「light pattern」を含む例文一覧(7056)

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  • Random pattern light is radiated from a near infrared projector 10a, and received by a near infrared camera array 10b to obtain three- dimensional form and motion data of an object.
    近赤外プロジェクタ１０ａからランダムパタン光を照射し、近赤外カメラアレイ１０ｂで受光し、対象物体の三次元形状データ及び動きデータを取得する。 - 特許庁
  • The film element using the above pattern forming material includes a photosensitive resin composition layer (A) formed on a support film and a light shielding layer (B) formed on (A).
    前記のパターン形成用材料において、支持フィルム上に、（Ａ）感光性樹脂組成物層が形成され、（Ａ）の上に、（Ｂ）の遮光層が形成されたフィルム状エレメント。 - 特許庁
  • Negative photosensitive conductive paste 41 is applied on the surface of a ceramic substrate 21, and is exposed to light using a wiring photomask 43 having a wiring pattern opening 42.
    セラミック基板２１の表面にネガ型の感光性導電ペースト４１を塗布し、配線パターン用開口部４２を有する配線用フォトマスク４３を用いて露光する。 - 特許庁
  • The shutter 12 has a plurality of opening patterns, and in each pattern, light passing each opening part of the shutter 12 enters each different domain of the image cell array 14 respectively.
    シャッター１２の開口パターンは複数あり、各パターンにおいて、シャッター１２の各開口部を通過する光は、撮像セルアレイ１４の互いに異なる領域に入射する。 - 特許庁
  • The signal processing unit decides a pitch and sound volume from a signal pattern and a level received by the light receiving unit array, and sequentially outputs the decided sound from the sound source unit.
    信号処理ユニットは、受光ユニット列の受信した信号パターンとレベルから音高、音量を決定し、決定した音を逐次音源ユニットから出力する。 - 特許庁
  • Then the resist film 102 is selectively irradiated to exposure light 105 for pattern exposure while a liquid 104 is laid on the formed resist film 102.
    続いて、形成したレジスト膜１０２の上に液体１０４を配した状態で、レジスト膜１０２に露光光１０５を選択的に照射することによりパターン露光を行なう。 - 特許庁
  • The mask substrate 20 is provided with the structural double refraction pattern having a periodic array smaller than the wavelength of the light, by which structural double refraction phenomenon is generated.
    マスク基板２０には、光の波長よりも小さな周期的配列を有する構造性複屈折パターンが設けられており、これにより構造性複屈折現象が生じる。 - 特許庁
  • Consequently, even when boring is performed by the irradiation with the CO2 laser light 21, the 2nd conductor pattern 4 is prevented from being damaged on the whole owing to a heat shock.
    よって、Ｃ０_2レーザー光２１の照射による穿設がなされても、第２導体パターン４全体が熱衝撃により損傷してしまうことを防止することができるのである。 - 特許庁
  • This method can make the luminescence center form, by irradiating interference light of a laser beam, in the domain of the target corresponding to the above interference pattern.
    この方法は、レーザー光の干渉光を照射することにより、ターゲットのうち、前記干渉パターンに対応した領域に発光中心を形成させることができる。 - 特許庁
  • To provide a lactone backbone-containing polymer for photoresist which provides a photoresist film that can be exposed to light to change swiftly into an alkali-soluble area so that a delicate pattern can be precisely depicted.
    露光によりレジスト膜の露光部が速やかにアルカリ可溶性に変化し、微細なパターンを精度よく得ることのできるラクトン骨格含有フォトレジスト用ポリマーを得る。 - 特許庁
  • Here, the reflection type hologram lens pattern 10 has the groove depth of gratings so set that only the light of the 2nd wavelength λ2 is given a phase difference 2nπ.
    ここで、反射型ホログラムレンズ・パターン１０は、第２の波長λ_2の光に対してのみ、２ｎπの位相差を与えるように、格子の溝の深さが設定されている。 - 特許庁
  • On the pattern 2a of a lead frame 21, transparent resin 3 mixed with a wavelength conversion material is formed with an area larger than that of the semiconductor light emitting element 4.
