「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 79 80 81 82 83 84 85 86 87 .... 141 142 次へ＞- The presence or absence of ink discharge from an ink discharging part is detected by comparing, with a predetermined threshold, an output value of a light receiving part which receives light emitted from a light emitting part towards a printing medium where a printing pattern composed of printing blocks formed for every ink discharging part is printed.
インク吐出部毎に形成した印刷ブロックにて構成された印刷パターンが印刷された印刷媒体に向けて発光部が発した光を受けた受光部の出力値と、所定のしきい値とを比較してインク吐出部からのインク吐出の有無を判定する。 - 特許庁 - To provide a simple flaw inspection device, capable of inspecting flaws of a substrate, without shortening the wavelength of an illumination light source, even when the line width of the repeated pattern on the substrate is fine enough to exceed the lower light value (lower limiting value, based on the wavelength of the illumination light source) in the conventional device.
基板上の繰り返しパターンの線幅が従来装置における下限値（照明光源の波長に基づく下限値）を超えて微細な場合でも、照明光源の波長を短くすることなく基板の欠陥検査を行える簡易な欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - The surface of the disk 12 held in a vertical attitude is irradiated with illumination light of an illumination light pattern serving as an irradiation range of almost the same shape as an inspection area including an edge, from lighting systems 112, 114, 116, 118, and reflected light from the inspection area portion including the edge is imaged by cameras 102, 104.
垂直姿勢で保持されたディスク12の面に対し、照明装置112，114,116,118からエッジを含んだ検査領域の形状と略同一形状の照射範囲となる照明光パターンの照明光を照射し、当該エッジを含んだ検査領域部分からの反射光をカメラ102,104によって撮像する。 - 特許庁 - In the light guide body film 4, optical path changing slopes 4c are formed in a matrix pattern on the position which avoids light intercepting regions 53b where black matrices 72 are formed and overlaps light transmission regions 53a in a plane where pixel electrodes 66 and color filters 71R, 71G, 71B are opposed to each other.
導光体フィルム４において、光路変換斜面４ｃは、ブラックマトリクス７２が形成されている遮光領域５３ｂを避けて、画素電極６６とカラーフィルタ７１Ｒ、７１Ｇ、７１Ｂが対向する透光領域５３ａに平面的に重なる位置にマトリクス状に形成されている。 - 特許庁 - To provide a flip-chip type semiconductor light-emitting device, capable of improving the finish of a solder layer that, is interposed between each electrode pad of a semiconductor light-emitting device and an electrode pattern of a mounting substrate, when flip-chip mounting the semiconductor light-emitting device is to be mounted on the mounting substrate.
半導体発光素子を実装基板上にフリップチップ実装する際に、半導体発光素子の各電極パッドと実装基板の電極パターンとの間に介在される半田層の仕上がり向上を可能とするフリップチップ型半導体発光素子を提供する。 - 特許庁 - To provide a light guide plate capable of realizing high brightness and forming a uniformalized brightness pattern on a reflecting face in a comparatively short time, the light guide plate being one for a plane light-emitting device used for a backlight unit or lighting of a liquid crystal display panel, an electronic signboard.
液晶表示パネルや電子看板などのバックライトユニットや照明に使用される面発光装置の導光板に関する発明であり、高輝度を可能とし、かつ比較的短時間で反射面に、輝度均斉化パターンを形成することができる導光板を提供する。 - 特許庁 - A pattern composed of a total reflection part 15 and a light transmission part is formed on the inner surface 2a of a measurement window 2 provided to a reactor 1, and a measuring light radiates under conditions that light is totally reflected from the surface 2a when a deposited film 11 is not formed.
リアクタ１に形成された測定窓２のリアクタ１の内部側の面２ａに、全反射する反射部分１５と透過部分１６とのパターンを形成し、堆積膜１１が堆積していない場合には面２ａで全反射される条件で測定光を照射する。 - 特許庁 - Since a reflector 1 is divided into plural blocks in a radiating direction around a light source 2 and at least part of them are tilted inward by θ, the reflected light corresponding to the tilted blocks is diffused in a form separated from an optical axis X, so that the preferable light distribution pattern can be provided.
