracted light from the diffraction grating and non-diffracted light are used to enhance light intensity contrast.
アライメントパターンを形成するマーク本体部と、マーク周辺部のいずれかに、二次元的な形状を有する回折格子を構成する凹凸を設けることにより、回折格子からの回折光と、非回折光とを利用して、光強度コントラストを大きくすることができる。 - 特許庁 - In the method for forming a fine pattern, a light shielding film of photomask is brought into contact with a photoresist on a substrate and then pressed against the photoresist thus bringing micro openings, formed by the light shielding film, close to the photoresist before the photoresist is exposed with evanescent light.
微細パターン作製方法において、フォトマスクの遮光膜を、基板上のフォトレジストに接触させた後、さらに押し付け、遮光膜によって形成された微小開口と前記フォトレジストとの距離を近付けてから、エバネッセント光によってフォトレジストを露光するように構成する。 - 特許庁 - To provide Makyoh configured to confirm a sharp design pattern with projected reflected light even in the absence of a parallel light beam such as a sunbeam, immediately confirm properties of the reflected light used for projection, and immediately determine a condition of a color used for colored projection.
太陽光線などの平行光線が得られないときであっても、投影した反射光で鮮明な意匠文様を確認でき、加えて、投影に用いる反射光の性質もすぐに確認可能であり、色彩を有する投影の際にその色具合がすぐに判明するような魔鏡を提供する。 - 特許庁 - malfunctionS of the photodetection element are prevented by the light-shielding layer 112, and the electric potential of the light-shielding layer 112 is kept fixed by a capacitor constituted of the light-shielding layer 112, the insulating layers 114, 118 and the electrode pattern 120b so that the output current characteristics of the photodetection element D are stabilized and maintained.
遮光層１１２により光検知素子の誤動作が防止され、遮光層１１２、絶縁層１１４，１１８、及び電極パターン１２０ｂからなるキャパシタにより、遮光層１１２の電位が一定に維持されることにより、光検知素子Ｄの出力電流特性が安定して維持される。 - 特許庁 - The light guide body 30 is, furthermore, has a diffusion face which is the other face of the light guide body 30 extending in the length direction (for example, an upper face) and in which a diffusion pattern for diffusing the incident light from the incident face is formed, and the diffusion face is covered with a reflecting body of a plate shape.
導光体３０は、さらに、導光体３０の長手方向に延在する他の面（例えば、上面）であり入射面から入射した光を拡散させる拡散パターンが形成されている拡散面を有し、この拡散面は板状の反射体で覆われている。 - 特許庁 - To provide a black curable composition for a wafer-level lens that forms a cured film with excellent light shielding properties and exhibiting excellent sensitiveness necessary for curing in pattern formation, and an easy-to-produce wafer-level lens with light quantity properly adjusted by the presence of a light shielding film.
遮光性に優れた硬化膜を形成することができ、パターン形成時の硬化に必要な感度に優れたウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物を提供し、遮光膜の存在により光量が適切に調整され、簡易に製造しうるウエハレベルレンズを提供する。 - 特許庁 - To provide an optical imaging device making the light quantity of a measurement light constant independently of a modulation pattern by a compensation optical system using a spatial light modulation means, and improving the SN ratio of a tomographic image, and to provide a method for imaging an optical tomographic image.
空間光変調手段を用いた補償光学系により、変調パターンに依らず、測定光の光量を一定とすることができ、断層画像のＳＮ比を向上させることが可能となる光画像撮像装置および光断層画像の撮像方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an imaging system capable of appropriately controlling light emission luminosity of a flash in consideration of exact illuminance and pickup image quality of an object at the time of flash photography, etc., a light emission system capable of changing a light emission pattern in response to sound and electronic equipment equipped with them.
フラッシュ撮像時の被写体の正確な照度や撮像画像品質などを考慮してフラッシュの発光光度を適切に制御することができる撮像システム、音に反応して発光パターンを変化させることができる発光システム、およびこれらを備えた電子機器を提供する。 - 特許庁 - To provide a light guide plate manufacturing device capable of forming recessed pattern marks in a shape approximate to a design value with respect to the principle plane of a light guide plate base material by controlling a machining condition using a horn for ultrasonic machining for the light guide plate base material.
本発明は、超音波加工用ホーンを用いた導光板基材に対する加工条件を制御することにより、導光板基材の主面に対して設計値に近似した形状の凹パターン痕を形成することができる導光板製造装置の提供を目的とする。 - 特許庁 - The cleaning device 150 cleans optical elements M1-M6 in an exposure apparatus 100 that exposes an object to be treated, using second light of which a wavelength is different from that of first light, by projecting, with the first light, the pattern of a mask 2 through the optical elements to the object 4 to be treated.
洗浄装置１５０は、第１の光によりマスク２のパターンを光学素子Ｍ１〜Ｍ６を介して被処理体４に投影することにより該被処理体を露光する露光装置１００における該光学素子を、第１の光とは波長が異なる第２の光を用いて洗浄する。 - 特許庁 - To see to it that a low-beam light distribution pattern with a clear cutoff line at a top end part is formed, so as not to trouble an oncoming vehicle driver with big glare, in case a projector-type lamp tool unit with a light-emitting element as a light source is adopted for a vehicle headlight.
