「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 77 78 79 80 81 82 83 84 85 .... 141 142 次へ＞- To provide an inkjet recording head preventing the deterioration of patterning precision by the deformation of a discharge port pattern shape, while suppressing the deformation by reflecting light from a base plate surface in the pattern exposition of the discharge port.
吐出口のパターン露光における基板面からの反射光による吐出口パターン形状の変形を抑制しつつ、その変形抑制によるパターニング精度の低下を防止可能なインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - By comparing the light detection results obtained by the respective photodetecting elements, a pattern selecting section performs pattern selection of an irregular area composed of groups of the photodetecting elements whose photodetection results fall within a predetermined range and which are adjacent to one another.
パターン選択部は、受光素子ごとに得られた光検出結果を比較することにより、光検出結果が予め定められた範囲内に収まり、かつ隣接する受光素子の群からなる不定形領域をパターン選択する。 - 特許庁 - A photo mask is formed where a diffraction grating pattern or an auxiliary pattern is arranged having a light intensity reduction function comprising a translucent film, or a complicated gate electrode is formed by applying a reticle to a photolithographic process for forming a gate electrode.
回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルをゲート電極形成用のフォトリソグラフィ工程に適用して複雑なゲート電極を形成する。 - 特許庁 - The coded pattern is detected within the image on the output display by an infrared (IR) video camera disposed on the display, opposite to the object, responding to the IR light reflected from the coded pattern.
コード化されたパターンは、物体から表示面の対側に配置されているＩＲビデオカメラによりコード化されたパターンから受け取った反射された赤外線（ＩＲ）光に反応（応答）して出力される表示面の画像内で検出される。 - 特許庁 - When the irregular pattern 102 is irradiated with the servo light 105, a clock signal can be reproduced from this irregular pattern 102, when recording and reproducing of hologram is performed using the clock signal, highly accurate servo control can be realized.
凹凸パターン１０２にサーボ光１０５を照射すれば、この凹凸パターン１０２からクロック信号を再生することができ、クロック信号を用いてホログラムの記録及び再生を行えば、高精度なサーボコントロールを実現することができる。 - 特許庁 - A sub-pattern 21 is specified from the width W when each sub-pattern 21 crosses a light receiving part 17 having a linear CCD 13 as a detectable range, and the angle of the rotor plate 11 can be determined from the crossing position P.
これらのサブパターン２１がライン状のＣＣＤ１３を検出可能範囲として持つ受光部１７を横切るときの幅Ｗからサブパターン２１を特定し、横切る位置Ｐから回転板１１の角度を判断することができる。 - 特許庁 - In an optical processing machine for optically processing a matter to be processed optically by illuminating a pattern on a mask with a luminous flux from a light source means and projecting the pattern on the mask onto the matter to be processed with a projection lens, the mask utilizes phase shift.
光源手段からの光束でマスク上のパターンを照明し、該マスク上のパターンを投影レンズで加工物上に投影して該加工物を光加工する光加工機において該マスクは位相シフトを利用していること。 - 特許庁 - The face pattern detection means 5 assigns the face image region into the visible light image data Pv corresponding to the data region and detects whether or not the image data in the face image region correspond to the face pattern of the person.
顔パターン検出手段５は、このデータ領域に対応して可視光画像データＰｖ中に顔画像領域を割り当てるとともに、この顔画像領域の画像データが人物の顔パターンに相当するか否かを検出する。 - 特許庁 - A white LED of small dispersion in color and uniform light emitting pattern can be obtained because the pattern shape of a fluorescent material layer corresponds to that of the electrode 2a and the far field image and the near field image.
蛍光体層のパターン形状が電極２ａのパターン形状に対応しており、上記遠視野像や近視野像に対応するため、色ばらつきが小さく、かつ発光パターンも均一な白色ＬＥＤを得ることが可能となる。 - 特許庁 - In the photomask for near field exposure having a transparent base material and a light shielding body having an aperture constituting the mask pattern on the base material with the aperture width made equal to or smaller than the wavelength of the light source, the light shielding body is constituted to have a thickness to give a desired intensity of light directly under the aperture in consideration of the relationship with the width of the aperture in the light shielding body.