リフレクタ１を光源２を中心とした放射方向で複数のブロックに分割し、そのうちの少なくとも一部を、θ分だけ内側に傾けたたため、傾けたブロックに相当する反射光は、光軸Ｘから離れた状態で拡散し、好ましい配光パターンが得られる。 - 特許庁 - In an optical position detector 10, when a control IC 70 sequentially supplies high frequency driving pulses to a light source section 12 via a first driving line 125a and a second driving line 125B, the light source section 12 emits detection light L2 in a radiate pattern.
光学式位置検出装置１０において、制御用ＩＣ７０が第１駆動ライン１２５Ａおよび第２駆動ライン１２５Ｂを介して光源部１２に高周波数の駆動パルスを順次供給すると、光源部１２からは検出光Ｌ２が放射状に出射される。 - 特許庁 - To secure good reproduced signal quality even when the dimensional accuracy of a housing, etc., is alleviated to the extent of general tolerance and assembly accuracy is alleviated by making a conjugate relation adjustable so that reflected light from an optical recording medium focus on the light receiving pattern of a light receiving element.
光記録媒体からの反射光が受光素子の受光パターン上に合焦するように共役関係を調整可能な構成とすることで、ハウジング等の寸法精度を一般公差程度に緩和し且つ組み付け精度を緩和しても良好な再生信号品質を確保できるようにする。 - 特許庁 - A circuit pattern layer for light shielding is provided in walls 74a and 74b surrounding at least the periphery of an LED 72 on a circuit board 75 on which the LED 72 is mounted so as to prevent light other than by the LED 72 from being guided to the light guide 70 provided in an external member 47 from the inside.
ＬＥＤ７２を搭載する回路基板７５に、少なくともＬＥＤ７２周辺を囲む壁部７４ａ、７４ｂ内に遮光用の回路パターン層を設けて、内方から外装部材４７に設けたライトガイド７０へのＬＥＤ７２以外の導光を防止する。 - 特許庁 - By adjusting the imaging position to match with the read in image plane 16, the scattered light from the light scattering pattern 13 can be made to enter the reading image plane 16 without loss, and the distribution of spatial intensity of light in the subscanning direction can be made uniform.
そこで、この結像位置と読み込み画像面１６とが一致するように設定しておけば、光散乱パターン１３からの散乱光が無駄なく読み込み画像面１６に入射することになり、副走査方向における空間光強度分布の均一化も図れる。 - 特許庁 - By this structure, connecting parts of both end light emitting elements to be actually used as light emitting elements to anode electrodes can be formed by patterning without breaking the pattern continuity, so that connecting parts at all light emitting elements to be used can be made uniform in dimensions.
このような構造にすると、発光素子として実際に使用する両端発光素子のアノード電極への接続部は、パターンの連続性が途切れずにパターニング形成できるようになるため、使用するすべての発光素子での接続部の寸法を均一に揃えることができる。 - 特許庁 - At the first movement position, the light distribution pattern for a low beam can be obtained by setting the light source 22a at a first light source position located on an optical axis Ax and by setting the movable shade 32 at a first shade position where its upper edge 32a is located on the optical axis Ax at the rear-side focal point F of a projection lens 28.
第１の移動位置では、光源２２ａを光軸Ａｘ上に位置する第１の光源位置、可動シェード３２をその上端縁３２ａが投影レンズ２８の後側焦点Ｆにおいて光軸Ａｘ上に位置する第１のシェード位置とし、ロービーム用配光パターンを得る。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition suitable when an exposure light source at ≤160 nm, in particular, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used, and specifically, to provide a positive resist composition showing sufficient transmitting property when a light source at 157 nm is used and having high resolution and an excellent pattern profile.
１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、高解像力であり、パターンププロファイルが優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a headlight which is a compact vehicular headlight, in which a plurality of projection-type light source units are housed inside a lamp room, and dark zones Dza, b, c that appear in a light distribution pattern for a high beam of respective projection-type light source units are inconspicuous at the high-beam made of the headlights.