    リードフレーム２１のパターン２ａ上には、波長変換材料を混入した透明樹脂３が半導体発光素子４の面積よりも大きな面積で形成される。 - 特許庁
  • To provide a method for forming a photoresist pattern to be used for lithographic processes in the manufacture of a semiconductor device carried out by using F2 excimer laser light (at 157 nm wavelength).
    Ｆ２エキシマレーザー光（波長１５７ｎｍ）を用いて行われる半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいて使用されるフォトレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁
  • Phase modulation of reference light generated during recording and playback is performed using a specific pixel arrangement pattern formed by two or more pixels as a minimum modulation unit.
    記録再生時に生成する参照光については、２以上の画素により形成される特定の画素配列パターンを最小変調単位として位相変調を行う。 - 特許庁
  • When the resist pattern is formed on the piezoelectric substrate, the substrate is exposed and developed after a reflection control film to control a reflected light quantity is formed on the rear side of the piezoelectric substrate.
    圧電基板上にレジストパターンを形成する上で、圧電基板の裏面に、反射する光の量を制御する反射制御膜を形成した上で、露光、現像する。 - 特許庁
  • In the liquid crystal device 1, a first electrode pattern 40 having a light reflecting electrode 41 is formed as avoiding an injection port 32 and its peripheral area 320.
    液晶装置１において、光反射性電極４１を備える第１の電極パターン４０を、注入口３２およびその周辺領域３２０を避けるように形成する。 - 特許庁
  • After prebaking, a mask with a predetermined pattern having at least one slit is placed on top of the photoresist film and the photoresist film is exposed to a light.
    前熱処理後、少なくとも一つのスリットを有する予め決定されたパターンを有するマスクをフォトレジスト膜上に配置し、このフォトレジスト膜が光に対して露出される。 - 特許庁
  • In the Yamashina family, many textiles for hosonaga are matsushige (moegi color for omote (outside cloth), murasaki (purple) for ura (background cloth), koiro color for nakabe or kurenai (deep red) for ura, usu kurenai (light red) for nakabe, an ordered arabesque pattern of white pine for the outside cloth).
    山科家では多くの場合松重（表萌黄・裏紫・中倍香色もしくは裏紅・中倍薄紅。表の地は松唐草の浮織）を調進した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • A single color of either white or black, a belt-shaped pattern of stripes with light and shade, black patches or brown patches on a white coat, and three colors of white, brown and black, called Mike (Calico) Cat, are examples classified by color.
    白・黒の一色、濃淡帯状の縞模様、白地に黒ぶちや茶ぶち、そして三毛猫と呼ばれる白・茶・黒の三色に色分けされているものなどがいる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • In this way, a crystal pattern can be developed by the reflection or transmission interference of light.
    この装飾層１４には、パール顔料等の結晶要素材１５が含有されることによって、光の反射又は透過干渉によって結晶模様を発現できるようになっている。 - 特許庁
  • To provide an adjusting method and an adjusting device by which aberration is correctly detected without chipping a sharing interference pattern in the group lens adjustment of a diffracted light beam interference system.
    回折光干渉方式の組レンズ調整において、シェアリング干渉パターンが欠けることなく、正しく収差検出できる調整方法および装置を提供する - 特許庁
  • To provide an optical sheet which is used for the back light unit of a liquid crystal display device, has a high-precision gradation pattern as a bright line prevention part, and is easy to design.
    液晶表示装置のバックライトユニットに使用されるとともに、輝線防止部として高精度のグラデーションパターンを備え、しかも設計が簡単な光学シートを提供する。 - 特許庁
  • A CPU 21 collects detected light-distribution data sequentially detected when the focal point 14a so moves as to cross the pattern formed at the substrate 100.
