「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 80 81 82 83 84 85 86 87 88 .... 141 142 次へ＞- The vehicle headlamp is provided with: a second reflecting surface 16 which reflects the light L2 shielded by a shade 5 in a prescribed direction when light from a discharge lamp 2 is reflected by a first reflecting surface 9; and a third reflecting surface 17 which reflects the reflection light L3 from the second reflecting surface 16 to the front of the vehicle as an additional light distribution pattern SP, WP.
この発明は、放電灯２からの光のうち第１反射面９で反射された場合シェード５により遮られる光Ｌ２を所定方向に反射させる第２反射面１６と、その第２反射面１６からの反射光Ｌ３を付加配光パターンＳＰ、ＷＰとして車両の前方に反射させる第３反射面１７と、を備える。 - 特許庁 - When information light 1 which carries information by spatial modulation and reference light 2 for recording are allowed to interfere in an information recording layer 4 of a recording medium and the information is recorded according to the resulting interference pattern, diffusion of the reference light 2 for recording is controlled so that rays of the reference light 2 for recording cause no interference in the information recording layer 4.
空間的に変調することで情報を担持した情報光１と、記録用参照光２とを記録媒体の情報記録層４において干渉させ、当該干渉パターンによって情報を記録する際に、記録用参照光２同士が情報記録層４において干渉を生じないように記録用参照光２の発散を制御する。 - 特許庁 - The main light attenuating layer 12 includes openings A1-A4 and the main light attenuating portions M1-M3 arranged corresponding to an original pattern, the intermediate layer 14 includes spacer layers SP and height controlling layers HC, and the sub-light attenuating layer 13 includes sub-light attenuating portions S1-S4 placed on the openings A1-A4 and etching stopper layers ES between them.
主光減衰層１２は、原版パターンに対応して配置される開口部Ａ１〜Ａ４と主光減衰部Ｍ１〜Ｍ３とを含み、中間層１４は、スペーサ層ＳＰと高さ制御層ＨＣとを含み、副光減衰層１３は、開口部Ａ１〜Ａ４上に位置する副光減衰部Ｓ１〜Ｓ４と、これらの間のエッチングストッパー層ＥＳとを含む。 - 特許庁 - To provide a light diffusion plate on which a plurality of optical elements extending to a prescribed direction are formed in parallel to one another and in which the generation of moire is suppressed surely, and also to provide a method for generating an array pattern of optical elements on the light diffusion plate, and a surface light source apparatus and a transmission type image display device, each using the light diffusion plate.
所定の方向に延在する複数の光学要素が互いに平行に形成された光拡散板であってモアレの発生をより確実に抑制可能な光拡散板、その光拡散板における光学要素の配列パターンの生成方法並びにその光拡散板を用いた面光源装置及び透過型画像表示装置を提供する。 - 特許庁 - A toner concentration measuring part 102 calculates the concentration control parameter of light emitting time and light emitting current corresponding to toner adhesive amount based on the rate of reflected light (space width between lines) at a part where the toner does not exist in the read signal of the halftone pattern by a sensor unit 26 and light (line width) attenuated by scattering at a part where the toner exists.
トナー濃度測定部１０２は、センサユニット２６によるハーフトーンパターンの読取信号におけるトナーがない部分の反射光（線間の空き幅）とトナーがある部分の散乱により減衰した光（線幅）の割合に基づいて、トナー付着量に対応した発光時間や発光電流などの濃度制御パラメータを算出する。 - 特許庁 - To provide a light guide sheet making light of a light source enter more from its side, stabilizing an installation position in a portable electronic apparatus in which it is assembled, easily making a module with other components, and easily forming a reflection pattern to illuminate a key button, and to provide a key sheet using the light guide sheet.
光源の光を、側面からより多く入射させることができ、組み込まれる携帯用電子機器内における設置位置を安定させることができるとともに、他の構成分品とのモジュール化が容易であるばかりでなく、キーボタンを照明するための反射パターンの形成が容易となる導光シートおよび該導光シートを用いたキーシートを提供すること。 - 特許庁 - To enable to form a slanted cutoff line without the use of a shade even if an edge of a light source is extended in a horizontal direction, for a lighting lamp fitting for a vehicle structured so as to form a light distribution pattern having a cutoff line at an upper end by sequentially reflecting light of the light source having the linearly extended edge with a first and a second reflectors.
