To provide a resist composition very excellent in heat resistance, enabling formation of a resist pattern having good adhesion to a substrate and suitable for a light shielding film such as a black matrix and to provide a pattern forming method using the resist composition. 耐熱性が顕著に優れ、基板との密着性が良好なレジストパターンを形成することができ、ブラックマトリックスなどの遮光膜としての用途に好適なレジスト組成物と、該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
Moreover, the control circuit 11 operates the ultraviolet light sources 2a and 2b to apply the ultraviolet rays to the ink related to the fine pattern after end of the first period of time, and not to apply the ultraviolet rays to the ink related to the solid pattern after end of the second period of time. また、制御回路11は、第1期間の終了後に微細パタンに係るインクに紫外線を照射し、第2期間の終了後にベタパターンに係るインクに紫外線を照射しないように、紫外線光源2a、2bを動作させる。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition, excellent in light transmissivity, excellent in dry-etching tolerance, high in reaction efficiency by an acid catalyst, and excellent in adhesiveness to a substrate, and a pattern forming method giving an excellent pattern shape. 光透過性に優れ、ドライエッチング耐性に優れ、酸触媒による反応効率が高く、かつアルカリ溶解性、基板との密着性に優れる感光性組成物と、表面粗さの小さい、優れたパターン形状が得られるパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a pattern forming method in which light is radiated on a part of a titanium (Ti) metal formed on a layer to be etched to form a titanium oxide(TiOx) film, and then a pattern is formed on the layer to be etched using the difference of the etching rates. エッチング対象層上に形成されるチタン(Ti)金属の一部に光を照射してチタン酸化物(TiOx)膜を形成した後、そのエッチング速度の差を利用してエッチング対象層にパターンを形成するパターン形成方法を提供しようとする。 - 特許庁
In the pattern forming method, the positive type photosensitive resin composition is applied on the substrate and subjected to first exposure, development, second exposure and heating in order and the quantity of light in the second exposure is 0.3 to 15 times the quantity of light in the first exposure. 前記ポジ型感光性樹脂組成物を、基板上に塗布、第1露光、現像、第2露光、加熱処理を順次行う工程において、第2露光の光量が、第1露光の0.3〜15倍であるパターン形成方法。 - 特許庁
The lighting apparatus unit 16 that emits a light beam forward in a low beam light distribution pattern P having a hot-zone HZ is constituted of a lighting apparatus unit body 18 and a pair of second reflectors 20L, 20R provided on both left and right sides thereof. ホットゾーンHZを有するロービーム配光パターンPで前方へビーム照射を行う灯具ユニット16を、灯具ユニット本体18と、その左右両側に設けられた1対の第2リフレクタ20L、20Rとで構成する。 - 特許庁
A work 5 such as a substrate mounted on a work stage 4 is irradiated with light from a light irradiating unit 1 through a mask 2, a projection magnification varying mechanism 10 and a projection lens 3 to project a pattern image on the mask onto the work 5 for exposure. 光照射部1からの光が、マスク2、投影倍率変更機構10、投影レンズ3を介してワークステージ4に載置された基板等のワーク5上に照射され、マスクのパターン像がワーク5上に投影され露光される。 - 特許庁
The imaging device includes an image sensor 2 having a reference pixel region 2a whose pixel portion is light-shielded and effective pixel region 2b whose pixel portion is not light-shielded and a detected pixel determining portion 4 for determining detection subject pixels of the fixed pattern noise. 画素部が遮光されている基準画素領域2aと画素部が遮光されていない有効画素領域2bを有する撮像素子2と、固定パターンノイズの検出対象画素を判定する検出画素判定部4とを備える。 - 特許庁
A fine periodical structure 21 is formed on the curvi-formed substrate surface of the lens optical device on which the larger the incident angle of the light is, that is, the further the incident light is away from the optical axis, the smaller the pattern pitch is made. レンズ光学素子20の曲面形成された基板表面に、入射光の入射角度の大きい部位ほど、すなわち光軸から離間されるほど、パターンピッチを小さくして微細周期構造21を形成する。 - 特許庁
To expose a pattern on an object to be exposed by controlling the irradiation light of charged corpuscular beams on the basis of suitably selected correction exposure information and calibration information for correcting the dispersion of irradiation light mutually between charged corpuscular beams. 適切に選択された補正露光情報と、荷電粒子線相互間で照射光のばらつきを補正するためのキャリブレーション情報とに基づき、荷電粒子線の照射光を制御して被露光体にパターンを露光する。 - 特許庁