透明な母材と、該母材上にマスクパターンを構成する開口部の開口幅が光源波長以下に形成された遮光体を有する近接場光露光用のフォトマスクにおいて、前記遮光体は、その厚さが前記遮光体の開口部の開口幅との関係において該開口部直下で所望の光強度を与える厚さに構成する。 - 特許庁 - A solid waveguide comprises opposite TIR surfaces further comprising: (a) at least one light input surface for coupling light from a solid state light source; (b) at least one mixing section; (c) at least one light emitting surface; and (d) a desired pattern of light redirecting features located on one TIR surface or between the TIR surfaces.
本発明の固体導波路は、対向するＴＩＲ面を備える固体導波路であって、ａ）半導体光源からの光を結合するための少なくとも１つの光入力面、ｂ）少なくとも１つの混合部、ｃ）少なくとも１つの発光面、及びｄ）１つのＴＩＲ面上又はＴＩＲ面間に位置する所望パターンの光方向転換特徴をさらに備える。 - 特許庁 - The first feature is described as follows: a surface of the hard disk media having a pattern formed thereon is irradiated with light containing a plurality of wavelengths; each intensity of reflected light detected in each wavelength is corrected with the intensity of the stray light component generated by a detector for detecting the reflected light from the hard disk media; and a spectral reflectance is calculated from the intensity of the corrected reflected light.
本発明は、パターンが形成されたハードディスクメディアの表面に複数の波長を含む光を照射し、波長毎に検出される反射光の強度を前記ハードディスクメディアからの反射光を検出する検出器に発生する迷光成分の強度で補正し、前記補正された反射光の強度から分光反射率を算出することを第１の特徴とする。 - 特許庁 - A defect repairing device for electronic components includes an ultrashort pulse laser light emitting device which suitably adjusts and emits ultrashort pulse laser light, a flexible mask pattern generator that forms the ultrashort pulse laser light emitted by the ultrashort pulse laser light emitting device into a prescribed shape, an optical system which converges the ultrashort pulse laser light, and a first stage where an electronic component to be repaired is mounted and positioned.
超短パルスレーザーを適宜調整して発生する超短パルスレーザー発生装置と、前記超短パルスレーザー発生装置から照射された超短パルスレーザーを所定の形状に成形するフレキシブル・マスク・パターン・ジェネレーターと、該超短パルスレーザーを集光する光学系と、修復すべき電子部品を載置して位置決めする第１のステージとを含む電子部品の欠陥修復装置。 - 特許庁 - A system and method for inserting an intraocular lens in a patient's eye includes a light source for generating a light beam, a scanner for deflecting the light beam to form an enclosed treatment pattern that includes an registration feature, and a delivery system for delivering the enclosed treatment pattern to target tissue in the patient's eye to form an enclosed incision therein having the registration feature.
患者の眼に眼内レンズを挿入するためのシステム及び方法は、光ビームを発生させるための光源と、光ビームを偏向させて、位置合わせ特徴部を含む封入治療パターンを形成するためのスキャナと、患者の眼のターゲット組織へ封入治療パターンを送出して、そこに位置合わせ特徴部を有する封入切開部を形成するための送出システムとを含む。 - 特許庁 - The anti-counterfeit medium characteristically includes, at least a pattern-like light reflection layer 13 and a phase difference layer 14 to partly or entirely cover the pattern-like light reflection layer, on the multi-layered thin film layer 18 provided on one side of the base material 11, which causes color change in accordance with the visual observation angle under the irradiation of visible light.
