「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 56 57 58 59 60 61 62 63 64 .... 141 142 次へ＞- To quickly adapt a light intensity distribution pattern and emission angles of an emission beam to immediately cope with a vehicle driving condition in a headlight for a vehicle housing a lamp unit emitting forward a beam of a prescribed light intensity pattern inside of a lamp body.
ランプボディの内部に所定の配光パターンで前方へビーム照射を行う灯具ユニットが収容されてなる車両用前照灯において、車両走行状況に即応した配光パターンおよび照射角度でビーム照射を行えるようにする。 - 特許庁 - The customer service control part 104 performs emission of the light emitting diode 14 arranged at the lower part of a blue label 'Cold' in blue as defined by the emission pattern and emission of the light emitting diode 14 arranged at the lower part of a red label 'Hot' in red as defined by the emission pattern.
接客制御部１０４は、青色ラベル「つめた〜い」の下部に配列される発光ダイオード１４を発光パターン通りに青色発光させるとともに、赤色ラベル「あったか〜い」の下部に配列される発光ダイオード１４を発光パターン通りに赤色発光させる。 - 特許庁 - Here, detection sensitivity of each of the optical detectors is adjusted by interposing a filter 40 of which the transmittance varies corresponding to the number of the transmission parts of each mask pattern (the transmission bit number) and the bit pattern of the signal light is identified by comparing the respective detected light intensity values with each other.
このとき各マスクパターンの透過部の個数（透過ビット数）に応じて透過率が異なるフィルター４０を介することにより各光検出器の検出感度を調整し、各々の光検出強度を比較して信号光のビットパターンを特定する。 - 特許庁 - If the finger is contacted with that part, the second light source 7 is lighted on at a second pattern, and because brightness and color or the like of the light transmission pattern 3a which has loomed up on the design plate 1 are changed, it is confirmed by this that the switch is turned to be ON state.
指がその部分に接触すると、第２光源７が第２のパターンで点灯され、意匠板１に浮かび上がった光透過パターン３ａの輝度、色等が変化するので、これにより、スイッチがＯＮ状態になったことを確認することができる。 - 特許庁 - A light reflective pattern 29 on a transparent substrate 2 is constituted of a channel part 27 with its section forming approximately a triangle and a plane part 28 adjacent thereto, which pattern is so formed as to have a prescribed angle of inclination θ against the axial direction of the light sources 5a, 5b.
透明基板２上の光反射パターン２９を、断面形状がほぼ三角形の溝部２７と溝部に隣接する平坦部２８とから構成し、光源部５ａ、５ｂの軸方向に対して所定の傾斜角度θを有するように形成する。 - 特許庁 - To reduce variation in pattern size due to density dependency of a pattern to be formed during dry etching processing on a light shield film as compared with a case wherein a conventional photomask blank having a light shield film is used, and to manufacture a mask with higher precision.
遮光膜のドライエッチング加工時において、従来の遮光膜をもつフォトマスクブランクを用いた場合と比較して、形成するパターンの粗密依存性により生じるパターンサイズ変動を小さくすることができ、より高精度のマスクを製造することが可能になる。 - 特許庁 - A standard pattern using a wavelength as a parameter for the differential value of interference light with reference to the prescribed step of a first material to be treated and a standard pattern using a wavelength as a parameter for the differential value of interference light with reference to the prescribed mask residual film thickness of the material to be treated are set.
第１の被処理材の所定段差に対する干渉光の微分値の、波長をパラメータとする標準パターンと被処理材の所定マスク残膜厚さに対する干渉光の微分値の、波長をパラメータとする標準パターンを設定する。 - 特許庁 - The soft X-ray 14 emitted from a light source part 7 is focused to high energy density using an ellipsoidal mirror 15, and a workpiece 19 is irradiated with the focused light in a prescribed pattern in order to process only the area of the workpiece 19 that has been irradiated with soft X-ray 14 in the prescribed pattern.
光源部７から放射される軟Ｘ線１４を、楕円ミラー１５で高エネルギー密度に集光して所定のパターンで被加工物１９に照射し、被加工物１９を所定のパターンで軟Ｘ線１４を照射した部分のみを加工する。 - 特許庁 - The device makes a light 17 be incident on a finger print measuring part 12a at an angle not less than a critical angle and projects a light totally reflected from the measuring part 12a to an imaging device 11, and images an optical pattern corresponded to an uneven pattern of a finger 16.
