「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 62 63 64 65 66 67 68 69 70 .... 141 142 次へ＞- The display optical filter employs the optical sheet which includes: a transparent material 110 (transparent film); a light absorption pattern 120 formed on one side of the transparent material 110; and a flexible adhesion layer 130 formed on one side of the transparent material 110 (transparent film) in which the light absorption pattern 120 has been formed.
透明基材（透明フィルム）１１０と、透明基材（透明フィルム）１１０の一面に形成された光吸収パターン１２０と、光吸収パターン１２０が形成された透明基材（透明フィルム）１１０の一面に形成される流動性粘着層１３０とを含む光学シートを用いる。 - 特許庁 - Afterwards, the transcription substrate and a substrate 14 are positioned by an alignment system 28, and the pattern of the organic light emitting layer 4a is transcribed by heating the surface of the transcription substrate 12 at the side that the pattern of the organic light emitting layer 4a is not formed, at a transcription part 23 by a heater 27.
その後、アライメント機構２８により転写基板と基板１４との位置合わせを行い、転写部２３にて転写基板１２を有機発光層４ａのパターンが形成された面と反対側の面からヒータ２７によって加熱して、基板１４上に有機発光層４ａのパターンを転写する。 - 特許庁 - The liquid crystal display device has a striped light shielding pattern 24 formed on a first substrate 18 and a plurality of colored layers 38 of different colors extending in parallel with a second straight line L_2 crossing a first straight line L_1 formed on the first substrate 18 and the light shielding pattern 24.
液晶表示装置は、第１の基板１８に形成されたストライプ状の遮光パターン２４と、第１の基板１８及び遮光パターン２４上に形成された第１の直線Ｌ_１に交差する第２の直線Ｌ_２に平行に延びる異なる色の複数の着色層３８と、を有する。 - 特許庁 - To provide an exposure device employing EUV light which prevents the deterioration of positional accuracy of a transfer pattern which is accompanied by the heating of a reticle or a wafer due to ultraviolet ray included in beams from a plasma light source, and which stably transfers a delicate pattern, and also to provide an exposure method employing the exposure device.
プラズマ光源からの光線に含まれる赤外線によるレチクルやウエハの加熱に伴う転写パターンの位置精度の低下を防止した、安定して微細なパターンの転写ができるＥＵＶ光を用いた露光装置、および当該露光装置を用いた露光方法を提供する。 - 特許庁 - A first auxiliary reflection surface 16 and a second auxiliary reflection surface 17 for forming parts P3, P4 except for a part P1 on a front side of a light distribution pattern LP3 are provided in an area 14 of a second reflection surface 12 for mainly forming the part P1 on the front side of the light distribution pattern LP3.
配光パターンＬＰ３の手前側の部分Ｐ１を主に形成する第２反射面１２のエリア１４に、配光パターンＬＰ３の手前側の部分Ｐ１以外の部分Ｐ３、Ｐ４を形成する第１補助反射面１６、第２補助反射面１７を設ける。 - 特許庁 - The exposure mask 56A is formed, in such a way that a light-shielding pattern 55, placed on regions KO, K1 with higher heat capacity has a larger shape, has lower distribution density, or has a larger shape and lower distribution density, as compared with a light-shielding pattern 55 placed on a region K2 with lower heat capacity.
この露光マスク５６Ａは熱容量が大きい領域Ｋ０，Ｋ１に置かれる遮光パターン５５が、熱容量が小さい領域Ｋ２に置かれる遮光パターン５５に比べて、形状が大きいか、配置密度が小さいか、形状が大きく且つ配置密度が小さいか、のいずれかに形成される。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus making visually recognizing a light and shade pattern generated in a partly overlapping region impossible by forming periodically the light and shade pattern in the image forming apparatus for forming an image while having the partly overlapping region in a plurality of laser exposing parts.
複数のレーザ露光部で、一部重複域を有しつつ画像を形成する画像形成装置において、一部重複域に生じる濃淡パターンを周期的に生成することにより視認不可とする画像形成装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁 - At least one of the pattern image indicated by the first image light and the pattern image indicated by the second image light is an image (AI) which indicates the position of each adjustment candidate point by a graphic within the range of a predetermined distance from an adjustment candidate point for correcting the relative deviation in the images.
