「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 82 83 84 85 86 87 88 89 90 .... 141 142 次へ＞- Next, the difference image of the sensor image and the reference image is formed and a light quantity measuring area 104 is set in the region of a part of the contact pattern 102 in the difference image to evaluate the brightness of the light quantity measuring area 104.
次に、センサ画像と参照画像との差画像を作成し、この差画像において、コンタクトパターン１０２の一部の領域に光量測定エリア１０４を設定し、各光量測定エリア１０４の明るさを評価する。 - 特許庁 - To provide a surface light-emitting laser that, even if a shape of a step structure is changed in manufacturing process, suppresses the influence of the change to a far field pattern (FFP), and an image forming apparatus using the surface light-emitting laser.
作製プロセスにおいて段差構造の形状が変動したとしても、この変動がＦＦＰに与える影響を抑制することができる面発光レーザ、および、該面発光レーザを用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - A control section 61 uses an output image signal generated in accordance with the reflection light received by the light-receiving section 641 to read position information or identification information included in a code pattern image recorded on the medium 50.
制御部６１は、受光部６４１によって受光された反射光に応じて生成された出力画像信号を用いて、媒体５０上に記録されたコードパターン画像に含まれる位置情報や識別情報を読み取る。 - 特許庁 - The light emitted from the LEDs illuminates a pattern in a wide area by being diffusely reflected on the diffused reflection surface via the transparent FPC substrate, and thereby uniform surface emission is obtained by a fewer light emitting elements than before.
ＬＥＤが照射した光は、透明なＦＰＣ基板を通して乱反射面で乱反射して図柄を広範囲に照明するので、従来よりも少ない発光素子数で均一な面発光を確保することができる。 - 特許庁 - As a result, the phase mask pattern to be formed in the signal light region is no longer required to be coincide with a spatial light modulator in a pixel units, which results in the expansion of the flexibility of manufacturing the mask and of the ease of manufacturing.
これによって信号光領域に形成すべき位相マスクパターンは、空間光変調器のピクセル単位で一致させる必要がなくなり、その作製の自由度の拡大、及び製造の容易化を図ることができる。 - 特許庁 - The first wiring layer 6a is formed on the perimeter region of the light-receiving section in the first flattening layer 5a provided on the semiconductor substrate 3, and a first dummy pattern 10a is formed on the light-receiving section of the first flattening layer.
半導体基板３上に設けられた第１の平坦化層５ａの受光部周辺領域上に第１の配線層６ａを形成すると共に、第１の平坦化層の受光部上に第１のダミーパターン１０ａを形成する。 - 特許庁 - The EL sheet make only a drawn portion possible to emit light by arbitrarily drawing a desired letter or a pattern on the other face of the substrate 1 by using a electrically conductive material 6 having light-permeability.
このＥＬシートは、透明フィルム基板１の他方の面に、光透過性を有する通電性物質６を用いて任意に所望の文字やパターンなどを描画することにより、描画した部分だけを発光可能とするものである。 - 特許庁 - To achieve illuminating conditions abounding in a diversity regarding proper illuminating conditions required for accurately transferring a mask pattern having various characteristics such as the light intensity distribution, polarization state or the like of a secondary light source.
様々な特性を有するマスクパターンを忠実に転写するために必要な適切な照明条件、たとえば二次光源の光強度分布や偏光状態などに関して多様性に富んだ照明条件を実現する。 - 特許庁 - Provided that, in the formula (1), ξ is a value indicating a position in a radius direction of the lens in one period of the diffraction pattern, and ϕ(ξ) indicates a value (radian) of a phase shift amount of light passing the position ξ from the phase of light passing through a reference plane.
但し、ξは、回折パターンの１周期におけるレンズの半径方向の位置を示す値であり、φ（ξ）は、基準面を通過した光の位相に対して、ξの位置を通過する光の位相のずれ量の値（ラジアン）を示す。 - 特許庁 - When '0' is set in the auxiliary light projecting flag, that is, when no light projecting pattern is projected on the camera main body side, a blur detection arithmetic operation (S1106) and the driving of a correcting lens (S1108) are performed so as to correct image blur.
