「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 84 85 86 87 88 89 90 91 92 .... 141 142 次へ＞- To provide a divided exposure method which permits the efficient utilization of a substrate even if the distance from a surface drawn with a pattern of a photomask to a light shielding body is not shortened.
フォトマスクのパターンが描かれた面から遮光体までの距離を縮めなくても、基板の効率的な利用を可能とする、分割露光方法を提供する。 - 特許庁 - To control the shapes etc., of droplets having light incident port and emitting port by finely controlling a cooling means or cooling pattern layer.
本発明は、冷却手段又は冷却パターン層を微小に制御して光の入射口と出射口を有する液滴の形状などを制御することができる。 - 特許庁 - The photomask is provided with a transparent substrate, a transparent conductive film formed on the transparent substrate, and a light shielding film pattern formed on the transparent conductive film.
本発明のフォトマスクは、透明基板と、前記透明基板上に設けられた透明導電性膜と、前記透明導電性膜上に設けられた遮光膜パターンとを、備える。 - 特許庁 - This invention relates to such a plaster board 1 that the surface thereof facing the room side is formed in an uneven face 2 that can form such a yin-yang design, pattern that can be viewed by light.
室内側に面する面が、光による視認可能な陰陽デザイン模様を形成できる態様の凹凸面２に形成されている石膏ボード１である。 - 特許庁 - Then the flattening film 18 is exposed (exposure quantity: 200 mJ/cm2) to irradiating light (i line) through a photomask 41 having an opening pattern 41a arranged (Fig.(c)).
次に、開口パターン４１ａを配したフォトマスク４１を介して光（ｉ線）を照射して平坦化膜１８を露光（露光量：２００ｍＪ／ｃｍ^２ ）する（図３（ｃ））。 - 特許庁 - To provide an aligner for manufacturing a semiconductor device comprising a fine pattern with a line width 100 nm or less by using an F2 excimer laser beam as an exposure light source.
Ｆ_2 エキシマレーザ光を露光光源として用いて線幅が１００ｎｍ以下の微細パターンを有する半導体装置を製造するための露光装置の提供。 - 特許庁 - EXPOSING METHOD USING OPTICAL PROXIMITY CORRECTED EXPOSURE PATTERN, GENERATING DEVICE FOR OPTICAL PROXIMITY CORRECTED EXPOSURE DATA, AND EXPOSING DEVICE FOR LIGHT-PROXIMITY CORRECTED EXPOSURE DATA
光近接補正された露光パターンを利用する露光方法，光近接補正された露光データの生成装置，及び光近接補正された露光データの露光装置 - 特許庁 - Am illumination optical system (ILS) for illuminating a reticle (R) with illumination light (IL) and a projection optical system for projecting a pattern image of the reticle (R) onto a wafer (W) are provided.
レチクル（Ｒ）を照明光（ＩＬ）で照明する照明光学系（ＩＬＳ）と、レチクル（Ｒ）のパターンの像をウエハ（Ｗ）上に投影する投影光学系とを有する。 - 特許庁 - Consequently, this dial 2 can be provided, capable of ensuring excellent visibility by reducing light reflectance, while acquiring the novel appearance with a spin pattern S.
したがって、スピン模様Ｓを備えて斬新な見映えを得つつ、光反射率を低減して良好な視認性を確保することが可能な文字盤２を提供することができる。 - 特許庁 - To provide a vehicle-lighting fixture unit which can obtain the light distribution pattern of illuminance slope without unevenness, even if it is a lamp comprising a single unit equipped with a semiconductor device.
半導体発光素子を備えた単一ユニットで構成するランプであっても、ムラの無い照度勾配の配光パターンが得られる車両用灯具ユニットを提供する。 - 特許庁 - When a blue filter 27 will be formed, exposure alignment with red alignment light 28 using the red alignment mark 25 is performed to form a filter pattern in a blue resist 26.
青色フィルタ２７形成時には、赤色アライメントマーク２５を用いた赤色アライメント光２８による露光アライメントを行って青色レジスト２６にフィルタパターンを形成する。 - 特許庁 - To easily obtain uniform surface light emission, without forming a gradation pattern or depending on artisanship for fine adjustment of the scattered quantity by mold adjustment.