パターン画像の内、第１の画像光が示す画像と第２の画像光が示す画像との内の少なくとも一つは、画像の相対ずれを補正する調整候補点から所定の距離の範囲内の図形により各調整候補点の位置を示す画像（ＡＩ）である。 - 特許庁 - The lighting method includes irradiating the illuminating light of the point-like lighting source 5 on the surface 3 of a transparent body 6, on which many inclined plane parts 1 are formed, in a predetermined pattern, and to make a geometric light pattern on the transparent body 6 by refraction.
また、傾斜平面部１の多数が表面３に所定パターンで成形された透光体６の前記表面３に対して点状光源５の照明光を照射し、透光体６に屈折により幾何学的な光模様をつくって照明方法を構成する。 - 特許庁 - The light-reflecting layer 222 is formed in an image pattern state, and because techniques for forming the light-reflecting layer 222 in an image pattern state are different from techniques for forming an OVD layer, the magnetic recording medium using both of the techniques is extremely difficult for alteration and counterfeit.
光反射層２２２は画像パターン状に設けられており、このような画像パターン状光反射層２２２の形成技術は、ＯＶＤ層形成技術とは異なる技術であるため、これら両技術を併用した磁気記録媒体は、その改竄・偽造が極めて困難となる。 - 特許庁 - The distance to the article existing in the observation area is measured with principle of triangulation based on the irradiation direction of each dot pattern light on the picked-up image of the camera 20, the picking-up direction of each dot pattern light, and the relative position relation between the projector 10 and the camera 20.
そして、カメラ２０の撮像画像上の各ドットパタン光の照射方向と、各ドットパタン光の撮像方向と、投光器１０とカメラ２０との相対位置関係とに基づいて、三角測量の原理により、観測領域に存在する物体までの距離を計測する。 - 特許庁 - The lighting pattern is so adopted that the probability of adopting the lighting pattern where the lighting quantity in the red light is more than the lighting quantity in the blue light is set higher in a case where the lottery result is shifted in the probability variation than in a case where the lottery result is not shifted in the probability variation.
赤色での点灯量が青色での点灯量よりも多くなるようにされた点灯パターンを採用する確率が、抽選結果が確変移行しないものである場合よりも、抽選結果が確変移行するものである場合の方が高くなるようにして点灯パターンを採用する。 - 特許庁 - Small reflection planes 10 are along the shape of a basic reflection plane C1 to irradiate a circular light distribution pattern P1, and each of the small reflection planes 10 is set so that an angle of reflection (a1) of the major axis side of a light distribution pattern is larger than an angle of reflection (a2) of the minor axis side.
小反射面１０は、円形の配光パターンＰ１を照射する基本反射面Ｃ１形状に沿ってあり、小反射面１０の各々は、配光パターンの長軸側の反射角（ａ１）が短軸側の反射角（ａ２）よりも大きくなるように設定されている。 - 特許庁 - AS a result, brightness of a light-distribution pattern LP for passing each other obtained by the reflecting surfaces 8, 17 with a high reflection factor is made bright, and brightness of a light-distribution pattern OP for an overhead sign obtained by the reflecting surfaces 9, 18 with a low reflection factor can be restrained.
この結果、この発明は、高反射率の反射面８、１７で得られるすれ違い用配光パターンＬＰの明るさを明るくし、これに対して、低反射率の反射面９、１８で得られるオーバーヘッドサイン用配光パターンＯＰの明るさを抑制することができる。 - 特許庁 - To provide a vehicular headlight with a horizontal type bulb in which the maximum light intensity near the center in a light distribution pattern is increased by a simple constitution, and in which the total luminous flux of irradiated light is made to be increased.
本発明は、簡単な構成により、配光パターンにおける中心付近の最大光度を高めると共に、照射光の全光束を増大させるようにしたバルブ横置き型の車両前照灯を提供することを目的とする。 - 特許庁 - As for the pattern change mechanism 40, by changing at least one of a moving state of the light distribution varying shade 34 and a covering state of the auxiliary shade 36, a shielding state of the light as for the whole shade is changed and the formed light distribution patterns are decided.