複数の投射型光源ユニットを灯室内に収容したコンパクトな自動車用前照灯で、各投射型光源ユニットの走行ビーム用配光パターンに顕れるダークゾーンＤｚa,b,cが前照灯の走行ビームでは目立たない前照灯を提供する。 - 特許庁 - To provide an optical shape-measuring apparatus for solving the problem of deterioration in shape measurement accuracy, by preventing the deterioration in the S/N of the quantity of light, in an optical shape measurement method for obtaining an illumination angle from information on the quantity of light of pattern light irradiated.
照射角度を、照射されたパターン光の光量の情報から求める光学的形状測定方法において、光量のＳ／Ｎの劣化を防止して、形状測定精度が劣化するという問題を解消した光学的形状測定装置を提供すること。 - 特許庁 - A conductive pattern layer 4 is formed on the upper surface 1b of a part 1a dented like a dish plate shape on the top of the substrate 1, and a light emitting chip 2 is mounted on it by an adhesion of a silver paste 5 in the light emitting side of a device on which the light emitting chip 2 is mounted.
発光チップ２が搭載されたデバイスの発光側は、基板１の上部に形成された皿の形状に窪んでいる部分１ａの上面１ｂ上に導電パターン層４が形成され、その上に発光チップ２が銀ペースト５接着によって搭載されている。 - 特許庁 - The light diffusing film 1 is provided with a light translucent film base material 2, an uneven microstructure layer 34 formed on its 1st surface and protrusions 5 which are dispersedly formed on a 2nd surface of the light translucent film base material 2 by a dot-shaped pattern and which are consisting of a pressure sensitive type adhesive.
透光性フィルム基材２と、その第１面上に形成された微細凹凸構造層３４と、透光性フィルム基材２の第２面上にドット状パターンにて離散的に形成された感圧型接着剤からなる凸部５とを備えている光拡散フィルム１。 - 特許庁 - Furthermore, a light is guided by the light guide plate 31, a drawing pattern display 27 prompting an operation formed by a conductive film 28 is made to pop up by the guided light, the user is made to effectively recognize the operation, the spot to be operated can be discriminated easily and operability is improved.
また、導光板３１により光が導光され、導電膜２８で形成した操作をうながす図柄表示２７を光で浮かび上がらせ、操作を使用者に効果的に認識させ、操作する箇所を容易に判別でき、操作性を向上することができる。 - 特許庁 - In the organic electroluminescent element equipped with an organic layer containing an organic light-emitting material between a pair of counter electrodes, ultraviolet rays are irradiated to the organic layer, the irradiation amount is changed, and formation of light emission pattern having the contrast caused by the light emission brightness corresponding to the irradiation amount of the ultraviolet rays is applied.
一対の対向電極間に有機発光材料を含む有機層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記有機層に紫外線を照射し、該照射量を変化させて、紫外線照射量に対応した発光輝度によるコントラストを有する発光パターン形成を施す。 - 特許庁 - For the purpose of forming as a pattern a resist groove having a side face inclined to the surface on a resist 8, the focal point 13a of exposure light 13 from an exposure light source is shifted to a substrate 1 side from the upside of the resist 8, with the resist 8 exposed using this exposure light 13.
レジスト８に、この表面に対して傾斜する側面を有するレジスト溝を、パターンとして形成するように、露光用光源からの露光用光１３の焦点１３ａを、上記レジスト８上よりも基板１側に、ずらして、この露光用光１３にて上記レジスト８を露光する。 - 特許庁 - If a setting is performed so that an image-formation position is conformed to a reading image surface 16, a scattered light from the light scattering pattern 13 is input to the reading image surface 16 without futility and a spatial light intensity distribution in sub scanning direction can be made uniform.
そこで、この結像位置と読み込み画像面１６とが一致するように設定しておけば、光散乱パターン１３からの散乱光が無駄なく読み込み画像面１６に入射することになり、副走査方向における空間光強度分布の均一化も図れる。 - 特許庁 - The template 5 is irradiated with light by emitting the light from a back surface side of the template 5 and the negative resist 3 and the photocurable resist 4 are developed in areas where they are not irradiated with the light to thereby transfer the uneven pattern of the template 5 to the negative resist 3 and the photocurable resist 4.