直線状に延びるエッジを有する光源からの光を、第１および第２リフレクタで順次反射させることにより、上端部にカットオフラインを有する配光パターンを形成するように構成された車両用照明灯具において、シェードを用いることなく、かつ、上記エッジが水平方向に延びていても、斜めカットオフラインを形成可能とする。 - 特許庁 - The mask for near field exposure comprises a mask base 100 and a light shielding film 102 and has an aperture pattern having one or more openings 101 of a width smaller than a wavelength of exposure light in the light shielding film, wherein the mask base is made of a rubber elastic material (polydimethylsiloxane) which is transparent to exposure light.
マスク母材１００と遮光膜１０２とからなり、該遮光膜に露光用光の波長よりも小さい幅の開口１０１を一つ以上含む開口パターンを有する近接場露光用マスクにおいて、 前記マスク母材が、前記露光用光に対して透明なゴム状弾性体（リジメチルシロキサン）によって形成された構成とする。 - 特許庁 - The transmittance for light can be improved by forming a light-diffusing layer in the same pattern as a part or whole part of the area except for openings, for example, a common electrode, pixel electrodes, scanning signal lines, video signal lines and semiconductor switching elements so that the light emitting from the back light is diffused to enter the panel.
開口部以外の部分、例えば前記共通電極、画素電極、走査信号線、映像信号線及び半導体スイッチ素子の一部あるいは全部と同一パターンで光拡散層を設けることによって、バックライトから出射された光を拡散させパネル内部に入射させることにより光透過率を向上することができる。 - 特許庁 - In recording information on the optical information recording medium, an information recording layer of the optical information recording medium is irradiated with an information light and a recording reference light from the same side by an objective lens 133, and information is recorded on the information recording layer by an interference pattern by the interference between the information light and the recording reference light.
光情報記録媒体に対する情報の記録時には、対物レンズ１２３によって、情報光と記録用参照光とが、光情報記録媒体の情報記録層に対して同一面側より照射され、情報記録層に情報光と記録用参照光との干渉による干渉パターンによって情報が記録される。 - 特許庁 - The spatial light modulator having a plurality of pixel areas 50P is provided with a mask 52, which has a grid pattern for optically dividing a pixel that emits the reference light to an emission face side, into a plurality of divided pixels so that the area of a single divided pixel, emitting the reference light, becomes substantially smaller than the area of one pixel emitting the information light.
空間光変調器は、複数の画素領域(50P)を有し、参照光を出射する１つの分割画素の面積が情報光を出射する１つの画素の面積よりも実質的に小さくなるように、出射面側に参照光を出射する画素を複数の分割画素に光学的に分割するための格子状パターンを有するマスク(52)を有する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition useful for a process using light with shorter wavelength than KrF excimer laser light, for example, F_2 excimer laser light (157 nm) or EUV (vacuum ultraviolet light 13 nm), allowing formation of resist pattern with high resolution and good shape of cross section, and to provide an alkali-soluble polysiloxane resin capable of providing a substrate provided with the resist layer.
ＫｒＦエキシマレーザー以下の短波長光、例えば、Ｆ_２エキシマレーザー（１５７ｎｍ）やＥＵＶ（真空紫外線１３ｎｍ）を光源とするプロセスに有用であり、高解像性で断面形状の良好なレジストパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物およびそのレジスト層を設けた基材を提供できるアルカリ可溶性ポリシロキサン樹脂を提供すること。 - 特許庁 - In the exposing unit comprising an array of a plurality of light emitting elements 101a-101n arranged in a specified pattern, the number of emission times of each light emitting element under exposure (print) is measured as shown at 102a-102n and the quantity of light of each light emitting element is regulated based on the number of emission times thus measured.
複数の発光素子１０１ａないし１０１ｎを所定のパターンに配置した発光素子アレイを用いた露光装置において、露光（印字）中の各発光素子の発光回数を１０２ａないし１０２ｎに示すように計測し、計測した各発光素子の発光回数に基づいて、各発光素子の光量を調整する。 - 特許庁 - Then, the plurality of light emission diodes are modulated so that the combination of the luminance level (luminance code values) can be periodically changed, and the code pattern of the modulated-light emission driving is compared with the detection content of the synthetic light SL by the synthetic light detection means 5 so that the touch operation position on the liquid crystal display 2 can be specified.