補助投光フラグに「０」がセットされている場合、即ち、カメラ本体側で投光パターンが投射されていない場合、ぶれ検出演算（Ｓ１１０６）及び補正レンズ駆動（Ｓ１１０８）を行ない、像振れを補正する。 - 特許庁 - The display device 101 is equipped with a main body 10 for housing a lighting device, a display plate 20 having a bent surface or a polygonal surface provided with a pattern to be displayed, and a light source 30 irradiating light on the recessed face side of the display plate 20.
表示装置１０１は、点灯装置を収納する本体１０と、表示する図柄を具備した湾曲面または多角形面を有する表示板２０と、表示板２０の凹面側を照射する光源３０とを具備する。 - 特許庁 - A reflection pattern 10, not making the incident light from the incident side face part 3 reflects toward the incident side face part 3 and a surface part 6, but reflecting only the reflection light from the reflection side face part 4, is arranged on a back face part 7.
また、裏面部７には、入射端面部３からの入射光が入射端面部３および表面部６方向に反射せず、反射端面部４からの反射光のみを反射する反射パターン１０を有する。 - 特許庁 - On the other hand, second patterns 5, 6 of the diffraction optical element are disposed on the parts which are respectively irradiated with +1st diffracted light beams and -1st diffracted light beams which are diffracted by the first pattern 4 of the diffraction optical elements on the main surface 3 of the substrate 1.
一方、基板１の主面３の、当該第１の回折光学素子パタン４で回折した＋１次回折光、−１次回折光がそれぞれ照射する部分に第２の回折光学素子パタン５，６を設ける。 - 特許庁 - Since the divergent light from the light source 5 is diffused by the diffusion plate 21 and the diffusion plate 21 is rotated in the prescribed cycle by the motor 23, the brightness difference of the speckle pattern of a laser beam received by the photoreceptor 9 is reduced.
これにより、光源５からの発散光が光拡散板２１にて拡散され、且つ、モータ２３により所定の周期で移動するため、受光器９にて受光するレーザ光のスペックルパターンの明暗の差が小さくなる。 - 特許庁 - To provide a pattern defect detection device that detects a fluorescent image, a diffusion light image, and a reflection light image of a substrate formed by laminating dry films so as to easily detect various defects occurring in an exposure process.
ドライフィルムが積層された基板の蛍光イメージと散乱光イメージ、そして反射光イメージをさらに検出して、露光工程で発生する様々な欠陥を容易に検出できるようにしたパターン欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a curing method and an apparatus for improved curing of a light curable sealing material for fixing two substrates which significantly suppress phenomenon of incomplete curing of the sealing material due to light blocking by a black matrix or metallization pattern.
ブラックマトリックスまたは金属パターンの遮光により、シール材が完全に硬化しない現象を顕著に抑制する二つの基板を固定するための光硬化性シール材の改良硬化方法及び改良硬化装置を提供する。 - 特許庁 - The three-dimensional measuring apparatus 1 comprises a table 2 for placing the measurement object C; an illuminating apparatus 3 for illuminating a stripe of light pattern; and a CCD camera 4 for imaging a section illuminated with light on the measurement object C.
三次元計測装置１は、測定物体Ｃを載置するためのテーブル２と、縞状の光パターンを照射するための照明装置３と、測定物体Ｃ上の照射された部分を撮像するためのＣＣＤカメラ４とを備える。 - 特許庁 - A path division section 104 divides input image data into image data for each of a plurality of times of scanning by using a mask pattern which is formed from the gap of scanning position of a light beam from each light emitting element of a recording means.
パス分割処理部104は、記録手段の各発光素子の光ビームの走査位置のずれ量に基づき作成されたマスクパターンを使用して、入力された画像データを複数回走査の各走査用の画像データに分割する。 - 特許庁 - A non-single-crystal semiconductor thin film 3 formed on an insulating substrate 1 having a thickness smaller than 50 nm is irradiated with laser light having a light intensity distribution of an inverse peak pattern to grow crystals unidirectionally in a lateral direction.
絶縁基板（１）上に設けられた５０ｎｍより薄い厚さの非単結晶半導体薄膜（３）に、逆ピークパターン状の光強度分布のレーザ光を照射して、結晶を横方向に且つ一方向に成長させる。 - 特許庁 - A metallized pattern 3 is formed on the upper surface of a mount 2 that is made of a pyrogenic conductive material such as ceramics, the width is set nearly equal to the width of a light-emitting device 1, and the length is set shorter than a length L of the light-emitting device 1 by α.