前記テンプレート５の裏面から前記テンプレート５に光が照射され、光が照射されていない前記ネガ型レジスト３及び前記光硬化性レジスト４が現像され、前記テンプレート５の凹凸パターンが前記ネガ型レジスト３及び前記光硬化性レジスト４に転写される。 - 特許庁 - The optical branch and diffraction device has a hologram element 1 having a diffraction face 4 where a diffraction grating pattern is formed to allow the radiating light emitting from light sources 2a, 2b to enter, to branch the light into a plurality of beams and to converge the beams to the respective spots 3a, 3b, etc.
光分岐回折光学素子は、光源２ａ、２ｂ…から放射状に発射した光を入射し、この光を複数の光束に分岐し、かつその光束をそれぞれスポット３ａ、３ｂ…に収束する回折格子パターンを形成した回折面４を備えるホログラム素子１を有する。 - 特許庁 - A control section 61 selects any one of the plurality of light-receiving sections 641a, 641b, and uses an output image signal generated in response to the reflection light received by the selected light-receiving section to read position information or identification information included in the code pattern image recorded in the medium 50.
制御部６１は、複数の受光部６４１ａ，６４１ｂからいずれかを選択し、選択した受光部によって受光された反射光に応じて生成された出力画像信号を用いて、媒体５０上に記録されたコードパターン画像に含まれる位置情報や識別情報を読み取る。 - 特許庁 - The reflection structure pattern includes a reflection film which reflects only the light of special wavelength and which is formed thereon whereby when a set wavelength is obtained upon adjusting an oscillation wavelength while turning a grating 52, reflection light is generated and is returned to the semiconductor laser source 50 again while passing through the same light path.
反射構造パターンは特定の波長の光のみを反射する反射膜が形成されているので、回折格子５２を回転させながら発振波長を調整した場合、設定波長になれば、反射光が発生し、同じ光路を通過して再び半導体レーザ光源５０に帰還する。 - 特許庁 - In the production method of a semiconductor device including a process of transferring a specified pattern by overlapping two photomasks and exposing to light, one photomask 3 having a phase shifter 3d has a shading region 3B3 which functions as the auxiliary pattern to correct the pattern to prevent formation of a constriction.
２枚のフォトマスクを用いた重ね合わせ露光処理によって、所定のパターンを転写する工程を有する半導体装置の製造方法において、位相シフタ３ｄを有する一方のフォトマスク３に、パターンのくびれが生じるのを補正するための補助パターンとして機能する遮光領域３Ｂ3 を設けたものである。 - 特許庁 - In a mask layout having aperture patterns continuously and discretely disposed, a device pattern having a chevron pattern selectively having a large aperture part can be formed with high controlling property by specifying the pattern pitch P to satisfy 0.69λ/NA≤P≤0.85λ/NA, wherein λ is the exposure light wavelength and NA is the numerical aperture of a projection lens.
開口パターンを連続的に離散配置したマスクレイアウトにおいて、パターンピッチＰを０．６９λ／ＮＡ≦Ｐ≦０．８５λ／ＮＡ（ここで、λは露光光波長、ＮＡは投影レンズの開口数）とすることで、選択的に大開口部を有するシェブロンパターンを有するデバイスパターンを制御性よく形成することができる。 - 特許庁 - On one side surface of transparent base 1, a mesh pattern 4 (or 2) including a light-shielding pattern 7 (or 5) of black stripe and a conductive thin film having electromagnetic wave shielding function is formed and, on the other side surface, a display electrode 15 of a mesh pattern made of conductive thin film is formed.
透明基材１の一方の面に、ブラックストライプの遮光パターン７（または５）と電磁波シールド機能を有する導電性薄膜からなるメッシュパターン４（または２）とが形成されるとともに、透明基材１の他方の面に、導電性薄膜からなるメッシュパターンの表示電極１５が形成されてなる。 - 特許庁 - In accordance with a difference between the size of an actual pattern obtained by processing under an exposure condition reduced in the change of the pattern size even when the focus of light in exposure is changed or a pivotal point, and a mask pattern size or a pivotal shift, a switching picture for switching whether a substrate processing condition is set or not is indicated to operate the processing device.