そこで、輝度レベル（輝度符号値）の組み合わせが周期的に刻々変化するように上記複数の発光ダイオードを変調発光駆動し、その変調発光駆動の符号パターンと、合成光検知手段５による合成光ＳＬの検出内容とを比較することにより、液晶ディスプレイ２上のタッチ操作位置を特定することができる。 - 特許庁 - The projection aligner has an alignment light radiating means for radiating an alignment light on a projection lens, from the back side of an exposure light irradiating means to a mounting means for irradiating a first reference mark provided on the mounting means and a second reference mark provided on a pattern substrate with the alignment light.
アライメント光を、載置手段に対して露光光照射手段と反対側から、投影レンズに向かってアライメント光を発するアライメント光照射手段であって、載置手段に設けられた第１基準マークと、パターン基板に設けられた第２基準マークと、にアライメント光を照射するアライメント光照射手段を有する投影露光装置を提供する。 - 特許庁 - An exposure mask 1 using extreme violet light for exposing a desired pattern on a body to be exposed by using the extreme violet light is configured with a stencil structure provided with an opening region 1a through which the extreme violet light made incident onto a mask surface from its vertical direction passes, and a shade area 1b for shading the extreme violet light.
極短紫外光を用いて被露光体上に所望パターンを露光するための極短紫外光の露光用マスク１を、マスク表面に対して垂直方向から入射する極短紫外光を透過する開口領域１ａと、当該極短紫外光を遮蔽する遮光領域１ｂとを具備したステンシル構造によって構成する。 - 特許庁 - The light guide 11 for a liquid crystal panel etc., which has a light source 12 arranged nearby one flank is equipped with a transparent light guide body 21 and a reflecting plate 23 provided with a reflection pattern at its back, and the light guide body 21 is made of a liquid raw material or setting type liquid raw material with high transmissivity.
一側面近傍に光源１２を配された液晶パネル等の導光体１１であって、透明な導光体本体２１と、その後面に反射パターン２５を設けた反射板２３とを備えており、上記導光体本体２１が高透過率の液状素材もしくは硬化型液状素材で構成されたことを特徴とする導光体。 - 特許庁 - A light-emitting device comprises: a light-emitting structure including a first semiconductor layer, a second semiconductor layer, and an active layer between the first and second semiconductor layers; an insulating layer contacting the lower surface of the light-emitting structure; and a protective layer that is disposed under the light-emitting structure and on which a pattern to dispose the insulating layer is formed.
実施例の発光素子は、第１半導体層、第２半導体層、及び前記第１及び第２半導体層の間に活性層を含む発光構造物と、前記発光構造物の下面に接触する絶縁層と、前記発光構造物の下に配置され、前記絶縁層が配置されるパターンが形成された保護層と、を含む。 - 特許庁 - A pattern 12 for chromaticity measurement consisting of the black matrix 4, the coloring pixel 2 and the transparent conductive film 3 and a pattern 13 for haze value measurement consisting of the light scattering film 9 are provided on a region d other than a display part of the color filter on the transparent substrate 1.
カラーフィルタの表示部以外ｄの透明基板上１に、ブラックマトリックス４、着色画素２、透明導電膜３で構成される色度測定用パターン１２と、光散乱膜９で構成されるヘイズ値測定用パターン１３を設けたこと。 - 特許庁 - By the game machine in this invention, on the basis of a special pattern holding ball number display table 22a, the respective light emitting states of first to fourth special pattern lamps 5a-5d are controlled to three different states of lighting, being put out and flickering.
本発明における遊技機によれば、特別図柄保留球数表示テーブル２２ａに基づいて、第１〜第４特図ランプ５ａ〜５ｄのそれぞれの発光状態が点灯、消灯および点滅の３つの異なる状態に制御される。 - 特許庁 - Resultingly, effects of the diffraction and the interference, and the light limiting element, are used in order to magnifying a speckle size under moving of an image formation device and to reduce fluctuation of the speckle pattern, and the speckle pattern is thereby identified clearly in the image.
従って、画像形成デバイスの移動中にスペックルサイズを拡大し且つスペックルパターンの変動を減少するために回折と干渉の効果と光制限要素が利用され、それによって、スペックルパターンが、画像中で明瞭に識別されることが出来る。 - 特許庁 - To provide a functional film pattern forming method in which thermal damage to a substrate is suppressed by attaining reduction of the amount of radiation energy of an electromagnetic wave and equipment of a required light source is made small in size, and to provide a functional film pattern, and electronic equipment.
