「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 52 53 54 55 56 57 58 59 60 .... 141 142 次へ＞- To provide a reflective mask blank for EUV lithography having a low reflecting layer which has a low reflectivity in the wavelength band of EUV light and inspection light of a mask pattern, having especially low reflection characteristic in the entire wavelength band (190-260 nm) of the inspection light of mask pattern, while keeping excellent adhesion to a resist.
ＥＵＶ光およびマスクパターンの検査光の波長域に対する反射率が低く、特に、マスクパターンの検査光の全波長域（１９０〜２６０ｎｍ）に対して低反射特性を示し、かつレジストとの密着性が良好な低反射層を有するＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの提供。 - 特許庁 - The metal pattern formed resin substrate 1 is irradiated with exciting light having a wavelength absorbed by a resin material surface layer to get the light emitted from the surface of the metal pattern formed resin substrate 1 detected by a detection system having no sensitivity to exciting light but having sensitivity to fluorescence or phosphorescence.
金属パターン形成樹脂基板１に前記樹脂材料表層で吸収される波長を有する励起光を照射し、金属パターン形成樹脂基板１の表面から発せられる光を、励起光に対する感度を有さず、蛍光又は燐光に対する感度を有する検出系で検出する。 - 特許庁 - To enable to secure sufficient brightness at the portion near the lower part of a cut-off line in the right and left diffusion area of a low-beam light distribution pattern, even when a light source is arranged at the position separated from an optical axis downward in a vehicle headlamp of projection type constituted so as to form the low-beam light distribution pattern.
ロービーム用配光パターンを形成するように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯において、光源が光軸から下方に離れた位置に配置されている場合であっても、ロービーム用配光パターンの左右拡散領域におけるカットオフラインの下方近傍部分の明るさを十分に確保可能とする。 - 特許庁 - The control means outputs at least a control signal that designates whether to change or not to change the emitting pattern of the light emitting means based on the environment information and the control signal that makes the light emitting means emit light by an emitting pattern based on another environment information different from the above environment information.
前記制御手段は、少なくとも、前記環境情報に基づいて、発光手段の発光パターンを変更するか変更しないかを指定する制御信号と、前記環境情報とは異なる別の環境情報に基づいた発光パターンで発光手段を発光させる制御信号とを出力する。 - 特許庁 - In the optical imprint method, employing the imprint mold, exposure light is coherent light, and the total of the cross-sectional dimension of a convex pattern part and the cross-sectional dimension of a concave pattern part is equal to an optical path length corresponding to the half wavelength of the coherent exposure light or the odd number times of the half wavelength, is used.
本発明のインプリントモールドを用いた光インプリント法は、露光光がコヒーレントな光であり、凸パターン部の断面寸法と凹パターン部の断面寸法の合計が、コヒーレントな露光光の半波長または半波長の奇数倍に相当する光路長と等しいインプリントモールドを用いることを特徴とする。 - 特許庁 - Also, a second light irradiation structure relating to this invention irradiates the inspection object (1) with the light required for imaging the vein pattern in the authentication device utilizing the vein pattern and is characterized by that the light (6) emitted from the directional luminous body (2) is concentrated on a specified point (5) on the inspection object.
また、本発明にかかる第二の光照射構造は、静脈パターンを利用した認証装置において該静脈パターンの撮像に必要な光を検査対象(1)に照射するもので、指向性を有する発光体(2)から発した光(6)が該検査対象上の特定点(5)に集中することを特徴とする。 - 特許庁 - A light emission pattern is taken into a control part 42 via an image pickup part 50, and the control part 42 carries out a pointer function corresponding to a preliminarily stored light emission pattern to the coordinates of the display image of the screen and the monitor 60 corresponding to the coordinates of the heading LED (reference light emission point) 21 on the virtual screen S.