露光での光の焦点が変化してもパターン寸法の変化が少ない露光条件であるピボタルポイントで処理されて得られた実際のパターン寸法と、マスクパターン寸法との差分であるピボタルシフトに応じて、基板処理条件を設定するか否かを切り換える切換画面を表示して操作する。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition having high sensitivity and capable of achieving an excellent pattern shape and excellent temporal stability, in pattern formation by irradiation with light such as an electron beam, a method for producing a relief pattern using the negative resist composition, and a method for producing a photomask using the negative resist composition.
電子線等の光照射によるパターン形成において、高感度、且つ、優れたパターン形状、及び経時安定性を達成可能なネガ型レジスト組成物、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたレリーフパターンの製造方法、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive photoresist composition having high resolving power in the production of a semiconductor device, having evaluation with the same light exposure near the margin of resolution by which the size in which a nondense pattern vanishes and the marginal resolution size of a dense pattern show approximate values closer to each other and ensuring low surface roughness of a line pattern.
半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも解像限界あたりにおいて、同一露光量の評価で、疎パターンが消失してしまう寸法と密パターンの限界解像寸法の二者がより近い近似値を示し、更にラインパターンの表面ラフネスが小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - Then, in a low-beam light distribution pattern formed by the first unit and the second unit, a low-brightness part with brightness partially lowered is formed at an interface at either right and left end of a superposed part on a diffusion area forming pattern, out of peripheral edge parts for a cutoff line forming pattern formed by the sub units.
そこで、第１ユニットと第２ユニットとで形成するすれ違いビームの配光パターンにおいて、サブユニットが形成するカットオフライン形成用パターンの周端部分のうち、拡散領域形成用パターンの上に重なる部分における左右両端側の境には、明るさが部分的に低減された低照度部が形成される。 - 特許庁 - To provide a conductive base material for plating capable of manufacturing a base material with a conductive layer pattern with high productivity by using a transfer method, and easily manufacturable; its manufacturing method; a manufacturing method of base material with a conductor layer pattern using it; a base material with a conductor layer pattern; and a light-transmitting radio wave shielding member.
導体層パターン付き基材を転写法を用いて生産性よく製造することができ、作製が容易であるめっき用導電性基材、その製造方法及びそれを用いた導体層パターン付き基材の製造方法、導体層パターン付き基材、透光性電磁波遮蔽部材を提供する。 - 特許庁 - This reflective exposure method comprises for the reflective mask the steps of selecting a specified pattern, e.g., a pattern having a minimum dimension, computing the electromagnetic field near the mask with respect to the pattern, and obtaining the propagation direction having a maximum intensity in the distribution of diffracted light acquired from the computed electromagnetic field near the mask.
反射型露光方法は、反射型マスクにおいて、特定のパターン、例えば、最も寸法の小さいパターンを選択するステップと、該パターンについてマスク近傍の電磁界を計算するステップと、計算されたマスク近傍の電磁界から求まる回折光の分布から最も強度が強い伝播方向を求めるステップを含む。 - 特許庁 - The detecting device comprises means 5 and 6 of sending out signals which output signals informing every time the fact that each pattern of a repeating pattern reaches a specified observation region, and means 7 and 9 of generating flash light which instantaneously lighten each pattern which reaches the observation region.
繰返しパターン中の各パターンが所定の観察領域に到達する毎にその旨の信号を出力する信号発生手段５，６と、この信号に同期して閃光を発生し、前記観察領域に順次到達する各パターンを瞬間的に照明する閃光発生手段７，９とを具備する。 - 特許庁 - The reflective exposure method includes a step for selecting a specific pattern, e.g. a pattern of smallest size, in a reflective mask, a step for calculating the electromagnetic field near the mask for the pattern, and a step for determining the propagation direction of highest intensity from the distribution of diffraction light which is determined from the electromagnetic field near the mask thus calculated.