基材１１の一方の面側に設けられている、可視光線の照射下で目視角度に対応して色変化が生じる多層薄膜層１８の上に、少なくともパターン状光反射層１３が設けられ、さらにそのパターン状光反射層の一部もしくは全面を覆うように位相差層１４が設けられていることを特徴とする偽造防止媒体。 - 特許庁 - To provide a computer-readable recording medium recording a program for making a computer execute a method of determining a pattern of a mask and an effective light source distribution with which the mask is illuminated, both of which are used for an exposure apparatus including an illumination optical system which illuminates a mask with light from a light source and a projection optical system which projects a pattern of the mask onto a substrate.
光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられるマスクのパターンとマスクを照明する際の有効光源分布とを決定する決定方法をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータで読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁 - In a light source device 1A comprising a semiconductor light- emitting element 4 of InGaAl, InGaAlN, InGaN, and GaN, the semiconductor light-emitting element 4 is transparent which is bonded and fitted on a reflective pattern 2a (and/or an electric-wiring pattern) with a transparent resin 3 where a wavelength conversion material is mixed.
ＩｎＧａＡｌやＩｎＧａＡｌＮやＩｎＧａＮおよびＧａＮ系の半導体発光素子４を有する光源装置１Ａにおいて、半導体発光素子４が透明性を有し、半導体発光素子４を載置する反射性を有したパターン２ａ上（または／および電気配線パターン上）に波長変換材料を混入した透明樹脂３によって半導体発光素子４を接着固定する。 - 特許庁 - When exposure light is radiated on a wafer through a photomask and a semiconductor device is formed on the wafer, first, a mask pattern is formed on the photomask in which pattern with a plurality of optical shielding units capable of shielding the exposure light are installed and arranged in such a manner that transmittance to the exposure light is monotonously decreased or increased from the center to an arbitrary end.
ウェーハにフォトマスクを介して露光光を露光することにより半導体装置をウェーハ上に形成する際に、まず、露光光を遮光することが可能である複数の遮光部を有し中心から任意の縁部まで露光光に対する透過率が単調に減少あるいは単調に増加するように遮光部を配置したマスクパターンをフォトマスク上に形成する。 - 特許庁 - The polarized light separating element is constituted such that a rugged pattern 2 constituting the diffraction grating is formed on the surface of a base material 1 made of material having light transmissivity in the usage wavelength range and at least two or more surfaces of protruded parts 3 of the rugged pattern 2 are covered with a film 4 made of material comprising a metal or a metal compound.
使用波長範囲において光透過性を有する材料より成る基材１の表面に、回折格子を構成する凹凸パターン２が設けられ、この凹凸パターン２の凸部３の少なくとも２つ以上の面が、金属或いは金属化合物より成る材料膜４で被覆されて成る構成とする。 - 特許庁 - This living body imaging device is provided with: an irradiation means for irradiating a living body presented to a prescribed position; and a plurality of imaging means having at least imaging lenses and imaging elements for imaging the blood vessel pattern of the living body on which near-infrared rays of light have been reflected or the blood vessel pattern of the living body which has transmitted the near-infrared rays of light.
所定の位置に差し出された生体に近赤外光を照射する照射手段と、少なくとも撮像レンズ及び撮像素子を有し、近赤外光が反射した生体の血管パターン、若しくは近赤外光が透過した生体の血管パターンを撮像する複数の撮像手段と、を備えたこと。 - 特許庁 - A laser lithography equipment comprises a mask 2 having a pattern, laser light source 52 for writing from which laser light for lithography is irradiated on the mask 2, projection optical system 4 for imaging and projecting a pattern image of the mask 2 on a substrate 65 for wiring, substrate holding and moving mechanism 66 for holding and moving the substrate 65 for lithography, and control system 5.
パタンを有するマスク２と、マスク２を描画用レーザ光により照明する描画用レーザ光源５２と、マスク２のパタン像を描画用基板６５に結像投影する投影光学系４と、描画用基板６５を保持し、描画用基板６５を移動させる基板保持移動機構６６と、制御システム５とを備える。 - 特許庁 - And the optical axis of the test pattern irradiating part 21 is made un-parallel to a straight line orthogonal to the light receiving surface of the imaging element 28, and the optical axis of the part 21 is inclined so that the axis may pass from one of boundary lines constituting the viewing angle θ_1 of the imaging element 28 to the other as the laser light 25a of the test pattern goes ahead.