発光パターンが撮像部５０を介して制御部４２に取り込まれ、制御部４２は、予め記憶する発光パターンに応じたポインタ機能を、仮想スクリーンＳ上における先端のＬＥＤ（基準発光点）２１の座標に対応するスクリーンおよびモニタ６０の表示画像の座標に合成する。 - 特許庁 - The coma aberration of the optical system, shading of the light flux in the optical system and inclination of the main light beam of the illumination light with respect to the normal to a phase pattern forming plane W are inspected, based on the change in the asymmetry of an image corresponding to the edge of the phase pattern which is respectively detected in a defocused condition in the image detecting means.
像検出手段において各デフォーカス状態で検出された位相パターンのエッジに対応する像の非対称性の変化に基づいて、光学系のコマ収差、光学系における光束ケラレ、および位相パターンの形成面（Ｗ）の法線に対する照明光の主光線の傾きを検査する。 - 特許庁 - Electrode patterns 5 are formed at ends of both sides of a substrate 1 respectively, a light emitting element 6 which emits primary light is fitted on the electrode pattern 5 at its one side through a conductive adhesive 9, and an electrode of the light emitting element 6 and the electrode pattern at the other side are connected by a conductive wire 2.
基板１の両側端部にそれぞれ電極パターン５が形成されており、この一側の電極パターン５上に１次光を発光する発光素子６が導電性接着剤９を介して取り付けられており、発光素子６の電極と他側の電極パターンは導電性ワイヤー２により連結されている。 - 特許庁 - By using the half-wave plate 38, an effective incidence range 60 for emitting the s-polarized light from an entire back face of the polarization conversion element 30 becomes the checkered pattern and it becomes easier to irradiate to the effective incident range with the illumination light from the light source arranged in the checkered pattern.
この１／２波長板３８を用いることで、偏光変換素子３０の背面全体からＳ偏光を出射させるための有効入射範囲６０が市松模様状となり、市松模様状に配列された光源からの照明光を有効入射範囲に照射することが容易となる。 - 特許庁 - The input device 10 of a display device 100 with an input function serves as a capacitive touch panel, a first light-transmitting electrode pattern 11 and a second light-transmitting electrode pattern 12 made of an ITO film with film thickness of 20 nm and the refractive index of 1.91 are formed on one surface of a light-transmitting substrate 15.
入力機能付き表示装置１００の入力装置１０は静電容量型のタッチパネルであり、透光性基板１５の一方面には、膜厚が２０ｎｍで屈折率が１．９１のＩＴＯ膜からなる第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２が形成されている。 - 特許庁 - The method of manufacturing the semiconductor includes steps of: supervising the variation of the pattern dimension whenever the pattern forming is performed to a plurality of wafers 14, measuring the light exposure/focal permission region from the monitor result, and sequentially updating the center of its light exposure/focal permission region as a new target value over the light exposure and the focus.
複数枚のウェーハ１４に対するパターン形成が実行されるごとにパターン寸法の変動を監視し、その監視結果から露光量・フォーカス許容領域を求め、その露光量・フォーカス許容領域の中心を露光量およびフォーカスに対する新たな目標値として逐次に更新していく。 - 特許庁 - To provide a highly practical negative photoresist suitable for lithography using light of ≤220 nm such as ArF excimer laser light as exposure light and having resistance to pattern deformation due to swelling and adhesion to a substrate (a fine pattern is less liable to peel off a substrate) in addition to dry etching resistance and high resolution.
ＡｒＦエキシマレーザ光等の２２０ｎｍ以下の光を露光光に用いたリソグラフィ用として好適に用いられる、ドライエッチング耐性、高解像性に加え、膨潤によるパターン変形及び基板密着性（微細なパターンが基板から剥がれにくい）を兼ね備えた実用性が高いネガ型フォトレジストを提供する。 - 特許庁 - To provide a color filter obtained by forming a diaphragm (light shielding pattern) by light shielding ink having ink repellency and forming color layers in areas divided by the diaphragm (light shielding pattern) by an ink jet procedure, the color filter having a uniform and highly adhesive overcoat layer free from defective color mixture and peeling or crack.