グラデーションパターンを形成することなく、さらに金型調整による散乱量の微調整を職人技に頼ることなく、容易に均一な面発光を達成できるようにする。 - 特許庁 - Because the lower reflector 2 can be rotated around an axis V1 slanting backward with respect to a vertical axis VU-VD, a varying diffused light distribution pattern WP hangs down to this side.
下側リフレクタ２は、垂直軸ＶＵ−ＶＤに対して後傾する軸Ｖ１回りに回転可能であるから、変化する拡散配光パターンＷＰは、手前側に垂れ下がる。 - 特許庁 - The light shielding film 40Y exposing through the openings 48 is removed by etching and a plurality of photoresist layers 38 to the lowermost layer are successively exposed to form a resist pattern.
開口部４８に露出する遮光膜４０Ｙをエッチングで除去し、その後順次最下層に向けて複数のフォトレジスト層３８を露光してレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - A black camouflage pattern (2) is printed in overlap on paper (3) dyed or printed black and a fluorescent ink (1) coloring under black light is printed thereon.
黒色に染色又は印刷した用紙（３）の上に、黒色の迷彩模様（２）を重ねて印刷し、その上からブラックライトで発色する蛍光インク（１）を印刷する。 - 特許庁 - Pattern height H, bottom width BCD and tapering angle Θ are acquired, by analyzing the wavelength depending characteristic of intensity of diffracted light obtained using a standard model (S2).
そして、取得した回折光強度の波長依存特性を標準モデルを用いて解析し、パターン高さＨ、ボトム幅ＢＣＤおよびテーパー角Θを取得する（Ｓ２）。 - 特許庁 - The lane mark irradiation lamp 10 is a lighting fixture for a vehicle which is constructed so as to perform beam irradiation to the front road surface of a vehicle by a light distribution pattern for lane mark irradiation.
レーンマーク照射灯１０は、レーンマーク照射用の配光パターンで車両前方路面へ向けてビーム照射を行うように構成された車両用灯具である。 - 特許庁 - To provide a photosensitive coloring composition for color filters, which has high luminosity, excellent light resistance, high sensitivity and excellent pattern formability and to provide the color filter obtained by using the photosensitive coloring composition for color filters.
高明度で耐光性にも優れ、さらに高感度かつパターン形状にも優れたカラーフィルタ用感光性着色組成物およびそれを用いたカラーフィルタの提供。 - 特許庁 - To provide a lamp for a vehicle which enlarges a design width by contracting a design vertical width, and reduces a size while securing a light distribution pattern regulated by law.
法規に規定された配光パターンを確保しつつ、意匠上下幅を縮小してデザイン幅の拡大と小型化を図ることができる車両用灯具を提供すること。 - 特許庁 - To provide a solid-state imaging apparatus and a camera system in which the deterioration of output linearity and an increase of fixed pattern noise can be suppressed even if the quantity of light to be radiated is small.
光照射量が少ない場合でも出力リニアリティの劣化及び固定パターンノイズの増加を抑えることが可能な固体撮像装置及びカメラシステムを提供する。 - 特許庁 - The image-forming part 3 includes an image-reading part (A) which detects the color and surface reflection light quantity of the color image of the test pattern which has been output to the paper sheet in the image-forming part 3.
また、画像形成部３で用紙に出力されたテストパターンのカラー画像の色と表面反射光量とを検知する画像読み取り部Ａを備える。 - 特許庁 - To readily and precisely control the positional relation between an edge side of a substrate, after being cut and an outer edge of a light-shielding pattern, as well as, to readily and precisely inspect such a positional relation.
切断後の基板の端辺と遮光パターンの外縁との位置関係を容易且つ正確に制御すると共に、係る位置関係を容易且つ正確に検査する。 - 特許庁 - To secure the insulation distance between the pattern wiring of an insulating base material and the end face of a metallic plate, and to realize a compact constitution of a light emitting device using an LED chip.
ＬＥＤチップを用いた発光装置において、絶縁基材のパターン配線と金属板の端面との間の絶縁距離を確保でき、かつコンパクトな構成にできる。 - 特許庁 - Also, during a big bonus game, a pictorial performance is advanced by a liquid crystal display apparatus 42, and case lamps 45, 46, 48 and so forth light up/flicker by a special pattern together with the pictorial performance.