そして、テストパターン照射部２１の光軸は、撮像素子２８の受光面に直交する直線に対して非平行にされ、テストパターンのレーザー光２５ａが進むに従って撮像素子２８の画角θ_１をなす一方の境界線から他方の境界線に通過するように傾斜される。 - 特許庁 - To provide a resist material which shows sufficient transparency when a light source at ≤160 nm wavelength, specifically F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used for the manufacture of a semiconductor device, which reduces a pattern dimension by flow baking, and which is easily controlled for the flow amount and a flow figure, and also to provide a method for forming a pattern in the resist material.
半導体デバイスの製造において、１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の光源使用時に十分な透過性を示し、且つフローベークでパターン寸法を小さくすることが可能で、フロー量、フロー形状が制御し易いレジスト材料及びそのパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - Pattern light is irradiated to a curved surface bent by press working of sheet metal (102), and a reflected image of the pattern light is converted into a power spectrum, through the use of a two-dimensional FFT (102-103) to extract coordinates of each peak value in the row direction and in the column direction of its low-frequency area by row units and by column units (105).
プレス加工により曲げ加工された曲面にパターン光を照射し（１０２）、そのパターン光の反射像を２次元ＦＦＴを用いてパワースペクトルに変換し（１０２〜１０３）、その低周波数域の行方向と列方向の各ピーク値の座標を行単位、列単位で抽出する（１０５）。 - 特許庁 - To solve problems on the technique for improving performances of microphotofabrication using far ultraviolet light, especially ArF excimer laser light of 193 nm wavelength, in particular, to provide a negative resist composition which avoids pattern collapse even in fine pattern formation and exhibits good resolution.
本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れがなく、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁 - In an LED light source device, an LED chip having positive and negative electrodes formed on the same plane thereof is mounted on a flexible substrate having a wiring pattern so that the electrodes face the wiring pattern, and a light-transmissible substrate having smaller flexibility than the flexible substrate is provided on the LED chip.
配線パターンを有する可撓性基板上に、同一面に正負の電極が形成されたＬＥＤチップが、前記電極が前記配線パターンに対向するように載置されており、前記ＬＥＤチップ上に前記可撓性基板よりも可撓性の小さい透光性基板を備えるＬＥＤ光源装置。 - 特許庁 - The light emitting device includes a body, a first electrode having a protruding pattern on the body, a second electrode electrically isolated from the first electrode on the body, a junction layer on the first electrode containing the protruding pattern, and a light emitting element on the junction layer.
本発明による発光装置は、胴体と、上記胴体の上に突出パターンを有する第１電極と、上記胴体の上に上記第１電極と電気的に分離された第２電極と、上記突出パターンを含む第１電極の上の接合層と、上記接合層の上の発光素子と、を含む。 - 特許庁 - In a hologram transfer sheet 1, a forgery prevention print layer 15 obtained by color pattern or pattern print for forgery prevention is provided on a hologram forming layer 13 by using print ink where wavelength conversion materials are mixed which emit color light of a specific wavelength when irradiated with exciting light of a specific wavelength.
本発明のホログラム転写シート１は、特定波長の励起光を照射することで、特定波長の色光を発光する波長変換材料を混合した印刷インキを用いて、ホログラム形成層１３に偽造防止用の彩紋またはパターン印刷による偽造防止印刷層１５を設けたことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a substrate with a metal pattern, which is capable of highly accurately processing the metal pattern by using laser light, capable of processing a metal thickness film by laser light of comparatively low power and allowed to be applied also to a flat panel display such as a plasma display, and to provide a substrate with a metal laminate.
レーザ光を用いて金属パターンを高精度に加工することができ、特に、比較的低パワーのレーザ光で金属厚膜を加工することができ、プラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイにも応用可能な金属パターン付き基板の製造方法及び金属積層体付き基板を提供する。 - 特許庁 - The optical sheet is for making a light entering the incident surface inside propagate, and emit the light from an emission surface includes: a prism pattern including a plurality of prism rows formed on the incident surface; and a plurality of projections which are nano-order projections, provided over the whole surface or a part of a surface forming the prism pattern.