撥インキ性を有する遮光インキにて隔壁（遮光パターン）を形成し、この隔壁（遮光パターン）に仕切られた領域にインクジェット方式で着色層を形成したカラーフィルタにおいて、混色不良がなく、かつ均一で密着性がよく、剥がれやクラックのないオーバーコート層を有するカラーフィルタを提供することを目的とする。 - 特許庁 - A light-emitting device comprises: a light-emitting element having a first primary surface emitting light and first and second bonding pads provided on a second primary surface; and a substrate having a first land pattern 21 to which the first bonding pad is connected and a second land pattern 23 to which the second bonding pad is connected.
発光装置は、光を放射する第１の主面と、第２の主面に設けられた第１および第２のボンディングパッドと、を有する発光素子と、前記第１のボンディングパッドが接続された第１のランドパターン２１と、前記第２のボンディングパッドが接続された第２のランドパターン２３とを有する基板と、を備える。 - 特許庁 - A first light irradiation structure relating to this invention irradiates an inspection object (1) with light required for imaging the vein pattern in the authentication device utilizing the vein pattern and is characterized by that the light (6) emitted from a directional luminous body (2) is concentrated in a specified region (3) on the inspection object.
本発明にかかる第一の光照射構造は、静脈パターンを利用した認証装置において該静脈パターンの撮像に必要な光を検査対象(1)に照射するもので、指向性を有する発光体(2)から発した光(6)が該検査対象上の特定領域(3)に集中することを特徴とする。 - 特許庁 - The method for manufacturing an exposure mask includes: a step S1 of patterning a light shielding film 2 formed on a quartz substrate 1 to form a light shielding pattern 2c; and a step S4 of directly measuring the level difference H from the surface of the quartz substrate 1 to the upper face of the light shielding pattern 2c and obtaining the measured value of the level difference H.
石英基板１上に形成された遮光膜２をパターニングして遮光パターン２ｃを形成するステップＳ１と、石英基板１の表面から遮光パターン２ｃの上面までの段差Hを直接測定して、該段差Hの実測値を得るステップＳ４と、を有することを特徴とする露光用マスクの製造方法による。 - 特許庁 - The digital data of the light distribution patterns can be used as it is and the optimum light distribution pattern P5 to the surroundings of the vehicle can be controlled in a digital form, thus positively achieving the optimum light distribution pattern P5 to the surroundings of the vehicle with little analog unevenness.
また、デジタル的に作成された配光パターンのデジタルデータをそのまま使用して車両の周囲環境に最適な所定の配光パターンＰ５をデジタル的に制御することができるので、アナログ的なばらつきがない車両の周囲環境に最適な所定の配光パターンＰ５が確実に得られることとなる。 - 特許庁 - In a printer device 10, a pattern region 30 for detecting a deviation in the sub-scanning direction is formed on the surface of a photoreceptor drum 140, a light quantity sensor 174 detects the reflected light quantity when a laser beam scans the pattern region 30, and the deviation in the sub-scanning direction is detected based on the detected reflected light quantity.
プリンタ装置１０は、感光体ドラム１４０表面に副走査方向ずれ量を検知するためのパターン領域３０を形成し、レーザビームがこのパターン領域３０を走査した場合の反射光量を光量センサ１７４で検知し、検知された反射光量に基づいて、副走査方向ずれ量を検知する。 - 特許庁 - By suitably moving a first shade 32, a position of the cut-off line is moved vertically, and by suitably tilting the lighting fixture unit 20 vertically, the whole light distribution pattern is displaced vertically, and by this, the light irradiation is carried out with the light distribution pattern and the irradiation angle corresponding to the traveling situation of the vehicle.