    ＣＰＵ２１は、焦点１４ａが基板１００に形成されたパターンを横切るように移動する際に、逐次検出される検出配光データ群を収集する。 - 特許庁
  • To provide an exposure method capable of enhancing the resolving power of a desired pattern being subjected to exposure transfer while preventing the lowering of throughput due to the lowering of light utilization efficiency.
    光利用効率の低下によってスループットを落とす事無く、露光転写したい所望のパターンの解像力を上げることができる露光方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an apparatus and a method for projection capable of improving resolution by shifting the phase of modulated light when drawing is carried out according to pattern data.
    パターンデータに応じて描画を行う際に変調光の位相をシフトすることにより、解像度を高めることができる投影装置および投影方法を提供する。 - 特許庁
  • In the light source device, a flat plate part 30a of the base member 30 has a surface pattern formed in accordance with the arrangement of optical members such as a collimator lens, an optical path changing means, and a cylindrical lens.
    ベース部材３０の平板部３０ａは、コリメータレンズ、光路変更手段、シリンドリカルレンズ等の光学部材の配置に応じて表面パターンが形成されている。 - 特許庁
  • The determined blight transmissive regions or light shielding regions are disposed on each grid and necessary pattern forming energy, focal depth and beam diameter are calculated every grid by CAD(computer aided design) and converted to data.
    決定された光透過領域又は遮光領域を「各グリッド」に配置して、ＣＡＤでグリッドごとに必要な描画エネルギー、焦点深度、ビーム径を計算し、データ化する。 - 特許庁
  • The light-shielding film 13 is disposed via a halftone phase shift layer 12 or directly in the region that excludes the product pattern part 12a.
    また遮光膜１３が製品パターン部１２ａを除いた領域に対して、ハーフトーン位相シフト層１２を介して、または直接、配されていることを特徴とする。 - 特許庁
  • Information can be returned not only by ON/OFF of the reflected light but also by the response pattern, thereby a large amount of information can be communicated by optical space communication.
    反射光のオン／オフのみではなく、応答パターンによって情報を返せるため、光空間通信によって大量の情報を通信することが可能となる。 - 特許庁
  • A laser beam 2 is emitted toward a plate which is worked with a slit having a pattern of a known size, and a body is irradiated with the transmission light transmitted through the slit.
    本発明は寸法が既知のパターンを有するスリットが加工された板に向けてレーザ光２を照射し、スリットを透過した透過光を物体に照射する。 - 特許庁
  • To provide an inexpensive and high performance light guide body and a line illumination device by making a scattering pattern forming step by silk-screen printing with a white pigment unnecessary.
    白色顔料のシルクスクリーン印刷による散乱パターン形成工程を不要にし、安価で高性能の導光体ならびにライン照明装置を提供する。 - 特許庁
  • The diffusion pattern is formed such that a plurality of dots 2 obliquely tied in a rosary shape are arranged so as to be smaller in size as they are separated from an end side of the light source side.
    この拡散パターンは、斜めに数珠繋ぎになった複数のドット２が光源側端辺から離れるにつれて小さくなるように配列されたパターンとなっている。 - 特許庁
  • To provide a wiring pattern that is suppressed in variation in resistance value resulting from a difference in the length of a wiring patter body by utilizing a slit capable of transmitting light.
    光を透過可能なスリットを利用して配線パターン本体の長さが異なることに起因する抵抗値のばらつきを抑制した配線パターンを提供する。 - 特許庁
  • To allow an appropriate light distribution pattern to be formed even when a movable shade is moved to any position, in a projector type vehicular headlamp having the movable shade.
    可動シェードを備えたプロジェクタ型の車両用前照灯において、可動シェードがいずれの位置に移動した場合にも、適切な配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁
  • The illuminating light is repeatedly and periodically shielded/transmitted with the scroll of a transmission pattern, then, the image of high contrast with the mitigated moving-image blurring can be projected.