反射型露光方法は、反射型マスクにおいて、特定のパターン、例えば、最も寸法の小さいパターンを選択するステップと、該パターンについてマスク近傍の電磁界を計算するステップと、計算されたマスク近傍の電磁界から求まる回折光の分布から最も強度が強い伝播方向を求めるステップを含む。 - 特許庁 - The pattern display belt 5 has three-dimensional properties to improve the decoration effect since the part of a pattern 6 is projected on the side of a player by performing vacuum molding after printing a numeral figure 52a and a circular part 52b constituting the pattern 6 on the rear face 8 of a light transmissive plastic film 51 and performing shrinkable printing to a front face.
図柄表示ベルト５は、透光性のプラスチックフィルム５１の裏面８に図柄６を構成する数字５２ａや円形部分５２ｂを印刷し表面に縮み印刷を施してから真空成形して、図柄６部分を遊技者側で凸にしているので、立体性があり装飾効果が向上する。 - 特許庁 - The projection aligner which projects a specified pattern on a photosensitive substrate is provided with a lighting optical system to supply a light to a specified pattern, and a projection optical system wherein an image of the specified pattern is formed on the photosensitive substrate by means of an immersion liquid between the photosensitive substrate and the projection optical system.
感光性基板上に所定のパターンを投影する投影露光装置は、照明光を所定のパターンに供給する照明光学系と、感光性基板と投影光学系との間の浸液を介して所定のパターンの像を感光性基板上に形成する投影光学系とを備える。 - 特許庁 - A first mask pattern 13 consisting of a first phase shift region 11 which is offset in phase by 180°C with respect to the phase of the exposure light transmitted through the transmissible region exclusive of the pattern part and a second mask pattern 14 consisting of a second phase shift region 12 are formed as a phase shift mask 100 on a mask substrate 100.
位相シフトマスタ１００として、パターン部以外の透過領域を透過する露光光の位相に対して、位相が１８０°ずれる第１の位相シフト領域１１からなる第１のマスクパターン１３および第２の位相シフト領域１２からなる第２のマスクパターン１４をマスク基板１１０上に形成する。 - 特許庁 - DISCRETE PATTERN, OPTICAL MEMBER USING THE SAME, LIGHT TRANSMISSION PLATE, SIDELIGHT DEVICE, TRANSMISSIVE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND METHOD, PROGRAM AND SYSTEM FOR GENERATING THE DISCRETE PATTERN AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM WITH COMPUTER READABLE PROGRAM FOR GENERATING THE DISCRETE PATTERN RECORDED THEREON
離散パターン、該離散パターンを用いた光学部材、導光板、サイドライト装置、透過型液晶表示装置、該離散パターンの生成方法および該離散パターンを生成するためのプログラム、該離散パターンを生成するためのコンピュータ可読なプログラムが記録されたコンピュータ可読な記録媒体並びに離散パターン生成システム - 特許庁 - A raster picture to be displayed this time is displayed by allocating this three-fold pattern to the three light emitting elements composing one pixel, by dynamically deciding a three-fold pattern obtained by magnifying the noteworthy pixel in the 1st direction according to a rectangular reference pattern consisting of the noteworthy pixel and 3×3 pixels surrounding this noteworthy pixel.
今回表示すべきラスタ画像において、注目画素と、この注目画素を取り囲む、３×３画素からなる矩形の参照パターンに従って、当該注目画素を第１の方向に３倍拡大した３倍パターンを、動的に決定し、１画素を構成する３つの発光素子に、この３倍パターンを割り当てて表示する。 - 特許庁 - After a non-sensitized part of the negative photoresist film 18 and light blocking photoresist film 16 is removed, a positive photoresist film 14 is sensitized by whole surface exposure with g-rays 38 for forming a resist pattern 42 having a prescribed pattern, and a connection hole 44 is formed in an insulation layer 12 by the use of the resist pattern 42.