セラミックス等の高熱伝導材料から成るマウント２の上面にメタライズパターン３を形成し、その寸法を幅は発光素子１の幅と略等しく、長さは発光素子１の長さＬよりαだけ短くしておく。 - 特許庁 - Out of reflection light, a luminous flux of an area GZ corresponding to an A point of a light distribution pattern MP3 for motorway is shielded by an upper part 23U of a sub-fixed shade 23 extending upwards from an edge part 13 of movable shades 10, 11.
反射光のうちモータウエイ用の配光パターンＭＰ３のＡポイントに対応するエリアＧＺの光束は、可動シェード１０、１１のエッジ部１３から上方に突出するサブ固定シェード２３の上部２３Ｕにより、遮蔽される。 - 特許庁 - A surface to be inspected is imaged in such a state that it is irradiated with a light of a light and darkness pattern (S1) and the luminance part of imaging data is differentiated to acquire an extracted image wherein the boundary part of a highlight and a shadow is extracted (S3).
被検査面に明暗パターンの光を照射した状態で被検査面を撮像し（Ｓ１）、撮像データの輝度値を微分することにより明部と暗部の境界部分を抽出した抽出画像を取得する（Ｓ３）。 - 特許庁 - The crystallization equipment comprises an optical system (2) for illuminating a phase shifter (1) of a one dimensional pattern and forms a crystallization semiconductor film by irradiating a semiconductor film (4) with light having specified light intensity distribution through the phase shifter.
一次元パターンの位相シフター（１）を照明する照明光学系（２）を備え、位相シフターを介して所定の光強度分布を有する光を半導体膜（４）照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。 - 特許庁 - Even when the light shielding region 2 is illuminated by stray light produced by the reticle illumination optical system of the reducing stepper, the image of the line-and-space pattern P on the semiconductor wafer can be prevented.
したがって、縮小投影露光装置のレチクル照明光学系で発生した迷光により、遮光領域２が照明された場合にも、そのラインアンドスペースパターンＰが半導体ウェハ上に結像することを防止することができる。 - 特許庁 - The peripheral exposure method includes an ultraviolet irradiation unit (31) for irradiation with ultraviolet light, and exposes a peripheral area (EA) formed at a periphery of a circuit pattern area formed on a rectangular substrate (SW) with the ultraviolet light.
紫外光を照射する紫外線照射ユニット（３１）を有し、矩形基板（ＳＷ）に形成される回路パターン領域の周囲に形成される周辺領域(ＥＡ)を紫外光で露光する周辺露光方法である。 - 特許庁 - The X-ray imaging element 11 includes an X-ray conversion element 111 having a pattern equivalent to a diffraction grating formed of a material generating visible light by absorbing the X-ray, and an imaging element 112 for imaging the visible light.
Ｘ線撮像素子１１は、Ｘ線を吸収して可視光を発生する材料で形成された回折格子に相当するパターンを有するＸ線変換素子１１１と、可視光を撮像する撮像素子１１２とを含む。 - 特許庁 - The holographic system for storing the data of an interference pattern in a hologram storage medium includes a light source which emits laser light, a beam splitter, a modulating means and a refractive material.
前記目的を達成するように本発明により、レーザー光を放出する光源、ビームスプリッタ、変調手段及び屈折性物質を含む、ホログラム記憶媒体に干渉パターンのデータを記憶するためのホログラフィックシステムが提供される。 - 特許庁 - The level difference is located, in a plane view, on a position where a pattern is formed by superimposing a single pitch to diffract light of a specific wavelength at a specific angle and another single pitch to diffract light of another specific wavelength at a specific angle.
段差は、面方向に見て、１つの特定の波長の光を特定の角度に回折する単一のピッチと、他の特定の波長の光を特定の角度に回折する他の単一のピッチとを重ねたパターンをなす位置にある。 - 特許庁 - To provide a light-emitting device which is capable of providing with a special distribution in the irradiation pattern thereof and which suppresses deterioration in transmission of resin and emitting efficiency of phosphorous body while being capable of outputting high-intensity light with a high emission efficiency.