臨界角以上の角度で指紋測定部１２ａに光１７を入射し、この指紋測定部１２ａで全反射した光を撮像素子１１に出射し、指１６の凹凸パターンに応じた光パターンを結像させる凹凸パターン検出装置である。 - 特許庁 - During high-beam irradiation, a direct light from the light source 22a injected into the first additional reflector 36L is reflected diagonally to the lower right and then reflected frontward from the second additional reflector 40R to form an additional distribution pattern in a central region of a high-beam distribution pattern.
ハイビーム照射時、第１付加リフレクタ３６Ｌに入射した光源２２ａからの直射光を、右斜め下方へ反射させた後、第２付加リフレクタ４０Ｒで前方へ反射させ、ハイビーム配光パターンの中心領域に付加配光パターンを形成する。 - 特許庁 - Light projected from the glass plate 2 as it is reflected from the pattern surface 1a of the mask 1 and another light projected from the glass plate 2 as it is reflected from the surface of the substrate 3 are detected, and a proximity gap between the surface of the substrate 3 and the pattern surface 1a of the mask 1 is measured.
マスク１のパターン面１ａで反射してガラス板２から射出する光と、基板３の表面で反射してガラス板２から射出する光とを検出して、基板３の表面とマスク１のパターン面１ａとのプロキシミティギャップを測定する。 - 特許庁 - A multi-chip module MCM is manufactured, by mounting on a single base substrate 30M memory chips 2CM manufactured by using a photomask having a metal light shade pattern and logic chips 2CL manufactured by using a photomask having a resist film light shade pattern.
メタルからなる遮光パターンを有するフォトマスクを用いて製造されたメモリチップ２ＣＭと、レジスト膜からなる遮光パターンを有するフォトマスクを用いて製造されたロジックチップ２ＣＬとを同一のベース基板３０Ｍ上に実装することでマルチチップモジュールＭＣＭを製造する。 - 特許庁 - The phase difference pattern generated by the signal generator 11 is supplied as a signal according to the image to be formed on a liquid crystal display device 13, whereas the pattern is supplied to a light source power supply 14 to vary the luminous energy of a light source 15 comprising a semiconductor laser.
信号発生器１１で発生された位相差パターンは液晶表示素子１３に形成する画像に応じた信号として供給される一方、光源用電源１４に供給され半導体レーザからなる光源１５の光量を可変する。 - 特許庁 - Furthermore, since reflectance of light on the uniformly rusted, oxidized or corroded surface is different from that on a non-rusted, non-oxidized or non-corroded surface, in the case where an engraving pattern is created, reflectance of light in an engraved portion becomes different, thereby drawing the engraving pattern with high contrast.
また均一に錆びた面または酸化した面または腐食した面は光の反射率がそうでないところと異なるため彫刻模様を作った場合切り込みを入れた部分の光の反射率が異なり、高いコントラストで彫刻模様を描く事が出来る。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask, having a light shielding film in which a semitransparent phase shift film pattern can be formed, without being influenced by the dimensional accuracy of the light-shielding film pattern and proper dimensional accuracy can be obtained.
遮光膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法において、半透明位相シフト膜パターンが、遮光膜パターンの寸法精度の影響を受けずに形成ができ、寸法精度が良好であるハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The position of a substrate having an existent first pattern on a stage 605 is determined by scanning an alignment mark on this substrate by detecting light from an alignment laser 1001 and detecting reflected light thereof by a detector 1009 and corresponding to that position, a second pattern is corrected and projected.
ステージ６０５上の、既に第１パターンがある基板の位置は、整列レーザ１００１からの検出光でこの基板上の整列マークを走査し、その反射光を検出器１００９で検出して決定し、それに応じて第２パターンを補正して投影する。 - 特許庁 - To provide a vehicle headlight that achieves improvement of long-distance visibility in an ordinary light distribution pattern and prevention of glare of on-coming vehicles due to road-face reflection in rainy-weather light distribution pattern, and yet, that can achieve cost reduction and improvement in layout versatility of a lighting tool unit.
通常配光パターンでの遠方視認性の向上と雨天配光パターンでの路面反射による対向車グレア防止を達成しながら、灯具ユニットのコスト低減とレイアウト自由度の向上を図ることができる車両用前照灯を提供すること。 - 特許庁 - A beam point P1 of a laser beam gun used by one player has a triangular pattern comprising three upwardly sharpened light spots OP, and a beam point P2 of a laser beam gun used by the other player has an overturned triangular pattern having three light spots OP.