    透過パターンのスクロールによって、照明光について遮断と透過とを周期的に繰り返すことができ、動画ボケを緩和した高コントラストの画像を投射することができる。 - 特許庁
  • This enables the gradation control IC to light in contrast the gradation lamp 1240 in the pattern as intended by the sub administrative MPU 1740a even under the influence of noises.
    したがって、階調制御ＩＣがノイズの影響を受けてもサブ統合ＭＰＵ１７４０ａが意図するパターンで階調ランプ１２４０を階調点灯させることができる。 - 特許庁
  • To provide a three-dimensional monitor that can precisely detect intrusion of a body into a prescribed three-dimensional space, by using a pattern light as a detection medium.
    パターン光を検出媒体とすることにより、所定三次元空間内への物体侵入を高精度で検出可能とした三次元監視装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a color filter capable of increasing light transmissivity even with a conventional BM pattern in a VA type liquid crystal display device, and to provide the VA type liquid crystal display device which has higher luminance when a panel is assembled and also has superior display characteristics free of disorder of liquid crystal alignment.
    ＶＡ方式の液晶表示装置において、従来のＢＭパターンでも光透過率を上げることが可能となるカラーフィルタを提供する。 - 特許庁
  • A message to indicate that a light source needs to be replaced or contact information of an installer that has set up a projection device can be provided as a pattern set in the information mask 135.
    情報マスク１３５に設定されるパターンとしては、光源の交換を促すメッセージや、プロジェクション装置の設置業者の連絡先等などが可能である。 - 特許庁
  • A pair of auxiliary patterns 102 which diffracts the exposure light and is not transferred by exposure is laid on either side of the main pattern 101 on the transmissive substrate 100.
    透過性基板１００上における主パターン１０１の両側に、露光光を回折させ且つ露光により転写されない一対の補助パターン１０２が設けられている。 - 特許庁
  • To provide a vehicle lamp capable of forming a light distribution pattern satisfying luminous intensity required by the law even if it is down-sized by making smaller a size of a reflection face.
    反射面のサイズを小さくすることで小型化しても、法規が求める光度を満たす配光パターンを形成することが可能な車両用灯具を提供する。 - 特許庁
  • Through this exposure method in an exposure process, a reticle 3 on a reticle stage 35 is scanned with respect an exposure light illuminating region 63, by which the pattern of the reticle 3 is transferred onto a wafer.
    露光時に、レチクルステージ３５上のレチクル３を露光光の照明領域６３に対して走査することで、レチクル３のパターンがウエハ上に転写される。 - 特許庁
  • A pattern for detecting an image position is formed on a conveying belt 150 and detected by a density sensor 155 to determine color shift and generate light beam output timing correction data.
    画像位置検出用パターンを搬送ベルト１５０上に形成し、濃度センサ１５５で検出し、色ずれを判定し、光ビーム出力タイミング補正データを生成する。 - 特許庁
  • In such a configuration, a light distribution pattern formed by light reflected at the intermediate slope 18a3 is formed so as to wedge in diagonally into two light distribution patterns formed by light reflected at the first and the second horizontal faces 18a1, 18a2, but each of these patterns is partially diffused by the diffused reflection part 30 to decrease its luminance and restrain generation of light distribution unevenness.
    このようにした場合には、中間斜面１８ａ３で反射した光により形成される配光パターンは、第１および第２水平面１８ａ１、１８ａ２で反射した光により形成される２つの配光パターンに対して斜めに割り込むように形成されるが、拡散反射部３０により、これら各配光パターンを部分的に拡げて、その明るさを減少させ、配光ムラの発生を抑制する。 - 特許庁
  • The measuring unit 20 includes a light shield member which has an opening and a photoelectric converting element which receives light passed through the opening, and the photoelectric converting element measures the intensity of light passing through the opening in a light intensity distribution formed on the light shield member when one of the first stage 325 and second stage 345 is scanned and the measurement pattern is lit up through oblique incidence.
