The vehicle control part 302 and the irradiation control part 228 lengthen the detection time of the preceding vehicle than the case where it is switched to the light distribution pattern that an irradiation range becomes narrower when it is switched to the light distribution pattern that the irradiation range becomes larger till then. 車両制御部302および照射制御部228は、照射範囲がそれまでより広くなる配光パターンに切り替える場合には、照射範囲が狭くなる配光パターンに切り替える場合よりも前走車の検出時間を長くする。 - 特許庁
The control part forms the right-piece-high light distribution pattern Hi3 and the left-piece-high light distribution pattern Hi2, and, at the same time, combines the first irradiation area Hi3a and the second irradiation area Hi2a. 制御部は、車両用灯具をハイビーム状態とする際、右片ハイ用配光パターンHi3および左片ハイ用配光パターンHi2を形成するとともに第1照射領域Hi3aと第2照射領域Hi2aとを連結させる。 - 特許庁
The surface electrode layer 20 of the sample 14 is formed in a fine electrode pattern and when light is projected upon the layer 20 from a spot above the sample 14, the light reaches the sample 14 through the void sections (through which the sample is exposed) of the electrode pattern. 試料14の表面電極層20は微細な電極パターンからなり、試料14の上方から光を照射すると、微細な電極パターンの隙間の部分(試料が露出している部分)から光が試料14に到達する。 - 特許庁
This pattern forming method is employed for forming bump-like matters in an exposed region of the recording material having the recording layer including the diazonium salt compound on a support through a pattern-wise irradiation with laser light or with a light-emitting diode. 支持体上にジアゾニウム塩化合物を含有する記録層を有する記録材料に、レーザー光又は発光ダイオードによりパターン状に光照射を行い、露光領域に突起形状物を形成させることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁
The lamp structure is provided by coating the peripheral surface of a transparent tube 3 with a fluorescent material 9 in scattering pattern of mesh or scattered dots or in shading pattern, and then filling the transparent tube 3 with an excitation light-emitting material such as a light-emitting diode 6. 透明管3の周面に蛍光体9を網状あるいは散点状の散在パターンまたは濃淡パターンで塗布し、透明管3内に発光ダイオード6のような励起発光体を封入したランプ構造物が提供される。 - 特許庁
When a resist layer formed on a substrate is exposed to transfer a wiring pattern by an exposure apparatus 3, the irradiation energy of light irradiating an edge area of the wiring pattern is controlled to be higher than the irradiation energy of light irradiating other regions, other than the edge region. 露光装置3により基板に形成されたレジスト層に配線パターンを露光する際に、配線パターンのエッジ領域に照射される光の照射エネルギをエッジ領域以外の他の領域に照射される光の照射エネルギより大きくする。 - 特許庁
Consequently, even in such a case that the top section of the pattern becomes extremely narrower in width than a designed value in a fine pattern portion or is not left, the edge sections are irradiated with light and reflected light rays from the edge sections are received by means of a one-dimensional CCD element 11. これにより、ファインパターン部分においてトップ部が設計値よりも極端に細くなったり、トップ部が残っていないような場合であっても、エッジ部に対して光が照射され、その反射光が1次元CCD素子11で受光される。 - 特許庁
As a result, the error, caused by manufacturing variations and aging effect, of an optical engine 1 of the light distribution pattern P5 emitted from the light deflector 2 can initially be corrected, and the initializing function for the pattern P5 is provided for this digital lighting system for a vehicle. この結果、光学エンジン1の製造ばらつきや経時劣化に伴なう反射型デジタル光偏向装置2から照射される配光パターンP5の誤差を初期補正することができ、配光パターンP5のイニシャライズ機能を有することとなる。 - 特許庁
The first metal layer 23 has a patterning in a prescribed shape and is composed of a circuit pattern 231 connected electrically to the light emitting device 4 and a heat radiating pattern 232 having a function to radiate heat generated by the light emitting device 4. 第1の金属層23は、所定形状にパターニングされ、発光装置4と電気的に接続された回路パターン231と、発光装置4で発生した熱を放熱するための機能を有する放熱用パターン232とで構成されている。 - 特許庁