To provide a hologram observation tool, which enables a lightpattern with high diffraction efficiency to be seen replacing a light source in a scene, make a conjugate image and a high-order image unnoticeable even when they appear, and is easily manufactured having specified characteristics, and a computer hologram for the same. 高回折効率で明るいパターンがシーン中の光源に置き替わって見え、共役像、高次像が出ても気にならず、かつ、所定の特性のものの作製が容易なホログラム観察具とそのための計算機ホログラム。 - 特許庁
The tip of an ellipse on its major axis of a light guide body 3, whose cross-section is approximately a quarter of ellipse is but (beveled), including a focus of the ellipse, and a surface 3d formed by the cutting is provided with a light-scattering pattern 3P. 断面形状が略1/4楕円である導光体3の楕円の長軸側先端を楕円の焦点を含めてカットし(面取りし)、このカットによって形成された面3dに光散乱パターン3Pを形成する。 - 特許庁
Three mark regions are formed within an exposure region to be irradiated with illumination light 1 of an exposure apparatus, wherein a fine aperture pattern 40 and two kinds of optical elements 50, 60 are disposed on a light shielding film 300 in the mark region. 露光装置の照明光1が照射される露光領域内に3個のマーク領域が形成され、このマーク領域内の遮光膜300には、微小開口パターン40と、2種類の光学素子50、60が配置されている。 - 特許庁
The projection device automatically synchronizes the rotational control of the color wheel 302 and the traveling direction control of the transmitted light by the DMD 305 with each other, on the basis of the time-resolved pattern of the color of the transmitted light detected by the color sensor 306. 投影装置はカラーセンサ306で検出された透過光の色の時分解パターンに基づいてカラーホイール302の回転制御とDMD305による透過光の進行方向制御との同期を自動で行う。 - 特許庁
To provide a diffraction optical element having high optical performance, capable of realizing, easily and surely, an optical function equivalent to a high-precision optical element requiring an extreme minute pattern, and capable of suppressing generation of unnecessary diffracted light or stray light. 極めて微細なパターンを必要とする高精度の光学素子と等価な光学的機能を容易且つ確実に実現し、不要回折光や迷光の発生を抑止して高い光学性能を持つ回折光学素子を提供する。 - 特許庁
In the case of e.g. lighting the fabric with a parallel light from its front surface side and observing, the reflected amounts of light from the S-twist yarn group or Z-twist yarn group becomes both similar and mere plain pattern is observed. 例えば織物にその正面側から平行光を当てて、織物を正面から観察した場合には、前記S撚糸群又はZ撚糸群の光の反射量が共に同じになって単なる無地模様として観察される。 - 特許庁
In ultraviolet light reflected on the micro-mirror device, ultraviolet light contributed to pattern exposure straightly moves down, passes through the 1/4 wavelength plate again to become a P wave, is transmitted through the polarization beam splitter approximately in 100%, and moves down. マイクロミラーデバイスで反射する紫外光の内、パターン露光に寄与する紫外光は真っ直ぐに下方に進み、再度、1/4波長板を通過することでP波となり、偏光ビームスプリッタを100%近く透過し下方に進む。 - 特許庁
To provide a light curable composition having light curability, usable for lithography, exhibiting good sensitivity and scarcely developing problems such as a pattern form defect after development and corrosion, and to provide a cured product. 本発明の目的は、光硬化性を有しリソグラフィー可能であり、かつ良好な感度を有し、現像工程後のパターン形状不良や、腐食などの問題を生じにくい光硬化性組成物および硬化物を提供することである。 - 特許庁
To realize an appropriate illumination condition, which is necessary to transfer faithfully a mask pattern having a variety of characteristics, for example, an illumination condition having a diversity in a light intensity distribution and a polarization state of a secondary light source. 様々な特性を有するマスクパターンを忠実に転写するために必要な適切な照明条件、たとえば二次光源の光強度分布や偏光状態などに関して多様性に富んだ照明条件を実現する。 - 特許庁
To provide glass for a fresnel lens having characteristics suitable for a fresnel lens utilized for an apparatus represented by a light-focusing solar cell and easily formable of a pattern for light-focusing by a direct press method or a reheat press method. 集光式太陽電池に代表される装置に利用されるフレネルレンズに適した特性を持ち、かつ、ダイレクトプレス法又はリヒートプレス法による集光用パターンの形成を容易にできるフレネルレンズ用ガラスが求められている。 - 特許庁