パターン変更機構４０は、配光可変シェード３４の移動状態と補助シェード３６の掩塞状態の少なくとも一方を変更して、シェード全体としての光の遮蔽状態を変化させて、形成する配光パターンを決定する。 - 特許庁 - To solve a problem wherein an inclined pattern is formed due to absorption of the light by the photoresist resin at the wavelength used for the light source in a lithographic process using KrF or ArF laser, VUV rays, EUV rays, electron beams, ion beams or the like as the light source.
ＫｒＦ、ＡｒＦ、ＶＵＶ、ＥＵＶ、電子線（E-beam）及びイオンビーム（ion beam）等の光源を利用したリソグラフィー工程時に、フォトレジスト樹脂が光源に用いられる波長の光を吸収して傾斜したパターンを形成することを解決する。 - 特許庁 - To provide an optical sheet having a plurality of light guide plate patterns, each light guide plate pattern having a micro-patterned output surface for emitting light, and a micro-patterned bottom surface opposing to the output surface.
複数の導光板パターンを有する光学シートであって、各導光板パターンが、光を放射するためのマイクロパターン形成された出射面、および前記出射面の反対側のマイクロパターン形成された底面を有する光学シートを提供する。 - 特許庁 - The lattice layer is provided with a lattice pattern and reflects the light rays radiated toward the inside of the light emitting diode device so that the light rays may proceed toward the outside without being absorbed by each layer provided in the device.
そのうち格子層は格子パターンを具え、発光ダイオード装置内部に向けて放射する光線が外界の方向に行進するよう反射し、光線をずっと発光ダイオード装置内部に向けて行進させて内部の各層に吸収させることがない。 - 特許庁 - The pattern 15 can be constituted of a transmissive thin film formed on the surface of a semiconductor layer formed on the light emitting layer 12 and having the light emitting surface or can be formed by patterning the surface of the semiconductor layer having the light emitting surface.
同心円状パターンは、半導体発光層上に形成され、前記発光面を有する半導体層表面に形成された透光性薄膜から構成されるか、もしくは前記発光面を有する半導体層表面をパターニングしても良い。 - 特許庁 - The transparent sheet with the infrared absorption pattern comprises a visible light transmitting substrate, and a visible light transparent infrared reflecting layer and an infrared absorption patterned layer formed on the visible light transmitting substrate.
可視光を透過する基材と、前記基材上に形成された可視光透明赤外線反射層およびパターン状の赤外線吸収層とからなることを特徴とする赤外線吸収パターン付透明シートにより上記課題を解決した。 - 特許庁 - To achieve processing of high quality and high precision by preventing a light component of 0th order from being generated strongly to form an uneven light intensity distribution when a beam is split by a hologram and put one over the other on an irradiated part or pattern mask to make the light intensity uniform.
ホログラムでビームを分割し、被照射部、またはパターンマスク上で重畳して光強度を均一化する際に、０次光成分が強く発生し不均一な光強度分布となることを防止し、高品質、高精度な加工を達成する。 - 特許庁 - The particle size measuring apparatus 20 irradiates laser light L1 from a semiconductor laser light source 21 to the material gas P in a flow cell 23, and detects diffracted-scattered light L3 produced by the material gas P as an optical intensity distribution pattern by an optical sensor 25.
粒度測定装置２０は、フローセル２３中の材料ガスＰに半導体レーザ光源２１からのレーザ光Ｌ１を照射し、材料ガスＰによって生じた回折・散乱光Ｌ３を光センサ２５によって光強度分布パターンとして検出する。 - 特許庁 - When the γ table for the light toner is corrected, correction is carried out by changing the slope of the gradation characteristic of the image data for the light toner with zero level as base point based on the density characteristics of the read patch pattern and the ratio of the amounts of the dark toner and the light toner that have been used.
淡トナーのγテーブルを補正するときは、読み取ったパッチパターンの濃度特性と濃トナー及び淡トナーの使用比率とに基づいて、淡トナーの画像データの階調特性を、ゼロレベルを基点として傾きを変えることで補正する。 - 特許庁 - To obtain a drive circuit of a light emitting element, e.g. an LED, in which an extinction ratio can be enhanced by a simple method while making the best use of excellent eye pattern characteristics of the light of the light emitting element, and the current consumption of a device can be reduced.