The light-emitting device 1 has an illuminant 2 arranged in the circumference position of the figure pattern display device 12 of the game machine and a transparent or translucent light transmitting plate 3 which covers a part on the front side of the figure pattern display device 12 adjoining the illuminant 2. 発光装置1は、遊技機の図柄表示装置12の周縁位置に配設される発光体2と、発光体2に隣接され図柄表示装置12の前側の一部を覆う透明または半透明の光透過板3を有している。 - 特許庁
Thereby, an additional light distribution pattern is added which irradiates the diagonally front road surface of the vehicle widely from a distant region to the this-side region with brightness having no large brightness difference to the relatively dark portion of the side edge of a basic light distribution pattern. これにより、基本配光パターンの側端縁の比較的暗い部分に対して大きな明暗差がない明るさで車両斜め前方路面を遠方領域から手前側領域まで幅広く照射する付加配光パターンを付加する。 - 特許庁
To provide a reflective photo mask which has sufficiently low exposure reflectivity with respect not only to EUV light but also to DUV light during pattern inspection, and has a sufficient reflectivity contrast and therefore can perform extremely precise inspection and mask pattern transfer. EUV光露光反射率のみならず、パターン検査におけるDUV光露光反射率が十分に低く、十分な反射率コントラストが得られ、精度の高い検査及び精度の高いマスクパターン転写が可能な反射型フォトマスクを得る。 - 特許庁
Next, a second wiring layer 6b is formed on the non-light-receiving section of the second flattening layer 5b provided on the first wiring layer and the first dummy pattern, and a second dummy pattern 10b is formed on the light-receiving section of the second flattening layer. 次に第1の配線層及び第1のダミーパターン上に設けられた第2の平坦化層5bの非受光部上に第2の配線層6bを形成すると共に、第2の平坦化層の受光部上に第2のダミーパターン10bを形成する。 - 特許庁
The CPU 120 corrects a pattern image for adjustment based on the calculated light valve white area Sq to rewrite the content of a pattern image memory 107 and designates an image processing part 108 and a liquid crystal light valve driving part 110 or the like to project the image. CPU120は算出したライトバルブ白色面積Sqに基づき、調整用パターン画像を修正して、パターン画像メモリ107の内容を書き換え、画像処理部108,液晶ライトバルブ駆動部110などに画像投射を指示する。 - 特許庁
To solve a problem wherein, since various kinds of paper are used for documents mounted on a document base depending on users, and light reflectivity of gloss paper or color paper is different from that of general paper, when a paper pattern is always registered and checked with the same light intensity, it leads to erroneous determination of the paper pattern. ユーザにより原稿台に置かれた原稿の紙種はさまざまであり、光沢紙やカラー用紙と普通紙とでは光の反射率が異なるので、常に同じ光量で紙紋の登録、照合を行うと、紙紋の誤判定につながる。 - 特許庁
Also, a third conductive pattern 4 is electrically connected to the back surface electrode of the light emitting element 10 through a gold ball 12, and a fourth conductive pattern 5 is electrically connected to the back surface electrode of the bisected light receiving element 11 through the gold ball 13. また、発光素子10の裏面電極に金ボール12を介して第3の導電パターン4を電気接続すると共に、二分割受光素子11の裏面電極に金ボール13を介して第4の導電パターン5を電気接続する。 - 特許庁
The light emitting module 10A mainly includes: a metal substrate 12; a conductive pattern 14 formed on the upper surface of the metal substrate 12; and a light emitting element 20 disposed on the upper surface of the metal substrate 12 and electrically connected to the conductive pattern 14. 発光モジュール10Aは、金属基板12と、金属基板12の上面に形成された導電パターン14と、金属基板12の上面に配置されると共に導電パターン14に電気的に接続された発光素子20とを主要に具備する。 - 特許庁
An optical transmitter DU converts additional data into data representing a flickering pattern based on an array structure of LEDs in a light emitting array 41, and emits visible light by driving the LEDs in accordance with the flickering pattern. 光送信装置DUにおいて、発光アレイ41における各LEDの配列構造に基づいて追加データを点滅パターンを表すデータに変換し、この点滅パターンに従い上記各LEDを発光駆動して可視光を発光させる。 - 特許庁