A metallizing pattern 3 is formed on the upper surface of a mount 2 comprising a high thermal-conduction material such as ceramics, with its width almost equal to that of a light-emitting element 1 and with its length shorter than a length L of the light-emitting element 1 by α. セラミックス等の高熱伝導材料から成るマウント2の上面にメタライズパターン3を形成し、その寸法を幅は発光素子1の幅と略等しく、長さは発光素子1の長さLよりαだけ短くしておく。 - 特許庁
An insertion pattern of the LPF/SPF inserted in the broad band light BB is determined to enlarge the half-value width of blue narrow band light generated after being transmitted through the LPF and SPF as the distance d is lengthened. 距離dが大きくなるのに従って、LPF及びSPFを透過して生成される青色狭帯域光の半値幅が拡がるように、広帯域光BBに挿入するLPF/SPFの挿入パターンを決定する。 - 特許庁
Upon the receipt of gradation data, an application time control section 102 transmits an ON pattern control signal in response to the gradation data from a point of time earlier than a point of time when a light emitting section of an LCD panel 20 emits a light by a prescribed time. 印加時間制御部102は、階調データを入力すると、LCDパネル20の発光部が発光する時点から所定時間ぶんだけ前の時点から階調データに応じたONパターン制御信号を送出する。 - 特許庁
A data acquisition section 40 acquires the speech data to be outputted from the speech output section 24, and control data Dcnt associated to the speech data and including the lighting pattern of the LED 26 and the light emission data relating to the light emission luminance. データ取得部40は、音声出力部24から出力すべき音声データと、音声データに対応付けられ、LED26の点灯パターンおよび発光輝度に関する発光データと、を含む制御データDcntを取得する。 - 特許庁
To provide a reflective mask blank for extreme ultraviolet (EUV) lithography in which the mask has low reflectance in a wavelength range of EUV light and pattern inspection light and has an absorbent layer that is easily controlled to a desired film composition and a film thickness. EUV光およびパターン検査光の波長域の反射率が低く、かつ該所望の膜組成および膜厚に制御することが容易な吸収体層を有するEUVリソグラフィ用反射型マスクブランクの提供。 - 特許庁
The device is produced by laminating a sheet display part 2 having a specified display pattern 7 and a polymer battery 4 formed into a sheet with a light-emitting part 3 interposed which has a light-emitting body and is wholly made thin and flexible. 発光体を有するとともに全体が薄厚で可撓性を以って形成された発光部3を挟んで、所定の表示パターン7を設けたシート状表示部2と、シート状に構成されたポリマー電池4とを積層して構成する。 - 特許庁
A hologram pattern m1 for positioning is formed in a part of the region of the hologram optical element 2 in such a manner that the diffracted light is converged onto the light detecting part M1 for positioning when the optical pickup device is rendered into a focused state. ホログラム光学素子2の一部領域には、光ピックアップ装置が合焦点状態になったときに、回折光が位置決め用の光検出部M1に集光するような位置決め用のホログラムパターンm1が形成されている。 - 特許庁
To provide a portable terminal capable of improving decorativeness by light emission of a LED along with the design of a dress-up panel itself by controlling a light emitting pattern of the LED in accordance with the type of the dress-up panel. 着せ替えパネルの種類に応じてLEDの発光パターンを制御することにより、着せ替えパネル自体のデザインと合わせてLEDの発光による装飾性の向上を行うことができる携帯端末を提供する。 - 特許庁
In a photolithographic process when storage electrodes are formed, overexposure is made to light by using a positive type resist and a reticle having an inversion pattern where light transmitting regions outside patterns to be actually formed are made void patterns 1. 蓄積電極形成時のフォトリソグラフィー工程において、ポジ型レジストを用い、実際に形成するパターンの外方の光透過領域が白抜きパターン1となった反転パターンを有するレチクルを使用して、オーバー露光を行う。 - 特許庁
Then, in the display conversion circuit 1657, a light control signal of the round-kind specific LED 1628 is converted into a light control signal for performing lighting pattern in the fourth symbol and output to the fourth symbol display LED 1624. そして、表示変換回路1657で、ラウンド種別LED1628の点灯制御信号を、第4図柄における点灯パターンを実現する点灯制御信号へ変換して、第4図柄表示LED1624へ出力する。 - 特許庁