ＬＥＤなどの発光素子の駆動回路において、発光素子の優れた光のアイパターン特性を生かしながら、簡単な手法で消光比を向上させることができ、同時に装置の消費電流を低減させることができるようにする。 - 特許庁 - Because the light is condensed on a region of a strong light intensity in the interference pattern, by effectively outputting the light in this region to the outside, intended directivity can be obtained and extraction efficiency can be improved.
この干渉パターンにおける光強度の強い領域に光が集光されているので、この領域の光を外部に効果的に出力させることで、所望の指向性を得ることができると共に、取り出し効率を向上させることができる。 - 特許庁 - To provide a total reflection pattern light guiding plate for applying to a front light source or a backlight source, that realizes high efficiency by lowering the cost of production by means of applying the same kind of design method respectively in different light source direction.
同種の設計法をそれぞれ異なる光源方向に適用させることにより、製造コストを低下し、高効率化を実現する、フロントライト光源又はバックライト光源の両者に適用する全反射パターン導光板を提供する。 - 特許庁 - Thus, when a pattern is displayed by lighting by each group of each light emission area, the power can be supplied by the auxiliary electrodes 7, 8 at every light emission area of the respective groups, so that the driving circuit can be simplified without the need of driving the light emission areas individually.
これにより、各発光領域のグループ別点灯によりパターン表示する際、各グループの発光領域毎に補助電極７、８により給電できるので、各発光領域を個別に駆動する必要がなく駆動回路を簡略化できる。 - 特許庁 - The mask blank includes a transparent substrate 1 and a light-shielding film 2 formed on the transparent substrate, and the light-shielding film made of a material composed mainly of a metal that is dry-etchable with a chlorine-based gas, wherein a resist film is used upon forming a transfer pattern in the light-shielding film 2.
透光性基板１上に、塩素系ガスでドライエッチング可能な金属を主成分とする材料で形成される遮光膜２を備え、該遮光膜２に転写パターンを形成する際にレジスト膜を用いるマスクブランクである。 - 特許庁 - A light emitted from a light source 20 is reflected by a second reflecting surface 50 to an area 30a where the stem casts a shadow thereon, reflected by the area 30a and irradiated to the areas where dark areas are generated in the light distribution pattern of low beam.
光源２０から照射された光は、第２の反射面５０によりステムの影となる範囲３０ａに反射され、さらにステムの影となる範囲３０ａで反射され、ロービーム用配光パターンに現れるダークとなる範囲に照射される。 - 特許庁 - To provide a recording sheet having light storing properties capable of manufacturing a displayed material having light storing properties simply from a printing/image pattern formed by using a personal computer or the like, eliminating sticking of a light storing sheet to an output sheet, and also provide a displayed material thereof.
パソコン等を用いて作成した印字・画像パターンから簡単に蓄光性を有する表示物を作製でき、かつ、蓄光シートと出力シートとの貼り付けが不要である蓄光性を有する記録用シート及び表示物を提供する。 - 特許庁 - In the exposure step, a light dot of a predetermined size is projected on the photosensitive film such that the light dot is repeatedly projected on the photosensitive film while being dislocated by a distance smaller than the diameter of the light dot, whereby the total pattern is exposed.
露光工程では、感光膜に対して所定の大きさの光ドットを投影すると共に、光ドットを光ドットの径よりも小さい距離ずつずらしながら感光膜に対して重ねて投影することにより全体パターンを露光する。 - 特許庁 - The first lighting fixture unit 20A is provided with a first projection lens 24, a first reflector 26 converging and reflecting the light from a first semiconductor light emitting element 22 frontward, and a first shade 21 forming a cut-off line of a light distribution pattern.
