「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 65 66 67 68 69 70 71 72 73 .... 141 142 次へ＞- To obtain a light distribution pattern suitable for a lighting device for a tunnel which has improved light distribution characteristics of the lighting device for a tunnel that uses an LED with a simple structure, using a simple constitution.
簡単な構成により、簡単な構造で、ＬＥＤを用いたトンネル用照明装置の配光特性を向上したトンネル用照明装置に適した配光パターンを得ることができるようにする。 - 特許庁 - To suppress a measuring error caused by a change in the spot position of reflection light occurring when making luminous flux impinge on a fine pattern having line width that is nearly the same as a light source wavelength on an object to be examined.
被検物上の光源波長と同程度の線幅を持つ微細パターンに光束を入射した場合に生じる、反射光のスポット位置変化に起因する測定誤差を抑制する。 - 特許庁 - The light intensity value near the gate edge of the gate pattern is calculated and the dimension shift quantity of the gate line width by a proximity effect is calculated in accordance with the light intensity value in a dimension shift quantity calculating section 605.
ゲートパタンのゲートエッジ近傍における光強度値を計算し、寸法シフト量計算部６０５で光強度値に基づいて近接効果によるゲート線幅の寸法シフト量を計算する。 - 特許庁 - The secondary pattern can be recognized only by an incident light of a low angle, and in the case where an angle of the incident light changes in the morning, the evening or the daytime, a decorative effect of the surface can be changed.
二次模様は、低角度の入射光によりのみ認識でき、朝、夕と日中とで入射光の角度が変わるような場合、表面の意匠状の効果を変化させることができる。 - 特許庁 - Therefore, interference fringes of iridescent hues do not appear in reflection type display which is carried out using light reflected by the light reflecting film 24 provided on the second uneven pattern 28.
従って、第２凹凸パターン２８の上に設けられた光反射膜２４で反射した光を用いて行われる反射型表示において虹色干渉縞が発生することを防止できる。 - 特許庁 - An arbitrary pattern which is formed on a wafer and for constituting the thin-film magnetic head is lightened, reflected light from the pattern is imaged to form an image, which is photoelectrically converted into an image signal, so that feature quantities of the pattern are obtained from the image signal.
ウェハ上に形成された、薄膜磁気ヘッドを構成するための任意のパターンを照明し、該パターンからの反射光を結像して画像を形成して、該画像を光電変換して画像信号に変換し、該画像信号から上記パターンの特徴量を求めるものである。 - 特許庁 - To provide a chemical amplification type positive photoresist composition having superior sensitivity and resolution, capable of giving a good section shape of a resist pattern and less susceptible to a light proximity effect, that is, ensuring a small size difference between an isolated resist pattern and a dense resist pattern.
感度、解像性が優れ、かつ良好なレジストパターン断面形状を与えることができるという特性に加えて、光近接効果による影響の少ない、すなわち孤立レジストパターンと密集レジストパターンのサイズの差が少ない化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - When the variation of the detected density of the first pattern is equal to or above a prescribed value, an image forming condition by the use of the dark color material and the light color material having the same hue in the image forming means is corrected based on the density of the first pattern and the density of the first pattern data.
検出した第１パターンの濃度の変動量が所定値以上の場合に、第１パターンの濃度と第１パターンデータの濃度とに基づいて、像形成手段における同一色相の濃の色材及び淡の色材による画像形成条件を補正する。 - 特許庁 - To provide an alkali-soluble polymer having a low curing shrinkage (high film remaining rate in curing), a photosensitive resin composition excellent in a pattern profile after curing, and a method for producing a cured relief pattern using the composition, and a semiconductor device and a light emitting device having the cured relief pattern.
硬化収縮が低い（硬化時残膜率が高い）アルカリ可溶性重合体、及びキュア後のパターン形状に優れた感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、並びに該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置及び発光装置の提供。 - 特許庁 - Then the buffer areas, to which a signal pattern for phase lock loop, automatic gain adjustment at data reproduction and for automatic adjustment of a light source power and a signal pattern used for detecting a synchronization pattern, production of a recovered clock and end of block reproduction are recorded, are used for various purposes.
そして、バッファエリアについては、データ再生時の位相同期ループや自動利得調整、光源パワーの自動調整用の信号パターンや、同期パターン、再生クロックの生成、ブロック再生終了の検出等に用いる信号パターンを記録することで各種の目的に利用できるようにした。 - 特許庁 - In a loop processing including detection of wavefront distortion of light by the wavefront detector 60, phase pattern adjustment by the controller 70 based on this detection result, and the presentation of the phase pattern by the wavefront modulator 30, the compensation phase pattern for compensating wavefront aberration is feedback-controlled.