Reflectors 3-1 and 3-2 are mounted as detection targets at predetermined positions of an object and reflect the two-dimensional patternlight radiated from the azimuth detector 2 into a direction opposite to the direction in which the light has been radiated. 反射体3−1および3−2は、物体の所定の箇所に検出対象として取り付けられ、方位検出器2から放射された2次元パターンの光を、入射された方向と同一方向に光を反射する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a light-emitting device and a substrate for evaporation capable of improving accuracy of pattern formation of respective color EL layers when manufacturing a full-color flat panel display using red, green, and blue light-emitting colors. 赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、各色のEL層のパターン形成の精度を向上させることが可能な発光装置の作製方法及び蒸着用基板を提供する。 - 特許庁
Reflected light of a laser beam radiated from a radiating device 14 from an area of a road surface is photographed by a camera 12, and the luminance of reflected light and a reflection pattern are extracted from an image of the area photographed by the camera 12 by a data extraction circuit 17. 照射装置14から照射したレーザ光の路面のエリアからの反射光をカメラ12で撮影し、カメラ12で撮影したエリアの画像から反射光輝度および反射パターンをデータ抽出回路17で抽出する。 - 特許庁
Even when an interval of measured patterns is deviated, the deviation does not give any effect on the light emitting position of the phosphors by specifying the light emitting position based on the reference position of the coordinate system calculated for each measurement pattern. 測定パターン毎に算出した座標系の基準位置に基づき発光位置を特定することにより測定パターンのパターン間隔がずれている場合にもそのずれが発光螢光体の発光位置に影響しないようにした。 - 特許庁
To provide a process for producing an electromagnetic wave shielding/light transmitting window material in which a conductive pattern of small and uniform linewidth can be formed stably, and to provide an electromagnetic wave shielding/light transmitting window material produced by that method. 線幅が小さくて均一な導電性パターンを安定して形成することができる電磁波シールド性光透過窓材の製造方法と、この方法によって製造された電磁波シールド性光透過窓材を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor laser array capable of arbitrarily adjusting to set a directional pattern of focused light, sheet light or the like as a laser beam while having a simple structure rquiring no complex control, a mechanism or the like. 何ら複雑な制御や機構等を必要としない簡素な構造でありながら、集光光やシート光等、レーザ光としての指向特性を任意に調整、設定することのできる半導体レーザアレイを提供すること。 - 特許庁
When a glass substrate of a measuring object is irradiated with convergence light via a condenser lens 114, diffraction light generated by the array pattern of the electrodes 31 is generated to be reflected on a surface 3a and a reverse face 3b of the substrate. 測定対象のガラス基板に集光レンズ114を介した集束光を照射すると、電極31の配列パターンにより生じた回折光が発生し、基板の表面3aおよび裏面3bで反射する。 - 特許庁
The substrate 1 on which photoresist is applied is mounted on the chuck 10 and the substrate 1 is scanned with the light beam from a light beam irradiating device 20 while the chuck 10 is moved by an X stage 5 to draw a pattern on the substrate 1. フォトレジストが塗布された基板1をチャック10に搭載し、Xステージ5によりチャック10を移動しながら、光ビーム照射装置20からの光ビームにより基板1を走査して、基板1にパターンを描画する。 - 特許庁
Also the method for its manufacturing comprises forming a light shielding pattern 10 on the surface of the one substrate 1 corresponding to the pixels and self-olignedly forming the microlens array 11a utilizing opening parts of the light shielding parttern 10. 又その製造方法としては、上記一方の基板表面に画素に対応した遮光パターン10を形成し、その遮光パターンの開口部を利用して上記マイクロレンズアレイ11aを自己整合的に形成することを特徴とする。 - 特許庁
A drive unit 22 receiving a video signal or the like supplies a drive signal to a circuit pattern part 28 on a wiring board 25 and each light source element unit 27 corresponding to respective pixels constituting an image emits light of required colors and luminance. ビデオ信号等を受けた駆動装置22は、駆動信号を配線基板25上の回路パターン部28に供給し、画像を構成する各画素に対応する光源要素ユニット27が所望の色及び輝度で発光する。 - 特許庁