An information code reader 20 is configured so as to detect the position detection pattern of a QR code Q on the basis of light-receiving results by a light-receiving sensor 23 and to calculate the luminance of bright color cells and dark color cells of the detected position detection pattern. 情報コードリーダ20は、受光センサ23による受光結果に基づきQRコードQの位置検出パターンを検出し、その検出された位置検出パターンの明色セル及び暗色セルの輝度を求める構成をなしている。 - 特許庁
The information light is reproduced from the recording medium in which the interference fringes are previously recorded, the parallel and flat plates 48 and 49 are rotated so that density of the pattern image of the reproduced information light is made high and the position in which the best reproduced pattern image is obtained is determined. 予め干渉縞が記録された記録媒体から情報光を再生し、再生された情報光のパターン像の濃度が高くなるように平行平面板48,49を回動し、最良の再生パターン像が得られる位置を決定する。 - 特許庁
In the case of replacing a normal photomask with a resist mask, in setting of a plane dimension of a light shielding pattern 2 composed of a resist film, correction of subtracting a correction amount L from the plane dimension of the light shielding pattern 2 composed of a metal corresponding to it is performed. 通常のフォトマスクからレジストマスクに置き換える場合には、レジスト膜からなる遮光パターン2の平面寸法の設定において、これに対応するメタルからなる遮光パターン2の平面寸法から補正量Lを差し引く補正を行う。 - 特許庁
An exposure pattern determination means 15 determines positions, shapes and transmitted light volumes of openings of the reconstructible mask 5 used for exposure on the basis of information capable of specifying the exposure region of the exposure object 7 so as to decide the exposure pattern, and the exposure device 1 exposes the exposure object 7 to light according to the exposure pattern determined by the exposure pattern determination means 15. 被露光対象物7における露光領域を特定可能な情報に基づいて、露光パターン決定手段15が再構成可能マスク5の露光に使用される各開口部の位置、各開口部の形状及び各開口部の光の透過量を決定して露光パターンを決定し、露光装置1は決定された露光パターンに従って被露光対象物7を露光する。 - 特許庁
In an exposing method of projecting an exposure light image of a pattern formed on a mask onto a substrate to form a transfer pattern of the pattern on the substrate, the transfer pattern is measured, and the exposure light image is adjusted according to a mask expansion/contraction correction value calculated based on a mask expansion/contraction variation amount calculated by correcting a predetermined contribution amount when projected for a result of measurement. マスクに設けられたパターンの露光光像を基板に投影して前記基板に前記パターンの転写パターンを形成する露光方法であって、前記転写パターンを計測し、この計測結果に対して投影時の所定の寄与分を補正して算出されたマスクの伸縮変動量に基づいて算出されたマスク伸縮補正値に応じて前記露光光像を調整する。 - 特許庁
A step for preparing the photomask provided with a first photomask pattern used for forming the protrusion and constituted of a pattern having a first shape consisting of a plurality of light shielding units and a second photomask pattern used for forming the spacer and constituted of a light shielding pattern having a second shape is performed and then a step for exposing and developing the photoresist layer using the photomask is performed. 突起を形成するのに用いられ、複数の遮光ユニットからなる第1形状を有するパターンから構成される第1フォトマスクパターンと、スペーサを形成するのに用いられ、第2形状を有する遮光パターンから構成される第2フォトマスクパターンとを備えてなるフォトマスクを準備するステップを行った後、このフォトマスクを用いてフォトレジスト層に露光現像を施すステップを実行する。 - 特許庁
To provide a method for forming a resist pattern by which ArF (argon fluoride) excimer laser light can be used as exposure light upon patterning, a resist pattern can be stably made thick to a desired thickness without depending on the size, and a fine resist cut-out pattern can be inexpensively, easily and efficiently formed over the exposure limit (resolution limit) of a light source of an exposure device. パターニング時に露光光としてArF(フッ化アルゴン)エキシマレーザー光をも利用可能であり、レジストパターンをそのサイズに依存することなく、所望の厚みに安定的に厚肉化することができ、露光装置の光源における露光限界(解像限界)を超えて微細なレジスト抜けパターンを低コストで簡便に効率よく形成可能なレジストパターンの形成方法等の提供。 - 特許庁