射面に入射された光を内部で伝搬させ、出射面から出射する光学シートであって、前記入射面に形成された複数のプリズム列からなるプリズムパターンと、ナノオーダーの凸部であって、前記プリズムパターンを形成する面の全面または一部に設けられた複数の凸部とを備える光学シート。 - 特許庁 - The irradiation unit 14 of the proximity scanning exposure apparatus 1 branches an exposure beam EL emitted from a light source 41 into two directions on a reflection unit 46, 47, so that a first pattern P1 and a second pattern P2 formed in a single mask M are irradiated with the light, respectively, in different directions from each other to expose a substrate W.
近接走査露光装置１の照射部１４は、光源４１から照射された露光用光ＥＬを反射部４６、４７で２方向に分岐させ、それぞれ異なる２方向から、１枚のマスクＭに形成された第１のパターンＰ１、及び第２のパターンＰ２に照射して基板Ｗを露光する。 - 特許庁 - To provide a sufficient optical transmission capability and sufficiently high pattern forming accuracy in a method for producing an optical waveguide to form a pattern of the optical waveguide by means of photolithography in which predetermined parts of a photosensitive resin layer are irradiated with light and then the parts which are not irradiated with light are removed by a developing solution.
感光性を有する樹脂層の所定箇所に光照射した後に光照射されていない箇所を現像液で除去するフォトリソグラフィーにより光導波路のパターンを形成する光導波路の製造方法において、十分な光伝送能力及び十分に高いパターン形成精度を提供する。 - 特許庁 - The output value of a light receiving element obtained by irradiation with light when a reflection object is not in the detection area of the optical sensor, is deducted from the output voltage of the optical sensor when the toner patches of the gradation pattern are detected, to remove a crosstalk voltage component from the output voltage of the optical sensor when the toner patches of the gradation pattern are detected.
階調パターンのトナーパッチを検知したときの光学センサの出力電圧から、光学センサの検知領域に反射物がないときに、光を照射して得られた受光素子の出力値を差し引き、階調パターンのトナーパッチを検知したときの光学センサの出力電圧から、クロストーク電圧成分を除去する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition for exposure by x-ray, electron beam or EUV light that is excellent in pattern collapse margin and bridge margin with no residue of a resist composition on a substrate and excellent in resistance to scattered (flare) light, and a resist film and a pattern forming method using the composition.
パターン倒れマージンやブリッジマージンに優れ、かつ基板上にレジスト組成物の残渣が残らず、更には散乱（フレア）光に対する耐性に優れた、Ｘ線、電子線又はＥＵＶ光露光用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - When performing communication processing through a communication unit 2, in the case of arrival and reception processing, light emitting units 4 are emitted in such a pattern as to sequentially emit them in a direction sequentially closely to a sub display unit 32 and in the case of origination and transmission processing, the light emitting units 4 are emitted in such a pattern as to sequentially emit them in a direction away from the sub display unit 32.
通信部２により通信処理を行う際に、着・受信処理の場合には発光部４を副表示部３２に近づく方向に順次発光するパターンで発光させ、発・送信処理の場合には発光部４を副表示部３２から遠ざかる方向に順次発光するパターンで発光させる。 - 特許庁 - A substrate in which a plurality of light-emitting elements have been formed, a sealing member positioned on the substrate so as to oppose to one face of the substrate in which the light-emitting elements are formed, and a frit pattern to paste together the substrate and the sealing member are included, and laser is irradiated to the frit pattern and fused along at least 2 courses or more.