    第１測定部２０は、開口部を有する遮光部材と、開口部を通過した光を受光する光電変換素子とを含み、第１ステージ３２５と第２ステージ３４５との少なくとも一方を走査し、かつ測定パターンを斜入射照明したときに遮光部材上に形成される光強度分布のうち開口部を通過した光の強度を光電変換素子によって測定する。 - 特許庁
  • The image forming apparatus forms an electrostatic latent image pattern on a photosensitive drum, and controls the value of the bias current set for a first light emitting element based on the potential of the electrostatic latent image pattern detected by a potential sensor 212 so that the value of the bias current for the first light emitting element comes close to a minimum value of the drive current supplied to the first light emitting element to form the electrostatic latent image.
    感光ドラム上に静電潜像パターンを形成し、第１の発光素子に対応するバイアス電流の値が前記静電潜像を形成するために第１の発光素子に供給される駆動電流の最小値に近づくように、電位センサ２１２によって検出される静電潜像パターンの電位に基づいて第１の発光素子に対応するバイアス電流の値を制御する。 - 特許庁
  • To provide a permanent pattern forming method by which permanent patterns such as a protective film, an insulating film and a solder resist pattern can be efficiently formed with high definition, by forming a desired drawn pattern with few jags on a surface of a photosensitive layer to be exposed without reducing exposure speed, in a pattern forming method in which exposure is performed for drawing by inclining a light modulating means.
    前記光変調手段を傾斜させて描画を行う露光を行うパターン形成方法において、露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、保護膜、絶縁膜、及びソルダーレジストパターン等の永久パターンを高精細に、かつ効率よく形成可能な永久パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • The template with an identification mark used in an optical imprinting method has a main pattern region 12 wherein a desired pattern is formed in an irregular form on a front surface of a light transmissive substrate 11 and includes the pattern forming template 10 used for optical imprinting, and the identification mark 15 formed on a rear surface of the substrate 11 to partially overlap the main pattern region 12 for individual identification of each template.
    光インプリント法に使用する識別マーク付きテンプレートであって、光透過性の基板１１の表面に所望のパターンが凹凸形状で形成されたメインパターン領域１２を有し、光インプリントに用いられるパターン形成用テンプレート１０と、基板１１の裏面に、メインパターン領域１２と一部重なるように設けられた、テンプレートの個別識別を可能にするための識別マーク１５と、を具備してなる。 - 特許庁
  • In a second coating process of forming a finger wiring pattern crossing a bus wiring pattern on a substrate by linearly supplying paste onto a principal surface of a substrate and the bus wiring pattern from a nozzle, curing processing for curing the coating liquid is carried out on the paste supplied onto the principal surface of the substrate (step S54), and light irradiation of the paste supplied onto the bus wiring pattern is stopped (step S52).
    ノズルから基板の主面およびバス配線パターン上にペーストを線状に供給して、基板上にバス配線パターンと交差するフィンガー配線パターンを形成する第２塗布工程おいて、基板の主面に供給されたペーストに対して当該塗布液を硬化させる硬化処理を実行し（ステップＳ５４）、バス配線パターン上に供給されたペーストに対しては光照射を停止する（ステップＳ５２）。 - 特許庁
  • To provide a light-emitting device in which a circuit pattern having a glossy surface can be obtained without requiring plating or etching processing, and processes can be reduced and simplified as a result, a high-density circuit pattern can be easily formed, and the circuit pattern having the glossy surface can be efficiently formed by avoiding the formation of a glossy surface on a circuit pattern which does not need gloss.
    めっき加工やエッチング加工を行うことなく光沢面を有する回路パターンを得ることができて工程を数少なくして簡略化することができ、また、高密度の回路パターンを容易に形成することができ、さらに、光沢が不要な回路パターンには光沢面が形成されないようにして効率よく回路パターンの表面を光沢面に形成することができる発光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
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