第１の灯具ユニット２０Ａは、第１投影レンズ２４と、第１半導体発光素子２２からの光を前方に向けて集光反射させる第１リフレクタ２６と、配光パターンのカットオフラインを形成する第１シェード２１とを備える。 - 特許庁 - When the sliding operation member 2 is brought into contact with the slid part 33 and is slid and moved, infrared light from the light emitting diode 36 is reflected on the reflection pattern 43, and pulse signals A and B are outputted from the photo-transistors 34 and 35 which receive the reflected light.
摺動操作部材２を被摺動部３３に接触させ摺り動かすと、発光ダイオード３６からの赤外光が反射パターン４３で反射され、これを受光したフォトトランジスタ３４，３５からパルス信号Ａ，Ｂが出力される。 - 特許庁 - To provide a surface light emitting body which can realize thinness of a surface light-emitting device and can suppress deformation of a light diffusion pattern, and can be manufactured easily at a low cost by eliminating a fault in a conventional manufacturing process.
面発光装置の薄型化を実現するとともに、光拡散パターンの変形を抑制することができ、従来の製造工程での不具合を解消して容易に且つ低コストに製造可能な面発光体及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The light pervious resin plate P1 is constituted by forming fine unevenness 21 on the whole of the one side 2 of the light pervious resin plate 1 and partially forming pattern parts 4, of which the fine unevenness is larger than the fine unevenness of one side of the light pervious resin plate, to the other surface 3 thereof.
透光性樹脂基材１の片面２全面に微細な凹凸２１を形成すると共に、他面３に前記片面の微細凹凸より大きな凹凸の模様部４を部分的に形成した構成の透光性樹脂板Ｐ１とする。 - 特許庁 - Amounts of light from respective light-emitting areas in a lighting pattern of a LED light source of each color for a prescribed short period t after VSYNC signal input, which achieve a desired white point, are preliminarily stored as target values in a storage part 9.
記憶部９は、所望の白色点になるＶＳＹＮＣ信号入力後の所定短期間ｔにおける各色のＬＥＤ光源の点灯パターンにおける各発光領域からの光量を目標値として予め記憶している。 - 特許庁 - Since the light reflection amount of the reflection plate 120 is partially corrected by the brightness correction pattern, brightness deviation of the light irradiated on the object to be inspected is minimized by the property and disposition of the light source 110, and excellent uniformity of the brightness can be obtained.
輝度補正パターンによって反射板１２０の光反射量が部分的に補正されることで、光源１１０の特性や配列によって、被検査体に照射される光の輝度偏差が最小化され、優れた輝度均一性を得ることができる。 - 特許庁 - The operation part 18 extracts a light intensity distribution of the light and dark pattern 21 in the changing direction of the spatial frequency, and determines a contrast transfer function showing a contrast transmissibility in each spatial frequency region based on the light intensity distribution.
演算部１８は、空間周波数が変化する方向における明暗パターン２１の光強度分布を抽出し、この光強度分布に基づいて、各空間周波数領域におけるコントラスト伝達率を表すコントラスト伝達関数を求める。 - 特許庁 - In case of failure, a low-beam emitting device 8 controls the reflected light L6 from a reflection type digital light deflection device 2 during non-energization period to use it as a light distribution pattern P for low beam and emit it to a road surface.
故障が発生した場合において、ロービーム照射装置８により、無通電時の反射型デジタル光偏向装置２からの反射光Ｌ６を制御してすれ違い用の配光パターンＰとして使用して路面などに照射することができる。 - 特許庁 - To provide a light emitting device having a phosphor-content resin prepared in a light emitting element, which can prevent a joint from being damaged, the joint that electrically joins the light emitting element and a wiring pattern.
本発明は、発光素子に設けられる蛍光体含有樹脂を備えた発光装置に関し、発光素子と配線パターンとの間を電気的に接続する接続部分の破損を防止することのできる発光装置を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a light emitting display device that can continuously emit light and display desired characters, figures or the like by adding mechanical external force with a finger or a pen tip and restore and redisplay a previously displayed light emission pattern at any time.
手指やペン先で機械的外力を加えることによって任意の文字や図形等を継続的に発光表示することができ、かつ先に表示された発光パターンを復元して随時再表示することが可能な発光表示装置を提供する。 - 特許庁 - The vehicle headlamp 70 includes a light source 64 having a light emitting surface 64a with at least one linear side, and a reflector 62 forming a light distribution pattern having a first cut-off line and a second cut-off line each having an angle.