波面検出部６０による光の波面歪みの検出と、この検出結果に基づく制御部７０による位相パターンの調整と、波面変調部３０による位相パターンの呈示と、を含むループ処理において、波面収差補償を行う為の補償用位相パターンはフィードバック制御される。 - 特許庁 - The photomask has a plurality of mutually independent light shielding patterns provided to a transparent substrate and a connection pattern which electrically connects them, and the connection pattern has such a width that the pattern is not transferred in a photolithography stage, and is transparent.
本発明のフォトマスクは、透明基板に設けられている相互に独立した複数の遮光パターンと、これらの遮光パターン間を電気的に接続する接続パターンを有し、前記接続パターンは、フォトリソグラフィ工程で転写されない幅であり、かつ半透明であることを特徴とする。 - 特許庁 - A cutoff line position determination part 54 determines a horizontal position of the non-perpendicular cutoff line so that a whole luminous distribution pattern formed by superimposing the right side luminous distribution pattern and the left side luminous distribution pattern, have a light-shielding region which coincides with the vehicle position detected by the vehicle position detecting part 52.
カットオフライン位置決定部５４は、右側配光パターンと左側配光パターンとを重ね合わせた全体配光パターンが、車両位置検出部５２により検出される車両位置に合わせた遮光領域を有するように、非垂直カットオフラインの水平方向位置を決定する。 - 特許庁 - The processing method includes a basic shape forming step of forming a recess pattern smaller in depth than a recess shape on a surface of a workpiece; and a shape growth step of irradiating the recess pattern with laser light which has a beam diameter larger than a width of the recess pattern so as to process the recess shape.
被加工物表面に前記凹形状よりも深さが浅い凹形パターンを形成する基本形状形成工程と、前記凹形パターンの幅よりも大きいビーム径のレーザ光を、前記凹形パターンに照射して、凹形状を加工する形状成長工程とを有する。 - 特許庁 - In a master pattern creation method of an embodiment, an oblique incidence effect measuring pattern used to measure an oblique incidence effect of incident light made incident on a reflective mask is formed on the reflective mask for pattern transfer used for an exposure device including a reflection type optical system.
実施形態のマスクパターン作成方法では、反射型光学系を備えた露光装置に用いられるパターン転写用の反射型マスクに、前記反射型マスクへ入射する入射光の斜入射効果の測定に用いられる斜入射効果測定用パターンを形成する。 - 特許庁 - The film pattern consists of an opening-restricting film pattern for restricting the opening for laser beams of two wavelengths in accordance with the difference in the transmissivities and a rim strength correcting film pattern for reducing a transmitted light quantity, in an area including an ellipse major axis with respect to a laser beam of three wavelengths constituting the elliptic shape in the cross-sectional shape.
膜パターンは、２波長のレーザビームを透過率の違いで開口制限する開口制限用膜パターンと、断面形状が楕円形を成す３波長のレーザビームに対してその楕円長軸を含む領域での透過光量を低下させるリム強度補正用膜パターンと、から成る。 - 特許庁 - A prescribed pattern is transferred onto a semiconductor wafer by performing exposure by using a photomask 2 on which the most proximate light transmitting areas PA1 and PA2 in a pattern for forming a mask pattern are laid out in a direction in which the areas PA1 and PA2 are hardly affected by the aberration of the optical system of an aligner.
マスクパターンを形成するパターンであって最近接する光透過領域ＰＡ１，ＰＡ２を、露光装置の光学系の収差の影響を受け難い方向にレイアウトしたフォトマスク２を用いて露光処理を行い、半導体ウエハ上に所定のパターンを転写した。 - 特許庁 - A light emission device 71 anteroposteriorly overlying the pattern display device 30 has a plurality of block-like wiring pattern portions formed on the rear of a LED board 72 having LEDs 72a mounted on the surface, and resistors 72c are mounted so as to make a continuity with two block-like wiring pattern portions.
図柄表示装置３０と前後に重なる発光装置７１発光装置７１は、表面にＬＥＤ７２ａが実装されたＬＥＤ基板７２の裏面に、ブロック状の配線パターン部が複数形成されて、２つのブロック状の配線パターン部に導通するよう抵抗器７２ｃが実装される。 - 特許庁 - To improve a technique for setting a threshold applied to a pattern image in order to acquire three-dimensional information as to a technique for acquiring three-dimensional information on an object on the basis of a pattern image acquired by imaging the object onto which pattern light is projected.