The position of a light distribution pattern when switching the bulb 12 from low beams to travel beams is not in a reverse direction to the first reflecting surfaces 14, 16 and second reflecting surfaces 18, 20 on both sides of the bulb 12, thereby obtaining proper light distribution. これにより、バルブ12をすれ違いビームから走行ビームに切り替えた際の配光パターンの位置が、バルブ12両側の第一反射面14、16、第二反射面18、20と逆方向にならず、適正な配光となる。 - 特許庁
The position of the detection pattern formed with magnetic toner is detected through the use of magneto-optical effect as a phenomenon that, when linearly-polarized light is emitted and reflected by a magnetized object, the light is reflected while changing the polarization state thereof. 直線偏光で照射された光が磁化した物体で反射したときその偏光状態が変わって反射される現象である磁気光学効果を利用して、磁性トナーで形成された検出パターンの位置を検出する。 - 特許庁
An image sensor 9 that emits a light onto a medium (not shown) to sense its reflected light, senses a known image pattern and an image read preliminary check section 2 uses an output of the sensor to discriminate the normal/fail of the sensor 9. 媒体(図示せず)に光を照射してその反射光を検知するイメージセンサ9が、既知のイメージパターンについて検知を行い、そのセンサ出力を用いてイメージ読取りプレチェック部2はセンサ9の良否判定を行う。 - 特許庁
In this state, information is written in the recording medium by driving to properly open or close a lid 3 disposed on each minute aperture 2 according to the bit pattern of the information to be recorded while the array plate is irradiated with light from a light source. この状態で光源から光を照射しつつ、各微小開口2毎に設けられた蓋3を、記録しようとする情報のビットパターンに応じて適宜開閉駆動することにより、記録媒体5に情報を書き込む。 - 特許庁
The interference pattern obtained with the interference optical system 5 is received with a light receiving element 7, the obtained light receiving signal phase is detected with a phase detection circuit 8 and phase amplitude is extracted with an amplitude extraction circuit 9. 干渉光学系5から得られる干渉縞を受光素子7により受光し、得られた受光信号の位相を位相検出回路8により検出し、更に振幅抽出回路9により位相振幅を抽出する。 - 特許庁
To realize a light-emitting pattern in accordance with the movement of a lure without requiring a built-in battery as an electric power source, so as to perform a self light emission aiming at the improvement of a visual appealing effect on fishes. 魚に対する視覚的アピール効果を高めることを目的として自己発光するようにしてなるルアーにおいて、電源として内蔵されている電池を不要とするとともに、ルアーの動きに応じた発光パターンを実現する。 - 特許庁
To simulate a light transmissive electromagnetic wave shielding sheet by reducing a difference of appearances (color tone/metal gloss feeling) of front and rear surfaces by a shielding pattern together with light transmission properties and electromagnetic wave shielding performance so as to be applicable to a window, etc. of a building. 光透過性電磁波遮蔽シートを、建築物の窓等にも適用できる様に、光透過性、電磁波遮蔽性能と共に、シールドパターンによる表裏の外観(色調・金属光沢感)差を少なくし類似させる。 - 特許庁
In the coin 1a, a pattern based on projecting and recessing parts on a surface is mainly converted into an electric signal by light reflection sensors 9 and 10 having projection parts and light reception parts and by coil sensors 11 and 12 using detection coils in such state. この状態で硬貨1aは、投光部と受光部を有する光反射センサ9,10と、検出コイルを用いたコイルセンサ11,12により、主として表面の凹凸に基づくパターンが電気信号に変換される。 - 特許庁
To provide a reflective exposure method capable of optimizing the exit angle of a reflective mask and the incidence angle of a wafer while taking into account both the specular reflection light from the reflective mask and the light reflected on the pattern sidewall. 反射型マスクにおいて正反射した光およびパターン側壁で反射した光の両方を考慮しつつ、反射型マスクの射出角およびウエハの入射角の最適化を図ることができる反射型露光方法を提供する。 - 特許庁
The lighting of a flash light for irradiating the outer peripheral surface of a reel with light is controlled by a prescribed generation cycle at the time of a reel rotation state, thus the player is allowed to visualize a pattern passing through a reel display window momentarily . リールの外周面に光を照射するフラッシュライトを、リール回転状態のとき、所定の発生周期によって点灯制御することによって、リール表示窓を通過する図柄を遊技者に瞬時視認させることができる。 - 特許庁