第１シェード３２を適宜移動させてカットオフラインの位置を上下動させるとともに、灯具ユニット２０を上下方向に適宜傾動させて配光パターン全体を上下方向に変位させ、これにより車両走行状況に応じた配光パターンおよび照射角度で光照射を行う。 - 特許庁 - As the reflection grid group 6C comprises a reflection grid 63 consisting of a light transmitting slit pattern and a reflection grid 64 consisting of a light reflection slit pattern, a reverse signal can be obtained from the photodiode group 4C for receiving these reflection light image and the origin position of the moving grid plate 5 can be differentially detected based on them.
反射格子群６Ｃは光透過スリットパターンからなる反射格子６３と光反射スリットパターンからなる反射格子６４を備えているので、これらの反射光像を受光するホトダイオード群４Ｃからは反転信号が得られ、これらに基づき移動格子板５の原点位置を差動検出できる。 - 特許庁 - To provide a fluorescent pattern detector, with which only the fluorescent pattern of a specic fluorescent material in a plurality of kinds of fluorescent materials having different light emitting wavelength bands can be selectively detected and lowering of a detecting signal level caused by lowering in the light emitting intensity of a light source can be corrected in simple configuration.
この発明は、簡単な構成により、発光波長帯域の異なる複数種類の蛍光物質のうち特定の蛍光物質の蛍光パターンだけを選択的に検出でき、光源の発光強度の低下に起因した検出信号レベルの低下を補正できる蛍光パターン検出装置を提供することを課題とする。 - 特許庁 - In a display microcomputer, inputted signal levels are detected, a light emitting pattern of LEDs is beforehand stored for every signal level and the light emitting conditions of the LED groups are controlled based on the signal levels detected by a level detecting section and the light emitting patterns stored in a pattern storage section.
表示マイコンにおいて、入力する信号レベルを検出し、各信号レベルごとにそれぞれ対応し、各ＬＥＤの発光パターンを予め記憶しておき、レベル検出部により検出された信号レベルと、パターン記憶部に記憶された発光パターンと、に基づいてＬＥＤ群の発光状態を制御する制御する。 - 特許庁 - In the device for optical information reproduction which can reproduce media where an interference pattern generated when signal light and reference light are superposed is recorded, and reproduces information using holography, when information is reproduced, reference light is radiated to the media with ranging reference light angle, the reference light is diffracted by the interference pattern to generate reproduction light, the reproduction light is detected by a photodetector, and signal processed, to reproduce information.
信号光と参照光とを重ね合わせた時に生じる干渉パターンが記録された媒体を再生することが可能な、ホログラフィを利用して情報を再生する光情報再生装置において、情報の再生時には、幅を持った参照光角度で参照光を媒体に照射し、前記参照光が前記干渉パターンで回折されて再生光を生成し、前記再生光を光検出器で検出し、信号処理することで情報を再生することを特徴とする、光情報再生装置で解決できる。 - 特許庁 - At the time of position detection for detecting the projected image of the first reticle pattern RP1 through the first sensor pattern, light quantity change within a region whose area is fixed in the projected image of the second reticle pattern RP1 is monitored through the second sensor pattern, and the result of the position detection is specified based on the monitored result.
前記第１レチクルパターンＲＰ１の投影像を前記第１センサパターンを介して検出する位置検出時には、前記第２センサパターンを介して前記第２レチクルパターンＲＰ１の投影像における一定面積の領域内の光量変化を監視し、その監視結果に基づいて前記位置検出の結果を規格化する。 - 特許庁 - The method for analyzing pattern failure includes: exposing of a substrate with exposure light through an optical member under a predetermined exposure condition; detecting information of the pattern formed on the substrate by exposure; and analyzing a cause of the pattern failure formed on the substrate based on the exposure condition and pattern information.