一方のプレーヤが使用するレーザ光線銃のビームポイントＰ__１は３つの光点ＯＰが上に尖った三角形状に並ぶパターンであり、他方のプレーヤが使用するレーザ光線銃のビームポイントＰ_２は３つの光点ＯＰが逆三角形状に並ぶパターンである。 - 特許庁 - Also, the object lens is provided with a diffracted pattern in at least one surface, when luminous fluxes from the light sources of different wavelengths are condensed on an information recording surface, 1st order diffracted light from the diffracted pattern is used in reproducing of a plurality of recording media.
また、対物レンズは少なくとも１つの面に回折パターンを有し、異なる波長の光源からの光束を情報記録面に集光させるとき、複数の記録媒体の再生において、共に前記回折パターンからの１次回折光を用いる。 - 特許庁 - Exposure by the mask for exposure which has a pattern 2 for position shift measurement and exposure by a mask for light which has a pattern 1 for position shift measurement are both carried out for a photosensitive layer on a wafer.
位置ずれ測定用パターン２を有する露光用マスクによる露光、及び位置ずれ測定用パターン１を有する光用マスクによる露光を、ウエハ上の感光層に対して重ねて行う。 - 特許庁 - A first unit attenuation region in the first attenuation pattern and a second unit attenuation region in the second attenuation pattern have an attenuation rate characteristic of varying an attenuation rate depending upon an angle of incidence of the light.
第１減光パターン中の第１単位減光領域と第２減光パターン中の第２単位減光領域とは、光の入射角度に応じて減光率が変化する減光率特性を有する。 - 特許庁 - To form a finer pattern by appropriately adhering and fixing a dot pattern of an injection solution to a desired location on a substrate, when manufacturing an organic EL light-emitting element by utilizing an ink jet injection principle.
インクジェット噴射原理を利用して有機ＥＬ発光素子を製作する際、噴射溶液のドットパターンを基板上の所望の場所に正しく付着／定着させ、より高精細なパターンを形成する。 - 特許庁 - PATTERN-FORMING METHOD, PHOTOSENSITIVE ADHESIVE SHEET, METHOD FOR FORMING LIGHT SHIELDING PATTERN ON LENS SHEET, METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING TRANSMISSION-TYPE SCREEN, TRANSMISSION TYPE SCREEN AND PROJECTION-TYPE IMAGE DISPLAY DEVICE
パターン形成方法、感光性粘着シート、レンズシートへの遮光パターンの形成方法、透過型スクリーンの製造方法、透過型スクリーンの製造装置、透過型スクリーンおよび投射型画像表示装置 - 特許庁 - To provide a method capable of preventing the distortion of a photoresist pattern, which is formed using a light source having wavelengths of 157 nm to 193 nm, for example, an ArF laser or fluorination (F_2) laser source, and thus forming a smaller pattern.
157nmないし193nm波長の光源、例えば、ArFレーザまたはフッ化(F_2)レーザ光源を利用して形成されたフォトレジストパターンの変形を防止でき、より微細なパターンを形成できるエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - When exposure is carried out to the periphery of a wafer W, the slit pattern 36 or the pattern 37 for difference in level are moved to an illumination region 35 of exposure rays of light, and exposure is carried out while the wafer W is moved.
ウエハＷの周辺部に露光を行う際に、スリットパターン３６又は段差用パターン３７を露光光の照明領域３５に移動して、ウエハＷを移動しながら露光を行う。 - 特許庁 - It is so constructed that beam radiation with a fog-lamp light distribution pattern is done by lighting of a front filament 18a and beam radiation with a high-beam distribution pattern is done by a rear filament 18b.
前部フィラメント１８ａの点灯によりフォグランプ配光パターンでビーム照射を行うとともに、後部フィラメント１８ｂの点灯によりハイビーム配光パターンでビーム照射を行う構成とする。 - 特許庁 - To provide a resist composition excellent in a pattern profile, reproducibility of a beam form and resolution relating to pattern formation by irradiation of active rays or radiation, particularly electron beams, X-rays or EUV light.
活性光線又は放射線、特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光の照射によるパターン形成に関して、パターンプロファイル、ビーム形状再現性、解像力に優れたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - A formation position of a sub-pattern SP(LM) for a light magenta ink (LM) is present at the center side of a paper S more than a formation position of a sub-pattern SP(M) for a magenta ink (M) in a movement direction.