またビッグボーナスゲーム中は、液晶表示器４２によって映像的な演出が進行し、あわせて筐体ランプ４５，４６，４８等が特別なパターンで点灯・点滅する。 - 特許庁 - To dispose a right end part P2R of a light distribution pattern P2 for passing-by beams when driving a vehicle on a right-curving road on the right side while attaining reduction in the entire size of a projector-type vehicular headlight 100.
プロジェクタ型車両用前照灯100全体を小型化しつつ、車両の右カーブ走行時のすれ違いビーム用配光パターンP2の右端部P2Rを右側に配置する。 - 特許庁 - When a player puts his/her finger close to a glass window in front of a pattern A of treasure box, the player's finger enters into a detection area of a Y-directional light sensor.
遊技者が手指を宝箱の絵柄Ａの前方でガラス窓に近付けた場合には遊技者の手指がＹ方向光センサの検出領域内に進入する。 - 特許庁 - To provide a light shielding apparatus, a lighting optical system, and an exposure apparatus that can precisely project a predetermined pattern on a surface to be irradiated for exposure, and a method of manufacturing a device.
所定のパターンを被照射面上に精度良く投影露光させることができる遮光装置、照明光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a luminaire having a reduced dimension including a width for producing indirect lighting in a wider light distribution pattern without the need for equipment such as a reflector.
幅等の寸法を小さく抑えることができ、反射板等の設備を要することなく、広がりを持った配光パターンの間接照明が得られる照明器具を提供する。 - 特許庁 - Then, the resist 42 is applied over the aluminum film 41 with a uniform thickness and is exposed to light and is developed to form a resist pattern 43 partially exposing the aluminum film 41.
その後アルミ膜４１上に一様な厚さにレジスト４２を塗布し、露光及び現像して、アルミ膜４１を部分的に露呈するレジストパターン４３を形成する。 - 特許庁 - In such a case, the position of the laser beam L is detected, and the position of the modulation pattern H in the spatial light modulator is changed based on the detected position of the laser beam L.
このとき、レーザ光Ｌの位置を検出すると共に、検出したレーザ光Ｌの位置に基づいて空間光変調器における変調パターンＨの位置を変化させる。 - 特許庁 - To provide a projection mechanism having high contrast, capable of improving contrast and illumination efficiency of a light pattern projected from the projection mechanism.
投射構造から投射された光形状のコントラストと照明効率を向上することができる高いコントラストの光形状を有する投射構造を提供する。 - 特許庁 - The lighting device 2 used for the lighting fixture 2 has a mounting wiring board 3a constituted by mounting a plurality of light source portions 4 in a series wiring pattern on the substrate 3.
照明器具１に用いる照明装置２は基板３に複数の光源部４を直列の配線パターンで実装して成る実装配線板３ａを備える。 - 特許庁 - The substrate 3 is thus provided with the five light source portions 4 and the substrate dividing structures 7 at the four positions, so various wiring pattern configurations can be selected by selectively determining the division positions.
基板３に５個の光源部４と４箇所の基板分割構造７が設けられるので、分割位置を選ぶことで色んな配線パターン構成が選択できる。 - 特許庁 - The irradiation control part 228 selects the light distribution pattern capable of suppressing glare in relation to the attention object when the attention object is extracted in the image frame data.
照射制御部２２８は、画像フレームデータ内に注目物体を抽出した場合、当該注目物体に対してグレア抑制が可能な配光パターンを選択する。 - 特許庁 - A metal line which constitutes the liquid crystal display device is disposed under the extended part of the color layer to cut light in the region between the pixel electrode and the frame pattern.
また、着色層の延出部の下方に、液晶表示素子を構成する金属配線を配置して、画素電極と額縁パターンとの間の領域を遮光する。 - 特許庁 - To provide a reflective exposure mask or reticle capable of performing exposure and transfer accurately without causing light to be reflected from an area other than a circuit pattern area being an exposure target.
露光対象となっている回路パターン領域以外から光が反射することなく、精度よく露光転写ができる反射型露光用マスクもしくはレチクルを提供する。 - 特許庁 - A beam radiating machine 24 for radiating visible light beam on the surface of a road in a pattern determined according to specified rules is installed to notify the others of the presence of a vehicle.
自車両の存在を他者に知らせるべく道路路面上に所定の規則に従って定められたパターンで可視光ビームを照射するビーム照射機２４を設ける。 - 特許庁 - A recessed and projected pattern output surface 124 and an image pickup element 4 and an illumination light incident plane 142 and an LED array 5 are respectively joined with a transparent adhesive material.