パターン欠陥の解析方法は、所定の露光条件で光学部材を介して基板を露光光で露光することと、露光によって基板に形成されたパターンの情報を検出することと、露光条件とパターンの情報とに基づいて、基板に形成されたパターンの欠陥の原因を解析することとを含む。 - 特許庁 - The image forming device sets a threshold value for determining whether the light amount detected from the formed color shift detection pattern is detected from the color shift detection pattern or is detected from the source other than the color shift detection pattern according to the length in the sub-scanning direction of the derived color shift detection pattern of each color.
また、画像形成装置は、形成した色ずれ検出パターンから検出された光量が色ずれ検出パターンから検出された光量か色ずれ検出パターン以外のものから検出された光量かを判別するための閾値を、導出した各色ずれ検出パターンの副走査方向の長さに応じて設定する。 - 特許庁 - This method of manufacturing a wiring board includes a sheet-forming step of forming an insulating sheet, a pattern forming step of forming a predetermined pattern on the insulating film by using photosetting photosensitive paste by means of screen printing method, and an exposing step of curing the pattern by projecting light toward the pattern.
本製造方法は、絶縁性シートを形成するシート作成工程と、上記絶縁性シートに、スクリーン印刷法により、光により硬化する感光性ペーストを、予め定められたパターンに形成するパターン形成工程と、上記パターンに向けて露光することで該パターンを硬化させる露光工程と、を備える。 - 特許庁 - The apparatus includes a computer 7 which detects the position of an underlay wiring pattern by monitoring the underlay wiring pattern formed on the substrate 11 by irradiation with light, and corrects pattern data to be inputted to the mirror elements of the DMD 5 based on the detection result so as to correct an exposure position for forming an overlay pattern.
基板１１に形成された下層配線パターンを光の照射にてモニターすることにより下層配線パターンの位置を検出し、かつ検出結果に基づいて、ＤＭＤ５の各ミラー素子に入力するパターンデータを補正することにより上層パターンを形成するための露光位置を補正するコンピュータ７を有する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which provides a pattern showing good exposure latitude (EL) and pattern profile in a pattern forming process with excimer laser light not only by normal exposure (dry exposure) but by immersion exposure, and to provide a method for forming a pattern using the composition.
エキシマレーザー光によるパターン形成において、通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光ラティチュード（EL：Exposure Latitude）、パターンプロファイルが良好なパターンを得ることができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - By laminating holograms having different diffusing characteristic such as the hologram diffusing body for controlling an illumination pattern and the diffraction grating for controlling scattering intensity in the illumination pattern, the diffuse reflection plate having such scattering characteristic that the illumination pattern exists in scattered light and the scattering intensity is uniform in the pattern is obtained.
照明パターンの制御をするホログラム拡散体や照明パターン内の散乱強度を制御する回折格子など異なる拡散特性を持つホログラムを積層することにより、散乱光に照明パターンがありかつパターン内で散乱強度が一様となるような散乱特性を持つ拡散反射板が得られる。 - 特許庁 - A method for forming a pattern comprises: forming a resist film on a substrate or a layer to be processed; transferring a pattern onto the resist film by using a photomask in which the dimension of a mask pattern is defined in accordance with a reflectance for light of a base layer of the resist film; and developing the resist film to form a resist pattern.
基板上又は被加工層上にレジスト膜を形成し、前記レジスト膜の下地層の光反射率に応じてマスクパターンの寸法を規定したフォトマスクを用いて前記レジスト膜にパターンを転写し、前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - In this case, by successively setting the phase modulation pattern of the phase modulator in accordance with the data pattern in the signal light, the phase can be modulated while successively setting the phase modulation pattern in consideration of the intersymbol interference in accordance with the data, insted of the conventional manner using the phase mask with a fixed phase modulation pattern.