ライトマゼンタインク（ＬＭ）についてのサブパターンＳＰ（ＬＭ）の形成位置は、移動方向において、マゼンタインク（Ｍ）についてのサブパターンＳＰ（Ｍ）の形成位置（よりも用紙Ｓの中央側にある。 - 特許庁 - To provide an inspection device for pattern defects, capable of realizing high reliability stable pattern defect inspection, having high resolution relative to minute patterns by using an ultraviolet laser beam as the light source.
紫外レーザ光を光源として微細パターンを高解像度で、しかも安定したパターン欠陥検査を高信頼性で実現するようにしたパターン欠陥検査装置を提供することにある。 - 特許庁 - The pellicle 4 is provided with a pellicle frame 3 which is fixed to the pattern forming surface and the light translucent pellicle film 1 which is supported by the pellicle frame 3 so as to secure prescribed distance between the pattern forming surface.
ペリクル４は、パターン形成面に固定されるペリクルフレーム３と、パターン形成面との間に所定の距離が確保されるように、ペリクルフレーム３に支持される透光性のペリクル膜１を備える。 - 特許庁 - The pattern image corrected so that the area of the white part is Sq is formed on a liquid crystal light valve 114, and the corrected pattern image is enlarged and projected to be displayed on a screen.
液晶ライトバルブ１１４上には、白色部分の面積がＳｑに修正されたパターン画像が形成され、その修正されたパターン画像がスクリーン上に拡大投射されて表示される。 - 特許庁 - When the first photomask is used in the first step and the second photomask is used in the second step, such a positional relation is set that the light shielding pattern 14 covers the pattern 140 for monitoring element dimensions.
第１フォトマスクを第１工程において用い、第２フォトマスクを第２工程において用いるとき、素子寸法をモニタするパターン１４０を、遮光パターン１４が覆うような位置関係にある。 - 特許庁 - Furthermore, photosensitive conductive paste is applied to the surface of the insulating layer 23 like a film, then exposed to light through a photomask and is developed for the formation of an upper conductor pattern layer 1b on the lower conductor pattern layer 1a.
さらに、感光性導電ペーストを膜状に付与した後、再びフォトマスクを使用して露光及び現像して下部導体パターン層１ａの上に上部導体パターン層１ｂを形成する。 - 特許庁 - To prevent roughness from appearing on the wall surface of a pattern formed on a film to be etched, when dry etching is performed while using a resist pattern, which is provided by having the resist film irradiated with EUV light as a mask.
ＥＵＶ光をレジスト膜に照射して得られたレジストパターンをマスクとしてドライエッチングを行なったときに、被エッチング膜に形成されるパターンの壁面にラフネスが現われないようにする。 - 特許庁 - To provide a fabrication method of a semiconductor device in which an etching process is eliminated by removing residue of a pattern obtained from mold pressing, and even a fine pattern having a size equal to a wavelength of irradiated light or less can be formed.
モールドプレスすることにより得られたパターンの残渣をなくすことでエッチング工程をなくし、照射光の波長以下の微細パターンまで形成可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - By supplying first pattern data to an image forming means, a first pattern is formed on a recording medium by using dark color material and light color material having the same hue, and its density is detected.
第１パターンデータを像形成手段に供給することにより、同一色相の濃の色材と淡の色材とを使用して記録媒体上に第１パターンを形成し、そのパターンの濃度を検出する。 - 特許庁 - To enhance the color change function of the decorating pattern 13 caused by the direct light D1 from the lighting apparatus 12, the decorating pattern 13 is arranged at the height level substantially the same as that of the lighting apparatus 12.
また、照明器具１２からの直接光Ｄ１によって生じる装飾模様１３の変色機能を増大させるために、装飾模様１３を照明器具１２とほぼ同じ高さレベルに設ける。 - 特許庁 - To efficiently separate a signal from a pattern from a signal from a defect, in a technique for inspecting a micro circuit pattern using an image formed by irradiation with a white light, a laser beam or an electron beam.
白色光・レーザ光・あるいは電子線を照射して形成された画像を用いて微細な回路パターンを検査する技術において、パターンからの信号と欠陥からの信号を効率的に分離する。 - 特許庁 - Grooves 3a and 3b each having a width W1 and formed by digging in a mask substrate 1 are provided on both sides of a light shielding pattern 2 formed on the mask substrate 1 by leaving an interval H1 from the pattern 2.