複数の発光素子が形成された基板と、前記発光素子が形成された基板の一面に対向するように前記基板上に位置する封止部材と、前記基板及び封止部材を貼り合わせるフリットパターンを含み、前記フリットパターンは少なくとも２以上の経路に沿ってレーザが照射されて溶融される。 - 特許庁 - A heat dissipation block 22 that the light-emitting diode 20 has is connected to a pattern 27 for heat dissipation or pattern 26 for electric conduction of a wiring board 21 through a heat conduction portion 30, and heat of the light-emitting diode 20 is conducted to the wiring board 21 through the heat conduction portion 30 to be dissipated from the wiring board 21.
発光ダイオード２０が備える放熱ブロック２２を、熱伝導部３０を介して配線基板２１の放熱用パターン２７または電気導通用パターン２６に接続し、発光ダイオード２０の熱を熱伝導部３０を介して配線基板２１に伝導して配線基板２１から放熱させる。 - 特許庁 - Near a non-transmission conductive pattern (source wiring 12, etc.), a light-shielding layer 42 is disposed in at least part of a conductive pattern that may cause light leakage as viewed from front, due to orientation failure of the liquid crystals 50 when black is displayed, and having an eave 43 covering it and projecting as viewed from above.
非透過性の導電パターン（ソース配線１２等）の近傍において、黒表示の際に液晶５０の配向不良により正面視において光漏れが生じる導電パターンの少なくとも一部に、平面視上、これを覆い、かつ、突出する庇４３を有する遮光層４２が配設されている。 - 特許庁 - A plurality of visible light rays are convergently radiated, and while confirming pattern of light formed on the surface of the object through visual observation, the position of the object is adjusted so that the pattern converges into one point or a certain form, thus making it possible to hold constant the distance between the indicator and the object.
複数の可視光線を収束させるように放射して、対象物の表面に形成した光のパターンを目視で確認しながら、そのパターンが一つの点あるいは一定の形になるように対象物の位置を調節することで、対象物との距離を一定に保つことを可能ならしめた。 - 特許庁 - To provide a halftone phase shift mask which need not form a superfine pattern, suppresses a sub peak of light intensity exerting adverse influence on image formation at the time of exposure and has a light shielding pattern of lowered transmissivity in an outside region of an element region where multiple exposure is applied and to provide a manufacturing method of the halftone phase shift mask.
超微細なパターンの形成を必要とせず、露光時の像形成に悪影響を及ぼす光強度のサブピークを抑え、かつ、素子領域の外側の多重露光される領域での透過率を下げた遮光パターンを有するハーフトーン位相シフトマスク及びハーフトーン位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁 - To solve the problems of the performance improving technique of microphotofabrication using far-ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light of 193 nm wavelength, specifically to provide a negative resist composition which, even in fine pattern formation, avoids pattern collapse and exhibits good resolution.
本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れがなく、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁 - At least one pair of separated finger placing bases are provided toward the recessed part, a sensor detecting the finger vein pattern is provided in a separation part, and a light irradiation means irradiating light rays toward the finger set onto the pair of the finger placing bases and a position detection means of the finger vein pattern are provided inside the operation panel.
該凹部に向けて離間された少なくとも一対の指置台および離間部に指静脈パターンを検知するセンサを設け、前記一対の指置台にセットされる指に向けて光線を照射する光照射手段および指静脈パターンの位置検知手段を前記操作盤の内部に設ける。 - 特許庁 - In the photomask plate 1 having a mask pattern 6 of a desired figure consisting of a light shielding film 5 on a transparent substrate, a recessed portion 4 giving the figure of the mask pattern 6 is formed on the surface of the transparent substrate 2, and the light shielding film 5 is formed in the recessed portion 4 but not protruding from the surface of the transparent substrate 2.
透明基板２に遮光膜５からなる所望の形状のマスクパターン６が形成されたフォトマスク版１において、前記透明基板２の表面にマスクパターン６の形状をなす凹部４を形成し、該凹部４内に、前記遮光膜５を前記透明基板２の表面に突出しないようにして形成する。 - 特許庁 - To obtain a translucent decorative material A that does not expose a color pattern in the surface side and the appearance of a normal woody decorative material is presented when there is no light from the backside, and when the light is hit from the backside, the color pattern 7 together with a wood grain make a sudden change and appears to the surface clearly and distinctly.