このとき、信号光内のデータパターンに応じて位相変調器の位相変調パターンを順次設定することで、従来のような固定の位相変調パターンによる位相マスクとされる場合とは異なり、符号間干渉を考慮した位相変調パターンをデータに応じて逐次設定して位相変調を行うことができる。 - 特許庁 - The laser light in a pattern reflected by two-dimensionally arranged micromirrors 106 controlled based on the mask data of a mask pattern data output device 107 forms an enlarged pattern 110, which is reduced and projected by a reduction projecting optical system 102 onto a mask substrate 109 to form a drawn pattern 111.
マスクパターンデータ出力装置１０７のマスクデータに基づいて制御されている二次元配列微小ミラー１０６で反射するパターン状のレーザ光は、拡大パターン１１０を形成し、これを縮小投影光学系１０２によってマスク基板１０９上に縮小投影して、描画パターン１１１が形成される。 - 特許庁 - The pattern forming apparatus 1 is equipped with: a stage 3 to hold a substrate 9; an injection part 52 to inject a pattern forming material containing a photosetting resin onto the substrate 9 to temporarily form the pattern; a light emitting part 53 to irradiate the temporarily formed pattern with UV rays; and a diffusing plate 55 to diffuse the UV rays.
パターン形成装置１は、基板９を保持するステージ３、基板９に向けて光硬化性樹脂を含むパターン形成材料を吐出してパターンを仮形成する吐出部５２、仮形成されたパターンに向けて紫外線を照射する光出射部５３、および、紫外線を拡散する拡散板５５を有する。 - 特許庁 - To provide a thickening material of a resist pattern, the material allowing ArF laser light to be used, capable of thickening a resist pattern without depending on the size only by applying the material on a resist pattern such as lines of an ArF resist or the like, and capable of efficiently and easily forming a fine space pattern beyond the exposure limit at a low cost.
ＡｒＦレーザー光を利用でき、ＡｒＦレジスト等のライン系等のレジストパターン上に塗布等するだけで、そのサイズ依存性なく厚肉化可能で、露光限界を超えて微細なレジスト抜けパターン等を低コストで簡便に効率良く形成可能なレジストパターン厚肉化材料等の提供。 - 特許庁 - The method for inspecting the pattern formation member includes: preparing a pattern formation member 1 having a pattern 3 to be transferred onto a material to be transferred and a plasmon resonance structure 4; irradiating the plasmon resonance structure 4 with light; measuring absorption characteristics of the plasmon resonance of the plasmon resonance structure 4; and inspecting a pattern 3 according to the absorption characteristics.
被転写材料に転写すべきパターン３とプラズモン共鳴構造体４とを有するパターン形成部材１を準備し、プラズモン共鳴構造体４に光を照射してプラズモン共鳴構造体４のプラズモン共鳴の吸収特性を計測し、吸収特性に基づいてパターン３を検査する。 - 特許庁 - To provide a resist pattern thickening material featuring that ArF laser light can be used, a resist pattern can be thickened without depending on its size by only applying the material on the resist pattern such as a line of an ArF resist or the like, and a fine resist cut-out pattern or the like exceeding the exposure limit can be easily and efficiently formed at a low cost.
ＡｒＦレーザー光を利用でき、ＡｒＦレジスト等のライン系等のレジストパターン上に塗布等するだけで、そのサイズ依存性なく厚肉化可能で、露光限界を超えて微細なレジスト抜けパターン等を低コストで簡便に効率良く形成可能なレジストパターン厚肉化材料等の提供。 - 特許庁 - The light in the shape of a pattern, penetrating the half mirrors 22M and 23M, displays the actual object, and a virtual image is formed at a place displaced from the actual object as the light is reflected between the half mirrors 22M and 23M.
図柄形状の光は、ハーフミラー（２２Ｍ，２３Ｍ）を透過して実物を表示するともに、各ハーフミラー（２２Ｍ，２３Ｍ）間で反射して実物とズレた位置に虚像を形成する。 - 特許庁 - While the alignment mark 10 is superposed upon the reference mark 20 and parallel light rays are projected from the upper surface of the mark 10, the light quantity at the position corresponding to each pattern is detected on the lower surface of the reference mark 20.