The laser beam detecting means includes: diffraction optical elements 103a and 103b which shape the defected and scanned laser beams into a pattern consisting of dots or lines; and a plurality of light receiving elements PD1 and PD2 for detecting the pattern, wherein the plurality of light receiving elements have a light receiving face wider than the luminous flux width in a main scanning direction of dots or lines composing the pattern. レーザビーム検出手段は、偏向走査されるレーザビームをドットまたはラインからなるパターンに整形する回折光学素子103a,103bと、上記パターンを検出するための複数の受光素子PD1,PD2とを具備し、複数の受光素子は、上記パターンを構成するドットまたはラインの主走査方向光束幅よりも広い幅の受光面を有する。 - 特許庁
The mask for exposure used for transferring a desired pattern to the body to be exposed by reflecting obliquely incident exposure light comprises: a mask blank film 2 having operation for absorbing the exposure light; and a reflection film 3 having operation for reflecting the exposure light while being arranged on the mask blank film 2 in a pattern shape corresponding to a desired pattern. 斜め入射する露光光を反射して被露光体上に所望パターンを転写するために用いられる露光用マスクを、前記露光光を吸収する作用を有したマスクブランクス膜2と、前記所望パターンに対応するパターン形状で前記マスクブランクス膜2上に配され前記露光光を反射する作用を有した反射膜3と、を備えて構成する。 - 特許庁
To provide a technique capable of improving the dimensional accuracy of a transfer pattern in a lithography technique in which EUV light is used and the EUV light is incident obliquely on a mask having the pattern formed and an image of the EUV light reflected from the mask is formed on a semiconductor substrate (resist film) so as to transfer the pattern formed on the mask onto the semiconductor substrate. EUV光を使用し、かつ、パターンを形成したマスクに斜め方向からEUV光を入射した後、マスクから反射したEUV光を半導体基板(レジスト膜)上に結像させることにより、マスク上に形成されたパターンを半導体基板(レジスト膜)に転写するリソグラフィ技術において、転写パターンの寸法精度を向上することができる技術を提供する。 - 特許庁
A brightness and darkness boundary forming part 41C which cuts off a part of the reflection light from a reflector 34 for reflecting frontward the direct light from the light source 12a and forms a cut-off line CL of the light distribution pattern is formed at the front end part of the brightness and darkness boundary formation board 41. 光源12aからの直接光を前方に反射するリフレクタ34からの反射光の一部を遮蔽して配光パターンのカットオフラインCLを形成する明暗境界形成部41Cが、明暗境界形成板41の前端部に形成される。 - 特許庁
To provide an exposure apparatus which can faithfully transfer a mask pattern to a photosensitive substrate surface with higher throughput by using a light source unit which can collect the light beam without absorption by plasma of the EUV light beam reflected by an auxiliary light condensing mirror. 補助集光ミラーで反射されたEUV光がプラズマにより吸収されずに集光される光源ユニットを用いて、マスクパターンを感光性基板上に忠実に且つ高スループットで転写することのできる露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
An imaging section 2 carries out photography at a low frame rate, a light source detector 3 detects a visible light communication light source from temporary variation of an image photographed at the imaging section 2, and a low-rate data demodulator 4 demodulates data from the on/off pattern of that light source. 撮像部2は、低速フレームレートで撮影を行い、光源検出部3は、撮像部2で撮影された画像の時間的な変化より可視光通信光源を検出し、低速データ復調部4は、その光源の点滅パターンよりデータを復調する。 - 特許庁
Since each light transmitting/blocking part 4 has a different light transmitting/blocking pattern in a direction perpendicular to a direction A of movement, it is possible to specify a light transmitting/blocking part 4 positioned over the light receiving region 100 on the basis of optical intensity profile data V_Y(m). ここで、各光透過/遮断部4は、移動方向Aに垂直な方向において光の透過/遮断パターンが異なるため、光強度プロファイルデータV_Y(m)に基づき、受光領域100上に位置する光透過/遮断部4を特定することができる。 - 特許庁