パターン光が投影された対象物を撮像することによって取得されるパターン画像に基づき、対象物の３次元情報を取得する技術において、その３次元情報を取得するためにパターン画像に適用される閾値を設定する技術を改良する。 - 特許庁 - To provide a positive photoresist composition having an improving effect on a margin for exposure (particularly a margin for exposure through a repetitive pattern, a so-called dense pattern) in the production of a semiconductor device, that is, suppressing the variation of the line width of the isolated lines of a dense line pattern when light exposure amounts are varied.
半導体デバイスの製造において、露光マージン（特に繰り返しパターン、いわゆるdenseパターンの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、denseラインパターン孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - The photomask is provided with: first and second transparent substrates 1, 2; a light shielding pattern 3 embedded in a trench 8 formed on one of the surfaces of the first transparent substrate 1; and a phase shift pattern 4 composed of a trench pattern formed on one surface of the second transparent substrate 2.
フォトマスクは、第１と第２透明基板１，２と、第１透明基板１の一方の表面に形成されたトレンチ８内に埋設される遮光パターン３と、第２透明基板２の一方の表面に形成されたトレンチパターンで構成される位相シフトパターン４とを備える。 - 特許庁 - The notice device picks up the emitted alarm sound, extracts the processing ID from the alarm sound, specifies an operation pattern stored on an operation pattern specifying table, in association with the extracted processing ID, and operates a light-emitting section or an oscillating section, in accordance with the specified operation pattern.
報知装置は、放音されたアラーム音を収音し、そのアラーム音から処理ＩＤを抽出した後、抽出した処理ＩＤと対応付けて動作パターン特定テーブルに記憶されている動作パターンを特定し、特定した動作パターンに従って発光部又は振動部を動作させる。 - 特許庁 - This molded pulp product is colored to one or more colors by adding pattern-forming components in a papermaking, dehydrating or drying step, and has a light and dark pattern of colors based on heterogeneously dispersed colored pattern-forming components on the surface.
抄紙、脱水又は乾燥工程において模様形成成分が添加されることで１色又は２色以上に着色され、着色された該模様形成成分が不均一に分散されて該模様形成成分に基づく色の濃淡模様を表面に有するパルプモールド成形体。 - 特許庁 - Light collected by an imaging lens 6 is divided into two frequency regions by a reflecting prism 7, and the position lattice pattern is image picked up by a CCD sensor 10, and the measuring lattice pattern is image picked up by a CCD sensor 14.
撮像レンズ６で集光された光は、反射プリズム７で２つの周波数領域に振り分けられ、位置格子パターンはＣＣＤセンサ１０で撮像され、測定格子パターンはＣＣＤセンサ１４で撮像される。 - 特許庁 - Blightness in a left side end part of a low-beam light distribution pattern P(L) formed by beam emission from a headlamp unit is intensified by the auxiliary luminous intensity distribution pattern Pa formed by the beam emission from the auxiliary lamp unit.
前照灯ユニットからのビーム照射により形成されるロービーム配光パターンＰ（Ｌ）の左側端部の明るさを、補助灯具ユニットからのビーム照射により形成される補助配光パターンＰａで補強する。 - 特許庁 - To prevent a misregistration and transformation of a transferred image (distortion of a pattern width) and the like arising from the direction of a mask pattern even if extremely short ultraviolet light is obliquely incident upon a reflection type mask in lithography.
リソグラフィ工程において、極短紫外光が反射型マスクに対して斜め入射する場合であっても、マスクパターンの方位によって生じる転写像の位置ずれや変形（パターン幅の歪み）等の発生を回避する。 - 特許庁 - To provide an imaging system for always providing an optimum quality of a vein pattern, in imaging a vein pattern of a finger using transmitted light, without being affected by a difference, if any, in an external environment.
透過光による指静脈パターンの撮像において、外部環境の違いがあっても、それに影響されることなく、常に最適な静脈パターンの品質が得られる撮像方式を提供することにある。 - 特許庁 - Since an open area ratio of the mesh pattern can be arbitrarily set, electromagnetic-wave shielding and light transmitting properties can be both realized and openings of the mesh pattern can be associated with pixels to hold a clear image.
メッシュパターンの開口率を任意に設定することができるので、電磁波シールド性と光透過性とを両立させることができるとともに、メッシュパターンの孔を画素に対応させることにより鮮明な画像が保持される。 - 特許庁 - To provide a method for forming a rugged pattern and a method for manufacturing an optical element by which a fine rugged resist pattern with high aspect ratio is formed only by light irradiation by making an etching process unnecessary.