照射パターンに特別な分布をもたせることが可能で、樹脂の透過率および蛍光体の発光効率の劣化を抑制し、高輝度の光を高い発光効率で出力することのできる発光装置を提供する。 - 特許庁 - To display a color dot pattern representing an arbitrary character, figure, symbol, etc., by stably rotating a rotary light emission body in a well- balanced state without providing any balance weight and blinking light emission parts, arranged on its circumferential surface, in specific timing.
バランスウエイトを設けることなく回転発光体をバランスよく安定的に回転させ、その周面に配設された発光部を所定のタイミングで点滅させて任意の文字、図形、記号等を表すドットパターンをカラー表示させる。 - 特許庁 - A recognition device 1 is provided with an illumination means 4 which throws illuminating light, an optical sensor 5 which picks up the image of reflected light from a reflecting optical element 2 as a two-dimensional pattern, a signal processing part, an A-D converter, a memory, CPU, etc.
認識装置１は、照明光を照射する照明手段４、反射光学素子２からの反射光を２次元パターンとして撮影する光学センサー５をはじめ、信号処理部、Ａ−Ｄ変換器、メモリ、ＣＰＵなどを備える。 - 特許庁 - To provide an illumination optical system which achieves a suitable illumination condition by varying polarization states of the illumination light according to pattern characteristics of a mask while suppressing the loss of the amount of light when mounted on an exposure apparatus.
たとえば露光装置に搭載された場合に、マスクのパターン特性に応じて光量損失を抑えつつ照明光の偏光状態を変化させて適切な照明条件を実現することのできる照明光学装置。 - 特許庁 - In the pattern drawing system, a plurality of light beams emitted from a light source unit are guided to each of a plurality of irradiation regions 61 arrayed at a specified pitch with respect to an X direction on a substrate by an optical system.
パターン描画装置では、光源ユニットから出射される複数の光ビームが、光学系により基板上においてＸ方向に関して一定の照射ピッチで配列される複数の照射領域６１のそれぞれへと導かれる。 - 特許庁 - A light control signal output device 6 combines the lighting-on and lighting-off of the each discharge lamp 3 and a light control amount, and obtains a lighting pattern in which the optical output of the lighting fixture 1 becomes 100 %, 50 % and 25 %, in lighting-off.
調光信号出力装置６は、各放電灯３の点灯および消灯と調光量とを組み合わせて、照明器具１の光出力が１００％、５０％、２５％、消灯になる点灯パターンを実現する。 - 特許庁 - First, signal light 5 of P polarization for retaining data information according to space intensity distribution and including an alignment pattern is obtained, and a hologram is recorded into an optical storage medium 10 by reference light 6 of P polarization.
最初に、Ｐ偏光の信号光５として、空間強度分布によりデータ情報を保持し、かつ位置合わせ用パターンを含むものを得て、Ｐ偏光の参照光６によって、光記録媒体１０中に第１のホログラムを記録する。 - 特許庁 - Furthermore, a port arrival/departure management device 300 extracts the flash pattern of the starboard light or port side light of the ship 100 from a video photographed by each of the monitoring cameras 200-1 to 200-3, and detects the ID of the ship 100.
さらに、入出港管理装置３００は、各監視カメラ２００−１〜２００−３が撮影した映像から船舶１００の右舷灯または左舷灯の点滅パターンを抽出し、船舶１００のＩＤを検出する。 - 特許庁 - Further, in the light emitting layer, an organic EL element in which a patter is made visible by the difference in the color tone is also available by forming a display pattern made of light- emitting materials different from those of other parts, for instance, by including doping agent.
また、発光層において、ドーピング剤を含む等、他の部分とは異なる発光材料からなる表示パターン部を形成することによって、色調の差によりパターンを視認することができる有機ＥＬ素子とすることもできる。 - 特許庁 - In addition, as it is composed of the transparent substrate, in the pattern forming method using the mold for imprint, when it is cured by irradiating it with light, it is possible to irradiate it with the light from the side of the mold for imprint.
また、透明基板から構成されるため、後述する本発明のインプリント用モールドを用いたパターン形成方法において、光を照射し硬化させる際に、光をインプリント用モールド側から照射することが出来る。 - 特許庁 - The reflectance of a reflection layer 25 formed to adhere to the surface where a grating pattern 15 is formed or of a reflector or a reflection sheet 19 disposed below a light guide body increases with the distance from a light source.