When the respective movable shades move from the left (right) direction, that is, from a light shielding release position to a light shielding position, the light source on the left (right) side is switched off in the moving range up to the vicinity of its optical axis, so that the right (left) side light distribution pattern PAR (PAL) is not formed. 各可動シェードが遮光解除位置から遮光位置へ向けて左(右)方向へ移動する際、その光軸近傍までの移動区間では、左(右)側の光源を消灯して、右(左)側の配光パターンPAR(PAL)を形成しないようにする。 - 特許庁
To provide an intraoral imaging apparatus having an illumination field generator that forms an illumination beam having a contour fringe projection pattern when receiving light from a first light source and having a substantially uniform illumination field when receiving light from a second light source. 第1の光源から光を受けたときに輪郭干渉縞投影パターンを有し、第2の光源から光を受けたときに実質的に一様な照明場を有する照明光線を形成する照明場発生器を有する口腔内撮像装置を提供する。 - 特許庁
To make a light distribution pattern for a high beam formed by an irradiation light have superior distant visibility in addition to a constitution of beam switching of a low beam and a high beam in a projector type vehicular headlight unit in which a light-emitting element is a light source. 発光素子を光源とするプロジェクタ型の車両用前照灯ユニットにおいて、ロービームとハイビームとのビーム切換えを行い得る構成とした上で、その照射光により形成されるハイビーム用配光パターンを遠方視認性に優れたものとする。 - 特許庁
To provide a vehicular lighting fixture with high color rendering property, which prevents color unevenness of illumination light caused by color scattering in a light guide for forming a designated light-distributing pattern with an optical system using the light guide (or lens having a reflecting surface for internal reflection). ライトガイド(内部反射させる反射面を有するレンズ体)を用いた光学系により所定の配光パターンを形成する場合に、ライトガイドにおける色分散による照明光の色ムラを防止し、演出性の高い車両用灯具を提供する。 - 特許庁
In a vehicular headlight, a reflector 24 forms a light-distribution pattern PA for a hot zone having a first cut-off line CL1 and a second cut-off line CL2 with a mutual angle by reflecting light emitted from a light-emitting module having a plane light-emitting surface. 車両用前照灯において、リフレクタ24は、平面上の発光面を有する発光モジュールが発した光を反射して、互いに角度を持つ第1カットオフラインCL1および第2カットオフラインCL2を有するホットゾーン用配光パターンPAを形成する。 - 特許庁
The lighting fixture 1 generates illumination light of a light distribution pattern for a low-beam lamp and includes an LED light source 30 and a lens 10 serving as a light guide, the lens 10 being formed with an entrance surface 12, a reflecting surface 16, and an exit surface 18. 車両用灯具1は、すれ違い光用の配光パターンの照明光を照射するもので、LED光源30と、ライトガイドであるレンズ体10とを備え、レンズ体10には、入射面12、反射面16、出射面18が形成されている。 - 特許庁
To provide a structure for irradiating at a wide range while maintaining a compact size in a vehicular lighting fixture having an optical system wherein a light distribution pattern is formed with reflected light only made by reflecting light emitted from a light source with a reflecting surface. 光源から出射された光が反射面で反射されてなる反射光のみによって配光パターンを形成する光学系を備えた車両用灯具において、小型化を維持しながら広範囲の照射を可能とする構成を提供することにある。 - 特許庁
The signal generating circuit performs frequency modulation and light quantity modulation on the light emitting pattern so that the quantity of the detection light radiated from the light emitting unit is one of three or more different values but not "0" during a detection period T. 信号発生回路は、検出期間Tにおいて発光部から照射される検出光の光量が互いに異なる3値以上の値のいずれかとなり、かつ、当該光量が「0」とならないように、発光パターンの周波数変調および光量変調を行う。 - 特許庁
Thus, the one information recording region 7 is continuously irradiated with the information light and the referential light for recording for a prescribed period, and the information is recorded in the information recording region 7 by the interference pattern produced by the interference between the information light and the referential light for recording. これにより、所定の期間、1つの情報記録領域7に情報光および記録用参照光が照射され続け、この情報記録領域7に、情報光と記録用参照光との干渉による干渉パターンによって情報が記録される。 - 特許庁