電磁波の照射エネルギー量の低減を図り、基板に与える熱のダメージを抑制することができ、必要な光源の設備の小型化を図った機能性膜パターン成膜方法、機能性膜パターン、および電子機器を提供する。 - 特許庁 - Beam emission intensity from the auxiliary lamp unit 18 is regulated by a dimming unit to intensity the blightness of the low-beam light distribution pattern P(L) by the auxiliary luminous intensity distribution pattern Pa of blightness in response to a traveling condition of the vehicle.
さらに、調光ユニットによって補助灯具ユニット１８のビーム照射強度を調整することにより、車両走行状況に応じた明るさの補助配光パターンＰａでロービーム配光パターンＰ（Ｌ）の明るさを補強可能とする。 - 特許庁 - The light supply optical system makes a projection magnification of the intermediate image of the first pattern along an incident face of the first measuring beam to the tested face different from that of the intermediate image of the second pattern along an incidence face of the second measuring beam to the tested face.
送光光学系は、第１測定光の被検面への入射面に沿った第１パターンの中間像の投射倍率と、第２測定光の被検面への入射面に沿った第２パターンの中間像の投射倍率とを異ならせる。 - 特許庁 - To provide a photomask blank which is high in sensitivity and can form a pattern superior in resolution, and to provide a photomask which is superior in film strength of a light shielding film and resistance to a solvent in mask cleaning even when having a finer pattern such as narrow lines.
高感度で、解像度に優れたパターンを形成しうるフォトマスクブランクスを提供し、細線等の微細パターンを有するものであっても、遮光膜の膜強度とマスク洗浄の溶剤に対する溶剤耐性に優れたフォトマスクを提供する。 - 特許庁 - When the phase shifter pattern is formed by patterning a transparent film 4a, the formation and alignment of the phase shifter pattern with respect to a metallic layer 3 for forming the light shielding film of a mask substrate 2 are executed by using alignment mark patterns disposed at the metallic layer 3.
透明膜４ａをパターニングして位相シフタパターンを形成する際に、マスク基板２の遮光膜形成用の金属層３に設けられた位置合わせマークパターンを用いて、金属層３に対する位相シフタパターンの形成位置合わせを行う。 - 特許庁 - The reflector substrate is arranged on the upper surface of the base substrate and is adhered onto a position where the wiring pattern is partly exposed through the through hole, and the arranged plural light emitting diodes are mounted onto the wiring pattern on the base substrate while they are being connected therewith.
このフレクター基板は、ベース基板の上面に、その貫通穴を介して配線パターンの一部が露出する位置に配置接着され、配置された複数の発光ダイオードは、ベース基板上の配線パターンに接続されて実装される。 - 特許庁 - The method for manufacturing the hologram including (a) a process of creating a subject copy, (b) a process of performing Fourier transform of the subject copy and calculating a hologram pattern, and (c) a process of printing the hologram pattern on a light transparent material is used.
（ａ）原画を作成する工程、（ｂ）前記原画のフーリエ変換を行い、ホログラムパターンを算出する工程、（ｃ）前記ホログラムパターンを光透過性材料に印刷する工程、を含むことを特徴とする、ホログラムの製造方法を用いる。 - 特許庁 - By only making display parts 12, 22 of a local computer 10 and a server computer 20 pseudo-display a light emission pattern of an LED 35b of an operation panel 35 of a printer 30, error handling information 81, corresponding to a pseudo pattern 82 thereof can be acquired.
プリンタ３０の操作パネル３５のＬＥＤ３５ｂの発光パターンを、ローカルコンピュータ１０及びサーバコンピュータ２０の表示部１２，２２にて擬似表示させるだけで、その擬似パターン８２に対応するエラー対処情報８１を取得することができる。 - 特許庁 - In a transparent solid matter, by processing for drawing a predetermined display pattern by irradiating it with laser light from the outside, crack groups consisting of lots of cracks are generated along the display pattern inside of the solid matter, so as to be used as a display device.
透明な固体の外部からレーザ光を照射して所定の表示パターンを描く加工を施すことによって、前記固体の内部に前記表示パターンに沿った多数のクラックから成るクラック群を生成せしめ、ディスプレイ装置とした。 - 特許庁 - The resolution determination technique of lithography adds background light by performing all transmission exposure with the exposure amount of such a degree that an estimation pattern is resolved to intentionally deteriorate an exposure state followed by an exposure processing of the estimation pattern.