裏側から光がないときには、色柄が表面側に露呈させず、通常の木質化粧材の外観を呈する一方、裏側から光が当たったときには、一転、木目と共に色柄７が表面に明確にかつ鮮明に現出する透光性化粧材Ａが得られるようにする。 - 特許庁 - Therefore, with the projector type headlight 10, the second reflecting face that hitherto caused conventional defects can be eliminated to form the overhead light distribution pattern P2 only by a structure of the shade 14, so that a stable overhead light distribution pattern P2 can be obtained in a simple structure.
したがって、本発明のプロジェクター型ヘッドランプ１０によれば、従来の欠点を引き起こす原因となっていた第２反射面を無くすことができ、シェード１４だけの構成によってオーバーヘッド用配光パターンＰ２を形成できるので、簡単な構成となり安定したオーバーヘッド用配光パターンＰ２を得ることができる。 - 特許庁 - The pattern drawing device 1 uses a plurality of low-output short arc lamps for the light source, and beams from the plurality of light sources in the lamp house 6 are combined into a single path by the bundle fiber 41 and are guided to the drawing heads 40, which simplifies the device structure and results in an inexpensive pattern drawing device.
パターン描画装置１では、光源に複数の小出力ショートアークランプを使用し、ランプハウス６内の複数の光源からの光をバンドルファイバ４１により１つの経路に合成して描画ヘッド４０に光を導くことで、装置構造を簡素化して安価なパターン描画装置を提供することができる。 - 特許庁 - When stably printing a light diffusion pattern by using ultraviolet curing ink, a minimum diameter of a minimum unit of the light diffusion pattern (for example, a dot) can be made smaller than the case when using solvent ink, and a dot diameter of minimum dot can be made less than 0.2 mm, and further, less than 0.15 mm.
本発明者は、紫外線硬化型インキを用いて光拡散パターンを工業的に安定に印刷した場合、当該光拡散パターンの最小単位（例えば、ドット）の最小径を、溶剤型インキを用いた場合よりも小さくでき、最小ドットのドット径を０．２ｍｍ未満、さらには０．１５ｍｍ未満にできることを発見した。 - 特許庁 - The transparent common electrode 15 is arranged so as to be superposed on the conductive pattern on the liquid crystal side with respect to the conductive pattern disposed so as to be superposed on the light-shielding layer 42 with the eave 43, and so as to project beyond the light-shielding layer 42 with the eave 43, as viewed from above.
庇４３を有する遮光層４２と重畳するように配置された導電パターンに対し、当該導電パターンと前記液晶側で重畳するように配置され、かつ、庇４３を有する遮光層４２よりも、平面視において突出するように透明コモン電極１５が配設されている。 - 特許庁 - To effectively cancel particularly a portion of DC offset and to avoid deviation accompanying distortion of distribution of light in the length direction of a pattern when return light is incident obliquely with respect to the direction of the detection pattern of an optical detector, when obtaining a tracking error signal by a push and pull method in an optical disk device.
光ディスク装置において、プッシュプル法でトラッキングエラー信号を得る際に、とくに直流オフセット分を有効にキャンセルするとともに、光検出器の検出パターン方向に対して斜めに戻り光が入射する場合におけるパターンの長さ方向における光の分布の歪みに伴う偏差を回避する。 - 特許庁 - The image forming apparatus is configured to detect a toner deposition amount on a toner pattern, by measuring a ratio of diffused-reflected light components at the toner-deposited part of the toner pattern formed on an intermediate transfer body 12 to regular-reflected light components at the base surface part of the intermediate transfer body 12 by an optical sensor 21.
中間転写体１２に形成されたトナーパターンのトナー付着部の拡散反射光成分と中間転写体１２の地肌部の正反射光成分との割合を光学センサ２１で測定することによってトナーパターンのトナー付着量を検出するように構成した画像形成装置におけるものである。 - 特許庁
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