エッチング工程を不要として、光照射のみでアスペクト比の高い微細な凹凸状のレジストパターンを形成することができる凹凸状パターンの形成方法、及び光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - (2) In the formation of the resist pattern by using the direct resist writing method, the resist pattern is formed by irradiating photosensitive resist ink with ultraviolet rays or visible light rays immediately after the ink is separated from a photosensitive resist ink discharge opening.
（２）レジスト直描方式によるレジストパターン形成において、感光性レジストインクが、感光性レジストインク吐出口より離れた直後に紫外線または可視光線に照射され、レジストパターンが形成される。 - 特許庁 - The light shielding means has a first barrier pattern having barrier openings formed in a first direction to the pixels and a second barrier pattern having barrier openings formed in a second direction orthogonal to the first direction.
遮光手段は、画素に対する第１の方向に沿ってバリア開口が形成される第１のバリアパターンと、第１の方向と直交する第２の方向に沿ってバリア開口が形成される第２のバリアパターンと、を有する。 - 特許庁 - In the flexible substrate 3, a wiring pattern 5 electrically connected to the respective LED chips 2 is enlarged so as to have an area larger than a projected area of the LED chips 2, and functions as a light shielding pattern.
フレキシブル基板３においては、各ＬＥＤチップ２に電気的に接続される配線パターン５がＬＥＤチップ２の投影面積以上の面積を有するように拡大されており、遮光パターンとして機能する。 - 特許庁 - For example, when a dry film resist 60 is negative, the pattern of the light transmissive region 201a of the mask 201 corresponds to only part of a (designed) prescribed pattern of the dry film resist 60 to be left after exposure and development.
例えば、ドライフィルムレジスト６０がネガ型の場合、マスク２０１の透光部２０１ａのパターンは、露光現像後に残存させるべき（設計上の）ドライフィルムレジスト６０の所定パターンの一部のみに対応する。 - 特許庁 - To provide a black curable composition that enables a light shielding color filter for a solid state imaging device to be formed, in which a pattern is formed even at low exposure dose or suppressing pattern defects even when the composition contains a high concentration of inorganic pigment.
無機顔料を高濃度で含有しても、低露光量でもパターン形成ができ、パターン欠損を抑制した固体撮像素子用遮光性カラーフィルタを形成可能な黒色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁 - Next, a resist pattern 5 is irradiated with ultraviolet light to generate acid, heated to cause the resin component to react with the cross-linking agent by acid action and to cause a hardened layer 6 to be formed on at least a surface layer 4 of the resist pattern 2.
次に、レジストパターン５に紫外光を照射して酸を発生させ、加熱して、酸の作用下で樹脂成分と架橋剤とを反応させ、レジストパターン２の少なくとも表層部４に硬化層６を形成する。 - 特許庁 - To provide an optical sensor that prevents a reduction in detection accuracy of a fluorescent emission pattern of paper sheets, which is caused by contamination of an optical filter arranged on the front face of a light receiving part to detect the fluorescent emission pattern.
紙葉類の蛍光発光パターンを検出するために受光部の前面に配置した光学フィルタの汚れによる当該蛍光発光パターンの検出精度の低下が抑えられる光学センサを提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a template having a fine pattern for forming a photo-curing resin, equipped with light transmittance, mold release characteristics, durability, mechanical strength and shape stability and also including dimensional precision of the fine pattern.
光透過性、離型性、耐久性、機械的強度、形状安定性を備え、かつ微細パターンの寸法精度を備える、光硬化性樹脂を成形するための微細パターンを有するテンプレートの製造方法の提供。 - 特許庁 - To form a fine pattern with a high aspect ratio by applying a layer which absorbs light to convert into heat on the lower and upper faces of a resist and processing the resist by heat when a fine pattern is formed on the objective substrate.
被処理基板上に微細パターンを加工する際に、レジストの下面および上面に光吸収熱変換層を配し、熱によるレジストの加工を行うことで高アスペクト比の微細パターン加工を可能とする。 - 特許庁 - The photocurable composition can be applied on a front glass base plate, light-exposed to get a certain pattern, developed, and burned to form the black layer of a bus electrode in a PDP and the black pattern of a black matrix.
このような光硬化性組成物を前面ガラス基板上に塗布し、所定のパターンに露光し、現像、焼成することにより、ＰＤＰにおけるバス電極の黒層やブラックマトリックスの黒色パターンが形成される。 - 特許庁 - The grating pattern image is photographed at every moving interval moving the measured object 36 with a specific interval in the light axis direction and the depth of the hole 36a of the measured object 36 is measured based on the contrast of the grating pattern image.