本発明のリソグラフィの解像力判定手法は、評価パターンの露光処理に引き続き、この評価パターンが解像する程度の露光量で全透過露光を行うことで、バックグラウンド光を付加して、露光状態を故意的に劣化させる。 - 特許庁 - To solve the problem in a technique for improving the performance of microphotofabrication using far ultraviolet ray light, particularly, ArF excimer laser having wavelength of 193 nm, more specifically, to provide a negative resist composition excellent in sensitivity, pattern shape and pattern collapse.
遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、感度、パターン形状、パターン倒れに優れたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a transparent conductive film with a transparent conductive layer patterned in which deterioration of appearance due to difference of hue of reflection light between a pattern portion and the immediately below the pattern opening part can be controlled, and a touch panel using the same.
透明導電層がパターン化された透明導電性フィルムにおいて、パターン部とパターン開口部の直下との間での反射光の色相の相違による見栄えの悪化を抑制できる透明導電性フィルムと、これを用いたタッチパネルを提供する。 - 特許庁 - To achieve a uniform pixel output signal by reducing periodical deterioration in image quality of a video signal since a pixel pattern formed by light-receiving parts and wiring layers is a non-uniform pattern, and thereby causing the existence of a region with high output sensitivity.
受光部と配線層とによって形成される画素パターンが不均一パターンであり、出力感度が高い領域が存在することに起因する映像信号の周期的な画室劣化を低減し、画素出力信号の均一化を実現する。 - 特許庁 - A pattern setting part 22 sets a flashing pattern relating to light emitting elements 111 or the like flashed in order to display metadata in an area on the display screen 110 of an image display device 100, which is specified by coordinate data, and a flashing speed.
パタン設定部２２は、メタデータを座標データにより特定される画像表示装置１００の表示画面１１０上の領域に表示するために点滅させる発光素子１１１等や点滅速度に関する点滅パタンを設定する。 - 特許庁 - To provide a photomask defect repair device constituted so that the performance and the yield of a photomask are enhanced by efficiently eliminating the defective part of a chrome pattern caused while the chrome pattern laminated on a quartz plate is etched b using a laser light beam.
石英プレート上に積層されたクロムパターンを食刻する中に発生したパターン欠陥部位をレーザー光で効率的に除去して、フォトマスクの性能及び収率を向上させるフォトマスク欠陥リペア装置を提供することである。 - 特許庁 - The aluminum alloy layer is then coated with a photoresist which is exposed to light using a photomask having a wiring pattern and is subjected to a development process to form a wiring pattern, and the aluminum alloy layer is then etched, by using the photoresist to form aluminum wiring 5.
そして、アルミニウム合金層上にフォトレジストを塗布し、フォトレジストを配線パターンを有するフォトマスクを用いて露光し、現像して配線パターンを形成し、フォトレジストをマスクにして、アルミニウム合金層をエッチングしアルミニウム配線５を形成する。 - 特許庁 - To provide a positive photoresist composition having high transparency to ArF excimer laser light, high sensitivity and high resolution, and high affinity with an alkali and giving a pattern with a preferable pattern profile and preferable dry etching durability and adhesion property by a paddle development system.
ＡｒＦエキシマレーザー光に対する透明性が高く、高感度で高解像度、アルカリに対して高い親和性、パドル現像によりパターン形状、耐ドライエッチング性、密着性の良好なパターンが得られるポジ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - An electronic display body 5 where pixels varying in transmissivity to light under electronic control are arrayed is used instead of a reticle and pattern data inputted to the electronic display body 5 are changed to project a different pattern on a wafer W.
電子制御に基づいて光の透過率が変化する画素が配列された電子表示体５をレチクルの代わりに使用し、電子表示体５に入力されるパターンデータを入れ替えることにより、異なるパターンをウェハＷ上に投影させる。 - 特許庁 - Bar code patterns are arranged two-dimensionally with a pattern of a color corresponding to the lightness of black (such as brown) BP provided in the case of encoded data bit is '1', and a pattern of a color corresponding to the lightness of white (such as light blue) WP provided in the case the data bit is '0'.
符号化されたデータビットが「１」のとき、黒の明度に対応する色（例えば茶色等）のパターンＢＰとし、データビットが「０」のとき、白の明度に対応する色（例えば水色等）のパターンＷＰとして、バーコードパターンを２次元的に配列させる。 - 特許庁 - To provide an active light or radiation sensitive resin composition which allows formation of a pattern having less water residue defects, bubble defects, and development residue defects and is superior in LWR, and a pattern forming method using this resin composition.