車両用前照灯７０は、少なくとも一辺が直線状の発光面６４ａを有する光源６４と、互いに角度を持つ第１カットオフラインおよび第２カットオフラインを有する配光パターンを形成するリフレクタ６２と、を備える。 - 特許庁 - A light emission control pattern THR, consisting of plural grooves the extension directions of which are inclined to a side (light incidence face) where a linear lamp LP of a light transmission plate GLB is set, is provided on the surface of a corner part of the side.
導光板ＧＬＢの線状ランプＬＰを設置する辺（入光面）のコーナー部表面に、延長方向が線状ランプＬＰを設置する辺に対して傾斜をもつ複数本の溝からなる出光制御パターンＴＨＲを設けた。 - 特許庁 - Thereby, when the light source 22a moves to the front movement position, the reflected light from the additional reflection face 24a1 is converged at the rear focus F and the central luminous intensity of the low-beam light distribution pattern is increased and, thereby distant visibility becomes superior.
これにより、光源２２ａが前方移動位置へ移動したとき、付加反射面２４ａ１からの反射光を後側焦点Ｆに収束させて、ロービーム用配光パターンの中心光度を高め、これを遠方視認性に優れたものとする。 - 特許庁 - The image detection device 100 is configured such that th light emitted from a light source 51 is radiated to the moving medium 53 on which an image pattern is formed, and reflected light from the moving medium is imaged on a one-dimensional or two-dimensional area sensor 56 through an imaging lens 54.
画像検出装置１００は、光源５１からの出射光を画像パターンが形成される移動媒体５３に照射し、移動媒体からの反射光を結像レンズ５４を介して１次元もしくは２次元のエリアセンサ５６に結像する。 - 特許庁 - A metallize layer 12 exhibiting light reflectivity is formed, while being insulated electrically from the wiring pattern 11a, on the ceramic substrate 10 at a position on the opposite side to the light exit while holding the mounting position of the light emitting element 3 in the second recess 10d between.
第２凹部１０ｄ内の発光素子３の搭載位置を挟んで前記出射口の反対側位置の前記セラミック基板１０に、光反射性を備えたメタライズ層１２を配線パターン１１ａとは電気的に絶縁されて形成する。 - 特許庁 - The aligner 1, in which a desired spot on the substrate to be exposed relatively moving to the light sources is irradiated with a light, by using a plurality of light sources aligned along the direction of the relative movement for forming a desired exposure pattern, has a control means 10 for controlling lighting with a specified timing only a specified light source from among the plurality of light sources.
相対移動の方向に沿って並ぶ複数の光源を用いて、該光源に対して相対移動する露光対象基板上の所望のスポットを照射し、所望の露光パターンを形成する露光装置１は、複数の光源のうち特定の光源のみを特定のタイミングで点灯制御する制御手段１０を備える。 - 特許庁 - An irradiation control means 21 is constituted so as to be capable of being changed to irradiate the printed circuit board K with red light as the light emitted from the upper ring light 13 in a case that the surface color of the part corresponding to the circuit pattern is a reddish color, with blue light in the case of a bluish color and with green light in the case of a greenish color.
回路パターンに対応する部分の表面色が、赤色系統の色を呈する場合に、照射制御手段２１は、上部リングライト１３から照射される光として赤色光を、青色系統の色を呈する場合には青色光を、緑色系統の色を呈する場合には緑色光を照射できるように切換可能な構成とした。 - 特許庁 - The frame body 52 is so structured that a first surface 56a on which an image by dispersed reflection light at light irradiation is projected further upward than a cutoff line of the low-beam light distribution pattern has a lower reflection rate than that of a second surface 52b on which an image by dispersed reflection light at light irradiation is projected further downward than the cutoff line.
枠体５２は、光が照射されたときの拡散反射光による像がロービーム用配光パターンのカットオフラインより上方に投影される第１表面５６ａが、光が照射されたときの拡散反射光による像がカットオフラインより下方に投影される第２表面５２ｂよりも反射率が低くなるよう設けられている。 - 特許庁
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