車両用前照灯の灯具ユニットとして、発光素子を光源とするプロジェクタ型の灯具ユニットを採用した場合において、上端部に鮮明なカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成するようにした上で、対向車ドライバに大きなグレアを与えてしまわないようにする。 - 特許庁 - The light-emitting part 3 of each light emission pattern group 23A, 23B has an equal width in the main scanning direction and a width in the sub scanning direction made different, so that a quantity of light irradiated to a recording medium is formed with an emission area corresponding to a luminance ratio optimum for obtaining a color balance.
各発光パターン群２３Ａ，２３Ｂの発光部３は、主走査方向の幅が同一寸法であり、副走査方向の幅を変えることにより、記録媒体に照射される光量がカラーバランスを取るための最適な輝度比に応じた発光面積で形成される。 - 特許庁 - This dial switch is equipped with a switch part 21 which has an operation part 31 and a switch body 33, an indication panel part 23 by which multiple light shielding patterns are provided all over the translucent zone, a light source 25 which illuminates the light shielding pattern of the indication panel part 23, and a rotary gobo 27.
このダイヤルスイッチは、操作部３１およびスイッチ本体３３を有するスイッチ部２１と、透光領域中に複数の遮光パターンが設けられた指標パネル部２３と、指標パネル部２３の遮光パターンを照明する光源２５と、回転遮光板２７とを備える。 - 特許庁 - Further, the control section 100 provides a control signal with a prescribed pattern to a light emitting section 30 to allow the light emitting section 30 to output an optical signal modulated by the control signal and monitors whether the optical signal is reflected in the patient or a person to be nursed and received by a light receiving section 40.
また制御部１００は、発光部３０に所定のパターンの制御信号を与えることで、発光部３０に上記制御信号で変調した光信号を出力させ、この光信号が患者や被介護者に反射して受光部４０により受光されたか否かを監視する。 - 特許庁 - A game using the slotting machine game board has a constitution in which, even after the rotation of the reels 1a-1c is stopped, and for example, specified picture patterns coincide with each other, the light emitting displaying devices emit light and coincidence of light emitting condition or coincidence of changes in the picture pattern are judged to furthermore continue the lottery.
スロットマシン遊戯台を使用する遊戯であり、リール１ａ〜１ｃの回転が停止し、例えば特定の図柄が一致した後でも、発光表示素子を発光し、発光状態の一致、又は図柄の変化の一致を判断し、抽選を更に継続する構成である。 - 特許庁 - A material having a spectral transmittance of 70% or higher to detection light and having a spectral transmittance of 50% or lower to part of light having a visible wavelength (for example, blue light) is adopted in a translucent part relative to at least a code pattern of the code disc in the optical encoder.
光学式エンコーダにおけるコード板の少なくともコードパターンについて、透光部において、検出光に対し７０％以上の分光透過率を有し、且つ、可視波長の一部の光（例えば青色光）に対して５０％以下の分光透過率を有しているものを採用する。 - 特許庁 - A pattern storage means displays to a performance display device 60 a content which encourages a player to display a video of the infrared light emitter by using the mobile phone and holds a plurality of specific performance patterns showing light emission procedures for lighting the infrared light emitter.
パターン記憶手段は、携帯電話を用いて赤外線発光装置の映像を表示させるよう遊技者に促す内容を演出表示装置６０に表示すると共に、赤外線発光装置を発光させる発光手順を示す特殊演出パターンを複数保持する。 - 特許庁 - In the photomask, a stripe part S1 of the light-shielding pattern, having a small window width is affected less by flare light, so that the hollow size of side surface 11A of a protrusion part 11 of a transparent substrate 1 is enlarged, and thereby the canceling due to interference of oblique incident light is reduced.
このフォトマスクによれば、窓幅が小さい遮光パターンのストライプ部Ｓ１では、フレア光の影響が小さいから、透明基板１の凸部１１の側面１１Ａが窪んでいる寸法を大きくすることによって、斜め入射光の干渉による打ち消し合いを少なくする。 - 特許庁 - Many hollows 103 and 104 are formed in specified pattern on one largest-size surface of light guide plates 101 and 102 made of thin plates having high transparency and coated with paint, and light sources 107, 108, 109, and 110 are installed nearby end surfaces of the light guide plates.
透明性の高い薄板から成る導光板１０１，１０２の面積が最大の１つの表面に所定のパターンによる多数のくぼみ１０３，１０４を施し、そのくぼみに塗料を塗布し、その導光板の端面の近傍に光源１０７，１０８，１０９，１１０を設置する。 - 特許庁 - The device includes a shade mechanism 34 for changing a shading state of light emitted from a bulb 30 to form one light distribution pattern from a plurality of kinds of light distribution patterns and a first actuator 42 and a second actuator 44 for changing the shading state by the shade mechanism 34.
バルブ３０から照射された光の遮光状態を変化させて複数種類の配光パターンの中から１つの配光パターンを形成するシェード機構３４と、このシェード機構３４による遮光状態を変化させる第１アクチュエータ４２、第２アクチュエータ４４を含む。 - 特許庁 - The vehicle operation supporting system 1 comprises a beam irradiation device 5 for irradiating the road surface with a visible light beam B in a predetermined pattern, and an optical filter 13 for transmitting reflected light of the visible light beam B reflected from the road surface to the vehicle at a predetermined transmittance characteristic.
車両運転支援システム１は、道路路面上に所定のパターンで可視光ビームＢを照射するビーム照射装置５と、道路路面から車両に対して反射してくる可視光ビームＢの反射光を所定の透過率特性で透過させる光学フィルタ１３と、を備えている。 - 特許庁
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