水残り欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の少ないパターンを形成することが可能であり、さらにＬＷＲの優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - In reading processing, a feature portion is detected from an image imaged by a light-receiving sensor 23 (step S1), and it is tried to match a pattern of the detected feature portion with the feature pattern of which correspondence relationship is stored in the memory 35 (step S2).
読み取り処理においては、受光センサ２３により撮像された画像から特徴部分を検出し（ステップＳ１）、検出した特徴部分のパターンとメモリ３５に対応関係が記憶されている特徴パターンとのマッチングを試みる（ステップＳ２）。 - 特許庁 - As the mobile 11 moves, the light receiver 12 moves along the pattern of the optical signal spread one-dimensionally, and can receive the information by receiving the optical signal until the mobile 11 moves by the width of the pattern.
移動体１１の移動に従って、受光部１２は一次元方向に広げられた光信号のパターンに沿って移動することになり、パターンの幅だけ移動体１１が移動するまで光信号を受光して情報を受信することができる。 - 特許庁 - In the lighting system 1, the indirect illumination, the light emitting pattern, the moving pattern of the spot lamps, or the like are changeable.
車両のドアを開閉すると、発光体による間接照明が開閉したドアから遠く離れた位置から左右に周回移動し、開閉したドア付近で移動が停止し、開閉したドアに対応したスポットランプが点灯して当該ドア付近を照明することとした。 - 特許庁 - To provide a low cost ornamental display device provided in a plate for storing game media, providing a highly ornamental effect by allowing a pattern itself to brightly emit a light, facilitating the change in a design pattern, and having a superior handling property.
遊技媒体を貯留する皿に設けられ、模様自体が明るく発光して高い装飾効果が得られ、意匠パターンの変更が容易であり、低価格且つ安価で取り扱いに優れた装飾効果の高い装飾表示装置を提供する。 - 特許庁 - The optical correlator 1 is a Vander-Lugt type which detects correlation between an input pattern and a reference pattern, and includes: a light source 11; an incident optical system 12; a first optical modulation part 21; a second optical modulation part 22; am imaging part 31; and a control part 41.
光相関器１は、入力パターンと参照パターンとの間の相関を検出するVander-Lugt型のものであって、光源１１、入射光学系１２、第１光変調部２１、第２光変調部２２、撮像部３１および制御部４１を備える。 - 特許庁 - A first optical pattern (10) is arranged on a first side face of the groove (6) opposite to a light emitting surface of the LEDs (7), and a second optical pattern (11) is arranged on a second side face opposite to a back surface side of the LEDs (7).
そして本発明は、溝(6)の、ＬＥＤ(7)の光放出面と対向する第１側面に第１光学パターン(10)を設け、更にＬＥＤ(7)ののは位面側に対向する第２側面に第２光学パターン(11)を設けたことをとを特徴とする。 - 特許庁 - In this case, the depth Lr and the position of each of the recesses 4 and 4 are decided so that the near field pattern of the laser beam has the same distribution as the light intensity distribution and the phase distribution obtained by inverse Fourier transformation of the far field pattern of the predetermined single lobe.
この凹面４，４の深さＬｒおよび位置は、レーザ光の近視野像が、予め定めた単一ローブの遠視野像を逆フーリエ変換して求めた光強度分布および位相分布と同じ分布をなすように決められている。 - 特許庁 - In the manufacturing method of a phase shifter that comprises a pattern for phase-modulating incident light on a quartz substrate, a metal film is deposited on the quartz substrate, on which a resist film is applied for exposure and development, to form a resist pattern.
石英基板に入射光を位相変調するパターンを有する位相シフタの製造方法であって、前記石英基板に対し前記石英基板上に金属膜を堆積しレジスト膜を塗布し露光および現像しレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - The pattern drawing apparatus includes a head unit equipped with a DMD (digital micromirror device) having a micromirror array which draws a pattern on a photosensitive material and modulates reflected light, a stage which holds a substrate, and a mechanism which relatively moves the head unit and the stage.
感光材料にパターンを描画するパターン描画装置において、反射光を変調する微小ミラー群を有するＤＭＤが設けられたヘッド部、基板を保持するステージ、並びに、ヘッド部およびステージを相対的に移動する機構が設けられる。 - 特許庁
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