The lamp for a vehicle is provided with a first reflector 6 for reflecting light L3 from a light source bulb 5 arranged on a side in a lamp chamber 4 and a second reflector 7 for obtaining a predetermined light distribution pattern by reflecting reflected light L4 from the first reflector 6 to a lens 3 side. 灯室4内の側方に配置され、光源バルブ5からの光L3を反射させる第1リフレクタ6と、第1リフレクタ6からの反射光L4をレンズ3側に反射させて所定の配光パターンが得られる第2リフレクタ7とを備える。 - 特許庁
The first emitting surface includes a first area and a second area, emits guided light out of the light entered through the incident surface and guides the light entered through a first light control pattern formed in the second area toward the first area. 第1出射面は、第1領域と第2領域を具備して入射面を通じて入射された光のうち、ガイドされた光を出射するものの、第2領域に形成された第1光制御パターンを通じて入射された光を第1領域の方にガイドする。 - 特許庁
The optical transmission and reception module is configured by mounting one or more light-emitting elements or light-receiving elements on the sub-mount and is characterized in that the light-emitting element or light-receiving element is electrically connected to the base portion and electrode pattern on the sub-mount by die bonding or wire bonding. 該サブマウントに一つ以上の発光素子又は受光素子が実装されてなり、該発光素子又は受光素子がダイボンドやワイヤボンドでサブマウント上のベース部分と電極パターンとに電気的に接続していることを特徴とする光送受信モジュール。 - 特許庁
With a non-light-incident peripheral area (20s (L6, R6)) into which light from the front filament 18a is blocked from entering by the light shielding action of the outer shade 22, light from the rear filament 18b is reflected toward the center part of the high-beam distribution pattern to form a hot zone. このアウタシェード22の遮光作用で前部フィラメント18aからの光が入射しない光非入射周縁領域(20s(L6、R6))により、後部フィラメント18bからの光をハイビーム配光パターンの中心部へ向けて反射させ、ホットゾーンを形成する。 - 特許庁
At a position opposed to the light incident face 46 of the light guide plate 42, a prism sheet 45 is arranged, while at a position opposite to a face in which a deflection pattern 47 is formed on the opposite side to the light incident face 46 of the light guide plate 42, a reflecting plate 44 is arranged. 導光板42の光入射面46と対向する位置にはプリズムシート45を配置し、導光板42の光入射面46と反対側の偏向パターン47を形成された面と対向する位置には反射板44を配置する。 - 特許庁
Output information generation parts 304 of respective LED signals 30 and 31 each read and code signal information coded by "1" and "0" to output light P having a time series luminance change pattern by a red light 300, yellow light 301 or blue light 302. LED式信号機30、31の送出情報生成部304は、“1”及び“0”でコード化された信号機情報を取り出して符号化し、赤灯300、黄灯301、青灯302にて時系列的な輝度変化パターンを持つ光Pを出力する。 - 特許庁
To provide a vehicle headlight capable of enhancing light flux utilization efficiency with the good use of direct light irradiated from a light source bulb toward a shade in front for frontward irradiation, and obtaining a bright light distribution pattern without increasing consumption power. 光源バルブから前方のシェードに向かって出射された直接光を前方照射に活用して、光束利用効率を高めることができ、消費電力を増やさずともより明るい配光パターンを得ることのできる車両用前照灯を提供する。 - 特許庁
In light obtained by reflecting displayed light emitted from the display screen 108 of the special pattern display device 106 by the glass panel 22, the part of the reflected light of displayed light DL emitted from a display surface in a vertical direction is no longer incident onto the CMOS camera 200. 特別図柄表示装置106のディスプレイ画面108から照射された表示光がガラス板22で反射した光のうち、表示面から垂直方向へ照射された表示光DLの反射光分はCMOSカメラ200へ入射しなくなる。 - 特許庁
The repetitive optical structure is illuminated by the light source for formation of a fringe pattern (similar to Laser Doppler Anemometry), and/or, an object is illuminated by the light source and the repetitive optical structure diverts light from the illuminated object onto light sensors. 反復式光学構造は光源によって照明され、フリンジパターン(レーザドプラー風力測定法に似た)を形成し、そして/又は対象物が光源により照明され、反復式光学構造は、照明された対象物からの光を光センサの上へ導く。 - 特許庁