そして、被測定物３６を光軸方向に所定間隔で移動しながら移動間隔毎に格子パターン像を撮像し、格子パターン像のコントラストに基づいて被測定物３６の穴３６の深さを測定する。 - 特許庁 - If the material for the insulation layer is set as light-transmissive resin, the semiconductor chip is able to have a wiring pattern formed, while optically positioning faces up through photolithography, and the bump arrays and wiring pattern can be positioned with high accuracy.
絶縁層の材料を光透過性樹脂とすれば、半導体チップは表向きで、フォトリソ法で光学的に位置合わせしながら配線パターンを形成でき、バンプアレイと配線パターンとの高精度な位置合わせができる。 - 特許庁 - A subfield output pattern is generated which does not have a plurality of independent light output periods in the time width of one frame and the PWM driving is performed with the subfield output pattern.
１フレームとされる時間幅内において複数の独立した光出力期間が存在しないようにされたサブフィールド出力パターンを形成し、このサブフィールド出力パターンによってＰＷＭ駆動を行うようにされる。 - 特許庁 - Areas selected at random out of many dot pattern areas 36 arrayed in an X direction and a Y direction by the size of a width (b) × the width (a) on an original plate pattern 35 are set to be light-shielded dots 37A-37E.
原版パターン３５上に幅ｂ×幅ａでＸ方向、及びＹ方向に多数配列されたドットパターン領域３６の内からランダムに選択された領域を遮光ドット３７Ａ〜３７Ｅとしておく。 - 特許庁 - In the position detection means 120, a pattern 122 to be detected is provided on a second housing 33, and an optical type detection part 123 for detecting a reflection light of the pattern 122 to be detected is provided on an output rod 34.
位置検出手段１２０は、第２ハウジング３３に被検出パターン１２２が設けられ、出力ロッド３４に被検出パターン１２２の反射光を検出する光学式検出部１２３が設けられている。 - 特許庁 - To provide a polymer for a photoresist having high transmittance, etching resistance, thermal resistance, adhesiveness and low light absorbance, and high affinity for a developer in order to obtain a pattern improved of LFR (line edge roughness), and to provide a photoresist composition including the polymer, and a method for forming a pattern by using the composition.
ＬＥＲが改善されたパターンを得るため透過率、エッチング耐性、耐熱性、接着性及び低い光吸収度を有し、現像液に対する親和度の高いフォトレジスト用重合体を提供する。 - 特許庁 - To prevent a light-dark pattern caused by a pattern portion comprising wiring and circuit elements provided in a picture frame region from being projected near the edge of a display image in an electro-optical device such as a liquid crystal device.
液晶装置等の電気光学装置において、額縁領域に設けられた配線や回路素子からなるパターン部に起因した明暗パターンが表示画像の縁付近に映し出されることを防止する。 - 特許庁 - The image of the pattern of the known size generated by the reflection of the transmission light in the body is photographed by an image read means 3 as an image, and the resolution of the image is found using the image of the pattern as a reference.
透過光が物体で反射することにより生ずる寸法が既知の該パターンの像を画像取込み手段３により画像として撮影し、パターンの像を基準として、画像の分解能を求める。 - 特許庁 - To provide an imaging system for always providing optimum quality of a finger vein pattern, in imaging of the finger vein pattern by using transmitted light, even if there is difference in external environment, without being affected by the difference.
透過光による指静脈パターンの撮像において、外部環境の違いがあっても、それに影響されることなく、常に最適な静脈パターンの品質が得られる撮像方式を提供することにある。 - 特許庁 - Then the light emission control CPU 14 references a pattern table stored in a pattern table storage section 12 to set a high (H) or low (L) level of R, G, B pulses to an LED driver 19 by each division bit string (S2).
次に、発光制御ＣＰＵ１４は、パターンテーブル記憶部１２に記憶されたパターンテーブルを参照し、分割ビット列ごとにＲ，Ｇ，Ｂのパルスのハイ（Ｈ）又はロー（Ｌ）をＬＥＤドライバ１９に設定する（Ｓ２）。 - 特許庁 - To prevent a light-dark pattern due to a pattern portion consisting of the wiring and circuit element provided in a frame region from being projected near the edge of a display image in an electro-optical device such as a liquid crystal device.
液晶装置等の電気光学装置において、額縁領域に設けられた配線や回路素子からなるパターン部に起因した明暗パターンが表示画像の縁付近に映し出されることを防止する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