凹凸パターン出力面１２４と撮像素子４とが、また照明光入射面１４２とＬＥＤアレー５とが、それぞれ、透明接着剤で接合される。 - 特許庁 - Then, light for controlling the deformation state of the true slime mold 15 is radiated by a predetermined radiation pattern with a projector according to the deformation state of the true slime mold 15.
そして、その真性粘菌１５の変形状態に応じて、プロジェクタにより、真性粘菌１５の変形状態を統御する光を所定の照射パターンで照射する。 - 特許庁 - To provide a colored photosensitive composition having small dependence of pattern size on light exposure and to provide a color filter and a liquid crystal display using the colored photosensitive composition.
パターン寸法の露光量依存性が小さい着色感光性組成物、該着色感光性組成物を用いたカラーフィルタおよび液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - A specified pattern is displayed on a surface of a decorated panel 14 by illuminating by a light source 26 from the back side of the decorated panel 14 on which grains for the vehicle interior, etc. are applied.
車両内装用の木目などが施された加飾パネル１４の裏側から光源２６により照明し、加飾パネル１４の表側に所定の図柄を表示させる。 - 特許庁 - To provide a hole pattern detector which can detect a hole, even in the case where the target of observation is charged up and the background cannot be expressed with a light and shade value.
被観察対象物がチャージアップし、背景が一意の濃淡値で表されない場合であってもホールの検出が可能なホールパターン検出装置を提供すること。 - 特許庁 - The sufficient quantity of wafers formed with a resist pattern is extracted in order to monitor effective variation of light exposure and focus in a lot (step S108).
レジストパターンが形成されたウェハの中から、ロット内の実効的な露光量変動及び、フォーカス変動をモニタするために十分な量のウェハを抽出する（ステップＳ１０８）。 - 特許庁 - In the optical encoder, slits 3, light shielding parts 2A, and an index pattern part 13 of a code wheel are aligned in line and dimensions in their migrating directions are approximately same.
この光学式エンコーダによれば、コードホイール２のスリット３と遮光部２Ａとインデックスパターン部１３とは一列に配列されていて、移動方向の寸法は略同一である。 - 特許庁 - The light emitting patterns (bit pattern data) of the respective LEDs 13 stored in the buffer 1a2 are transferred to an output buffer 1a3 one bit by one bit in parallel as shown in Fig.
バッファ１ａ２に格納された各ＬＥＤ１３の発光パターン（ビットパターンデータ）は、同図に示すように１ビットずつ、並列に出力バッファ１ａ３に転送される。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which is concurrently equipped with high planarization performance and high sensitivity and has high visible light transmittance, in the formation of a cured resin pattern.
硬化樹脂パターンの形成において、高い平坦化性能や高い感度等を兼ね備え、高い可視光透過性を有する感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - An imaging device 44 having a photographing region for imaging the entire self-pattern projected on the road surface by the visible light beam of the irradiation machine 24 is installed.
また、ビーム照射機２４の可視光ビームにより道路路面に映し出される自パターンの全体を撮像する撮影可能領域を有する撮像装置４４を設ける。 - 特許庁 - The conductive functional layer 16 has a thin line pattern 20 (a metal silver portion) and a light transmissive portion 22 (e.g., gelatin) formed by exposing and developing a silver halide emulsion layer 18.
導電性機能層１６は、ハロゲン化銀塩乳剤層１８を露光・現像して形成された細線パターン２０（金属銀部）と光透過部２２（例えばゼラチン）とを有する。 - 特許庁 - A viewer 50 attached to the projector 20 receives a reflection of the structured light pattern 46 from the surface 80 along a second optical axis 54, and digitizes a two-dimensional snapshot.
プロジェクタ２０に付属したビュアー５０が、第２の光軸５４に沿って表面８０から構造光パターン４６の反射を受け、また二次元スナップショットをデジタル化する。 - 特許庁 - The image detector has a light source for illuminating an inspection medium M, having a pattern constituted of the optical characteristics a, b constituting an image P and the camera arranged on a normal line L.
画像Ｐを構成する光学特性ａ，ｂで構成された紋様を持つ検査媒体Ｍを照明する光源および法線Ｌ上に配置されたカメラを有する。 - 特許庁
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