マスク基板１上に形成された遮光パターン２の両側に、マスク基板１を掘り込むことにより形成された幅Ｗ１の溝３ａ、３ｂを間隔Ｈ１だけ隔てて設ける。 - 特許庁 - (1) In the formation of the resist pattern by using the direct resist plotting method, the resist pattern is formed by irradiating photosensitive resist ink with ultraviolet rays or visible light rays simultaneously with or immediately after the ink adheres to a substrate.
（１）レジスト直描方式によるレジストパターン形成において、感光性レジストインクが、基板に付着すると同時または直後に紫外線または可視光線に照射され、レジストパターンが形成される。 - 特許庁 - A video signal processing section sequentially lights and scans a laser diode for each light source and generates a test pattern A (S1 and S2) and adjusts DAC1 to DAC4 to ensure that the test pattern density is equal (S3).
ビデオ信号処理部は、レーザダイオードを一発光源ずつ順次点灯走査させ、テストパターンＡを生成して（Ｓ１、Ｓ２）、テストパターン濃度が等しくなるようにＤＡＣ１〜ＤＡＣ４の調整を行う（Ｓ３）。 - 特許庁 - In the advance notice on the big win, one pattern is determined by lottery out of 10 kinds of back light performance patterns and according to the determined pattern, lighting of the back lights 334L and 334R is controlled.
この大当たり予告では、１０種類のバックライト演出パターンの中から１つのパターンが抽選で決定され、その決定されたパターンに従ってバックライト３３４Ｌ，３３４Ｒが点灯制御される。 - 特許庁 - When the mobile communication terminal 12 detects the light or sound in a prescribed pattern by using a camera or a microphone, the mobile communication terminal 12 sets own operating mode into an operating mode associated with the detected prescribed pattern.
携帯通信端末１２は、カメラ又はマイクにより、所定パターンの光又は音を検出すると、自身の動作モードを、その検出した所定パターンに対応付けられた動作モードに設定する。 - 特許庁 - To provide an optical recording medium where an arbitrary dot pattern such as a character pattern is recorded by simple structure and reproduced as a diffraction image through irradiation with monochromatic light and a recording device for the optical recording medium.
文字パターン等の任意のドットパターンを簡潔な構成で記録し、単色光の照射に応じて回折像として再生する光記録媒体、光記録媒体の記録装置を提供する。 - 特許庁 - A solenoid 34 which serves as a preferential moving mechanism switches light from a bulb 14 between at least the low-beam distribution pattern and a high-beam distribution pattern by moving the variable shade 12.
優先移動機構として機能するソレノイド３４はバルブ１４からの光を可変シェード１２を移動させて、少なくともロービーム用配光パターンとハイビーム用配光パターンとの切り換えを行う。 - 特許庁 - A photoresist film 30 is formed on the inorganic insulating layer 23, subjected to light exposure of a pattern shape, and then subjected to a developing treatment with use of a developer to form a resist pattern 30B' in a developing step.
そして、この無機絶縁層２３上にフォトレジスト膜３０を形成してパターン状に露光した後に、現像工程において、現像液を用いて現像することでレジストパターン３０Ｂ’を形成する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a three-dimensional figure to impart a fine rugged pattern, while employing an ink-jet method is employed for forming a rugged pattern for a reflective electrode, having high light-condensing efficiency.
集光効率の高い反射電極用凹凸形状の形成において、インクジェット法を用いながらも微細な凹凸形状を付与させうる３次元形状の形成方法を実現する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming device which suppresses contamination of a drawing surface due to satellite droplets, with respect to the pattern forming device for irradiating flying droplets with light to dry the flying droplets.
飛行中の液滴にレーザ光を照射して飛行中の液滴を乾燥させるパターン形成装置において、サテライト液滴による描画面の汚染を抑制するパターン形成装置を提供する。 - 特許庁 - When the photoconductive layer 13 is irradiated with light through a negative monochrome original plate 21 on which the negative pattern of a display image is recorded, the resistance value of the photoconductive layer 13 decreases and the photoconductive layer 13 exhibits conductivity in accordance with the negative pattern.
表示画像のネガパターンが記録されているネガ白黒原板２１を介して光を照射すると、光伝導層１３の抵抗値が低下しネガパターンに応じて導電性を示す。 - 特許庁 - (2) A pattern surface is set with the vicinity of one end surface of the rod lens as an objective surface, and the monochromatic light converged to the pattern surface is radiated, whereby an image surface is formed in the vicinity of the other end surface.
（２）ロッドレンズの一方の端面近傍を物体面としてパターン面を設置し、パターン面に集光した単色光を照射することにより、他方の端面近傍に像面を形成する。 - 特許庁
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