両マーク１０，２０を重ね合わせ、アライメントマーク１０の上面から平行光を照射し、基準マーク２０の下面で各パターンに対応する位置での光量を検出する。 - 特許庁 - To provide a vehicle lighting apparatus in which, without using a reflecting mirror, a red color group in an outer circumference of a light distribution pattern can be mitigated to make it closer to white and a more uniform light can be produced.
反射鏡を利用することなく、配光パターンの外周の赤色系を緩和して白色に近づけ、より均一な光を作り出すようにした車両用灯具を提供する。 - 特許庁 - Also, the image is displayed on the transmissive double-sided light emitting panel 15, and the light shielding pattern of the same shape as that of the previous image is displayed in the same position as the position where the image is displayed on the sub-panel 16.
また、透過型両面発光パネル１５に画像を表示し、サブパネル１６に前記画像と同じ形の遮光パターンを前記画像が表示された位置と同じ位置に表示する。 - 特許庁 - To provide a 3D panel board for use in a light emitting panel device, which clarifies the 3D effect by causing a prescribed pattern comprising an irregular structure to stand out when a panel body is irradiated with light.
パネル本体に光線が照射されたときに、凹凸構造から成る所定のパターンを浮き立たせ、３Ｄ効果を明瞭化する発光パネル装置に用いる３Ｄパネル版を提供する。 - 特許庁 - Each light emitting diode 18R, 18G, 18B is sealed in a transparent resin 20, and a light diffusing pattern 21R, 21G, 21B is provided on the surface of each transparent resin 20.
各発光ダイオード１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂは、透明樹脂２０内に封止されており、各透明樹脂２０の表面には光拡散パターン２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂが設けられている。 - 特許庁 - To provide a new light absorbent used as an organic anti-reflective layer absorbing reflected light generated in exposure, in a hyperfine pattern forming lithography process.
超微細パターン形成リソグラフィー工程において、露光時に発生する反射光を吸収できる有機反射防止膜として用いることができる新規な吸光剤等を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an electric field light-emitting element wherein a layer including a light-emitting region can be formed in a prescribed pattern with a superior precision, stability and reliability, and provide a solution dropping device.
発光領域を含む層を精度、安定性及び信頼性良く所定パターンに形成できる電界発光素子の製造方法及び溶液滴下装置を提供すること。 - 特許庁 - The other pattern element 53B is also disposed so that a direction of a normal line raised on its light reflecting face becomes parallel with a direction linking to the corresponding light source 33B in a plane view.
他方の偏向パターン素子５３Ｂも、平面視で、その光反射面に立てた法線の方向が、対応する光源３３Ｂと結ぶ方向と平行となるように配置される。 - 特許庁 - A control unit calculates average intensity Bave[n] representing received light intensity of [0] data for each reference pattern, and average intensity Wave[n] representing received light intensity of [1] data.
制御部は、参照パターン毎に、「０」データの受光強度を代表する平均強度Ｂａｖｅ［ｎ］、および「１」データの受光強度を代表する平均強度Ｗａｖｅ［ｎ］を算出する。 - 特許庁 - To provide a headlamp for a vehicle which can irradiate a light of high luminance to a hot zone in the light distribution pattern of a headlamp for the vehicle and which has low power consumption.
車両用前照灯の配光パターンにおけるホットゾーンに輝度の高い光を照射することができると共に、消費電力の低い車両用前照灯を提供する。 - 特許庁 - Converging light distribution pattern SP can be changed with respect to fixed standard light distribution patterns LP and HP by rotating a lower reflector 3 with respect to the middle reflector 2.
下側リフレクタ３を中側リフレクタ２に対して回転させることにより、固定された基準配光パターンＬＰ、ＨＰに対して、集光配光パターンＳＰを変化させることができる。 - 特許庁
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