回折格子パターン１５が形成されている面に密着して設けられた反射層２５、導光体の下部に配置された反射板もしくは反射シート１９の反射率が、光源から遠ざかるに従って高いこと。 - 特許庁 - An upper reflector 1 and a lower reflector 3 are simultaneously or independently rotated, whereby a light distribution pattern LP for low beam and diffusive light distribution patterns WP, WP' are changed in interlocking with each other or independently.
上側リフレクタ１と下側リフレクタ３とをそれぞれ同時に若しくは別個に回転させることにより、ロービーム用の配光パターンＬＰと拡散配光パターンＷＰ、ＷＰ′とを連動して若しくは別個に変化させることができる。 - 特許庁 - The pattern forming method can include selectively providing a curing agent to a pattern in a template having the pattern, contacting the template provided the curing agent to a substrate, irradiating the curing agent with light where the template and the substrate are contacted each other to harden the curing agent, demolding the template from the substrate to form a curing agent pattern on the substrate after the curing agent is hardened, and processing the substrate on a basis of the curing agent pattern.
パターンを有するテンプレートのパターンに選択的に硬化剤を供給し、硬化剤が供給されたテンプレートと被処理基板を接触させ、テンプレートと被処理基板を接触させた状態で光を硬化剤に照射することにより硬化剤を硬化し、硬化剤を硬化後、テンプレートを被処理基板から離して硬化剤パターンを被処理基板上に形成し、硬化剤パターンに基づき、被処理基板を加工することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - To improve visibility of a side area in front side road face of a vehicle without adverse influence on formation of a light distribution pattern for a low beam in a head lamp for vehicle.
車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンの形成に悪影響を及ぼすことなく、車両前方路面における側方領域の視認性を高める。 - 特許庁 - As for the diffraction grating 6, the liquid crystal panel is not used, but the material which performs transmitting or light shielding according to the plane of polarization is used as the grating pattern and, therefore, electrode and the like are not required.
回折格子６は液晶パネルではなく、格子パターンに偏光面に応じて透過・遮光する素材を用いており、電極などを必要としない。 - 特許庁 - A substantially imperforate light permeable material 10 is partially printed with a "print pattern 12" comprising a base layer 20 and a design layer 26 comprising a design color layer.
実質的に無孔性の光透過性材料１０が、ベース層２０と意匠カラー層を有する意匠層２６とからなる「印刷パターン１２」で部分的に印刷される。 - 特許庁 - To provide a composite multifilament yarn capable of imparting a proper swollen state and a light weight to a fabric comprising the polyester multifilament yarns and capable of expressing a stripped pattern similar to that comprising natural fibers.
ポリエステルマルチフィラメントからなる布帛に、適度な膨らみと軽量化を付与すると共に、天然繊維に類似する斑模様を現わすことのできるマルチフィラメントの提供。 - 特許庁 - The blinking periods are gradually shortened over a plurality of levels, or the blue light is turned on or blinks by means of a lighting or blinking pattern with increased illumination.
また、複数の段階にわたり徐々に点滅周期が短くなる、あるいは、照度が増加する点灯または点滅パターンにより青色の光を点灯または点滅させる。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal device which can perform display of high quality by improving an uneven pattern given to a light reflective film forming a reflective display region.
反射表示領域を形成する光反射膜に付与する凹凸パターンを改良することにより、高い品質の表示を行うことができる液晶装置を提供する。 - 特許庁 - A first shade 38 forms a partial shape of a low-beam light distribution pattern in an oncoming lane area with the backward focal position of a projection lens 36 as an advance position.
第１シェード３８は投影レンズ３６の後方焦点位置を進出位置として対向車線領域にロービーム用配光パターンの一部形状を形成する。 - 特許庁 - The device has a light source 14 which partially exposes the photosensitive layer 64 on the body to be exposed with the information on the pattern forming surface displayed on the display means 30 as a mask.
表示手段に表示されたパターン形成面情報をマスクとして、被露光体上の前記感光層を部分的に露光する光源を有することを特徴とする - 特許庁 - An image processor 10 finds a position of a pixel, corresponding to each region of the light pattern within a gray image obtained by the imaging means 12 and measures a three-dimensional shape.
画像処理装置１０は、撮像手段１２により得た濃淡画像内で光パターンの各領域に対応する画素の位置を求め３次元形状を計測する。 - 特許庁
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