ネガ型レジスト膜１８と遮光フォトレジスト膜１６との未感光部分を除去したのち、ｇ線３８による全面露光によりポジ型フォトレジスト膜１４を感光させて所定のパターンを有するレジストパターン４２を形成し、レジストパターン４２を用いて絶縁層１２に接続孔４４を形成する。 - 特許庁 - To provide a resist pattern thickening material etc., which have no dependence of resist patterns on materials and sizes, thickness of the resist pattern increases uniformly and stably in the state of reducing the roughness of surface, and can form a fine resist drop-out pattern exceeding the exposure threshold of a light source in an exposure device used during patterning.
レジストパターンの材料や大きさに対する依存性がなく、レジストパターンを均一にしかも安定に、表面のラフネスを低減した状態で厚肉化し、パターニング時に用いる露光装置における光源の露光限界を超えて微細なレジスト抜けパターンを形成可能なレジストパターン厚肉化材料等の提供。 - 特許庁 - The metal layer comprises a first and a second electrode pattern electrically connected to the first and the second lead frame; and a heat dissipation pattern insulated from at least one of the first and the second electrode pattern, and absorbing and dissipating heat generated from at least one of the base layer and the light emitting element package.
前記メタル層は、前記第１及び第２リードフレームと電気的に接続している第１及び第２電極パターンと、前記第１及び第２電極パターンの少なくとも一方と絶縁され、前記ベース層及び前記発光素子パッケージの少なくとも一つから発生した熱を吸収して放熱する放熱パターンとを備える。 - 特許庁 - The method for making a phase modulation type hologram not substantially accompanied by a surface relief image due to irregularity includes (1) a step of computing a variation pattern of light transmittance as a mask pattern through a computer generated hologram, (2) a step of making a photomask from the computed mask pattern, and (3) a step of exposing an index modulation type photopolymer with light passed through the photomask.
（１）マスクパターンとして計算機合成ホログラムにより光線透過率の変化パターンを計算する工程、（２）計算されたマスクパターンからフォトマスクを作製する工程、および（３）当該フォトマスクを通過した光により屈折率変調型フォトポリマーを露光する工程とを含むことを特徴とする、実質的に凹凸による表面レリーフイメージを伴わない位相変調型ホログラムの作製方法。 - 特許庁 - The decoration control circuit emits the light by creating a light emission control means for emitting the light from the the light emitter by analyzing the reception content by receiving command information from a lot-drawing determining means 94 (a main control system), a pattern control system 43 and an operation control system 44 (an output control part, a shooting control part 44b and a dispensation control part 44c).
装飾制御回路は、抽選判定装置９４（メイン制御装置）と図柄制御装置４３と動作制御装置４４（出力制御部、発射制御部４４ｂ、払出制御部４４ｃ）とからのコマンド情報を受信し、その受信内容を分析するとともに発光体を発光させる発光制御手段を創出して発光させる。 - 特許庁 - At this time, an S wave component s1 (reflected light) reflected by a vibrating film 151 via a λ/4 plate 161 in the first optical path (reflected light path) is made to interfere with a P wave component (reflected light) reflected by a vibrating film 152 via a λ/4 plate 162 in the second optical path (reference light path) to form an interference pattern.
この際、第１の光路（反射光路）においてλ／４板１６１を介して振動膜１５１により反射されたＳ波成分ｓ１（反射光）と、第２の光路（参照光路）においてλ／４板１６２を介して反射板１５２により反射されたＰ波成分ｐ１（参照光）とを、互いに干渉させて干渉縞を形成する。 - 特許庁 - This ornamental display device 50 provided in the game machine comprises a display plate 55 formed by printing a pattern (FEVER) on a light guide plate such as an acrylic plate with a paint having a light diffusing property, and a receiving part 62 integrally formed with the game machine incorporating a light source part (an LED substrate 70) emitting a light to the end face of the display plate 55.
遊技機に設ける装飾表示装置５０を、アクリル板などの導光板に光を拡散する性質の塗料で模様（ＦＥＶＥＲ）を印刷した表示プレート５５と、この表示プレート５５の端面に光を照射する光源部（ＬＥＤ基板７０）を内蔵した遊技機に一体的に形成された受け部６２とで構成する。 - 特許庁
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