「nm」を含む例文一覧(14378)

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  • To provide a HID lamp diffusing light radiated from a lamp and having ability to prevent transmission of an ultraviolet with a wave length of 400 nm or less.
    ランプから放射される光を拡散し、かつ波長４００ｎｍ以下の紫外線の透過を抑止する能力を具備するＨＩＤランプを提供する。 - 特許庁
  • The thickness of the coat 2 is turned to be 300 nm or more, and the element ratio of iron and tin in the coat 2 is turned to be within the range of 1:1 to 6:1.
    被膜２の厚みを３００ｎｍ以上とし、被膜２における鉄とスズの元素比を１：１〜６：１の範囲内とすることを特徴とする。 - 特許庁
  • However, the lattice kinks 12 are previously formed on the substrate 1 whereby the strain of the film 2 can be mitigated sufficiently even when the thickness of the film 2 is in a degree of 100 nm.
    しかしながら、基板１に格子欠陥１２を予め形成しているので、膜２の厚さが１００nm程度でも、膜２の歪みが十分に緩和される。 - 特許庁
  • The light source 40 for illumination for AF has a wide band of 450 to 550 nm, thus the variation in the AF condition is suppressed even when the thickness of the resist film is not uniform.
    ＡＦ用照明光源４０は４５０〜５５０ｎｍの広帯域なのでレジストの膜厚にムラがあってもＡＦ状態の変動を抑制できる。 - 特許庁
  • In this case, the film forming speeds of at least the polycrystalline silicon layers 6a, 6b that are formed in the trench 4 are adjusted to be 0.5 nm/sec or slower.
    この場合、少なくとも溝４内に入り込んだ状態となる多結晶シリコン６ａ、６ｂの成膜速度は０．５ｎｍ／sec 以下となるように調整される。 - 特許庁
  • Original paper is coated or impregnated with a coating solution of which the main ingredients are a water-soluble polymer, colloidal silica having an average particle diameter of 10-25 nm and a sizing agent.
    原紙に、水溶性高分子と平均粒子径１０〜２５ｎｍのコロイダルシリカ、およびサイズ剤とを主剤とする塗工液を塗布または含浸する。 - 特許庁
  • Transmission devices N1 to Nm are each equipped with an IS information transmitting and receiving means 4a, an IS information analyzing means 4b, and an outgoing route selecting means 4c.
    各伝送装置Ｎ１〜Ｎｍに、ＩＳ情報送受信手段４ａと、ＩＳ情報解析手段４ｂと、出方路選択手段４ｃとを具備している。 - 特許庁
  • The grinding powder is characterized in that it is mainly formed of aggregate of crystalline metal with the means crystal grain diameter of 10 to 70 nm.
    この研削用粉末は、主として平均結晶粒径１０〜７０ｎｍの結晶質金属の集合物で構成されていることを特徴とする。 - 特許庁
  • To obtain an apparatus a method for X-ray beam exposure system, with which a pattern of high resolution can be obtained, using X rays within a range of 0.45 to 0.7 nm.
    ０．４５ｎｍ〜０．７ｎｍの範囲内のＸ線を用いて高解像度のパターンが得られるＸ線露光装置やＸ線露光方法を得ること - 特許庁
  • The compositions allows the top reflection control at 193 nm while providing ease of use by virtue of their solubility in aqueous alkaline developer solutions.
    この組成物は、１９３ｎｍにおける上面反射の制御を可能にすると共に、アルカリ性水溶液現像液への溶解性により用い易いものとなる。 - 特許庁
  • On the surface of the PS layer 22, a film of Au is deposited through a mask to 10 nm to form a thin-film electrode 23, thus completing an electric charge generating element.
    そして、ＰＳ層２２表面にＡｕをマスクデポにより１０ｎｍ成膜して薄膜電極２３を形成することで電荷発生素子が完成する。 - 特許庁
  • To provide a light emitting device comprising a combination of a stimulation source for generating light of 400 to 600 nm and a phosphor which is excellent in temperature characteristics and heat stability.
    ４００−６００ｎｍの光を発生する励起源と蛍光体を組み合わせ、温度特性及び熱安定性に優れた発光装置を提供する。 - 特許庁
  • The filler consists of hydrophobic silicon dioxide, and has a primary particle mean diameter of 8 to 13 (nm) and a specific surface area of 170±20 m^2/g.
    フィラーは、疎水性の二酸化ケイ素であり、一次粒子平均径が８〜１３（ｎｍ）、比表面積が１７０±２０ｍ^２／ｇであることが特徴である。 - 特許庁
  • In the formula (1), T0h(%) represents the transmission at 550 nm, immediately after preparation of the coating layer liquid.
    ｜Ｔ６ｈ（％）−Ｔ０ｈ（％）｜≦３０％ ・・・ 式（１）ただし、前記式（１）中、Ｔ０ｈ（％）は、被覆層液を調製した直後の５５０ｎｍにおける透過率を表す。 - 特許庁
  • The porous body is characterized in that a film of heat-resistant inorganic oxide fine particles with an average particle size is ≤10 nm is controlled to ≤3 Å in its average pore size.
    平均粒子径が１０ｎｍ以下の耐熱性無機酸化物微粒子の皮膜が、平均細孔径を３Å以下に制御した多孔体。 - 特許庁
  • A protruded secondary surface shape is formed of a protruded basic shape which may be connected with each other, the basic shape has 30 to 200 nm average height and 80 to 400 nm average diameter and arrangement of the basic shapes at the antireflection surface is substantially irregular.
    凸状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凸状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。 - 特許庁
  • In this artificial lawn having a granular layer formed by filling elastic granular bodies between the lawn threads embedded in a foundation cloth 2, the elastic granular body is formed in such a manner that the averaged spectral reflection factor in the wavelength area of 800-2,100 nm is larger than that in the wavelength area of 350-750 nm.
    基布２に植設された芝糸間に弾性粒状体を充填して粒状体層を設けた人工芝生において、前記の弾性粒状体を、波長８００〜２１００ｎｍ域の平均分光反射率が波長３５０〜７５０ｎｍ域の平均分光反射率より大きく形成する。 - 特許庁
  • In a catalyst including a porous carrier and a metal component carried on the porous carrier, the catalyst having the bimodal structure comprises the porous carrier having a macro pore with a pore diameter of 10 to 300 nm and a micro pore with a pore diameter of 1 to 10 nm by the layer of the metal component formed inside the macro pore.
    多孔質担体と該多孔質担体に担持された金属成分からなる触媒であって、該多孔質担体が細孔径１０〜３００ｎｍのマクロ細孔を有し、かつ該マクロ細孔内部に該金属成分の層による細孔径１〜１０ｎｍのミクロ細孔が形成されていることを特徴とするバイモダル構造触媒。 - 特許庁
  • Crystals of grains distributed between 0.5 nm or larger and 100 nm or smaller are deposited or dispersed, and in the grains band gaps due to quantum confinement effect are generated and at least a part of the grains gain electrical conductivity by supplying carriers.
    粒子の大きさが0.５nm以上１００nm以下の範囲内で分布する結晶が堆積または分散されてなるものとし、それら粒子においては量子閉じ込め効果によるバンドギャップが生成されると共に、少なくともその一部の粒子がキャリアを供給することで電気伝導性を得ているものとする。 - 特許庁
  • The manufacturing process is to manufacture an acrylic polymer composition containing acrylic polymer B containing an unsaturated carboxylic acid alkyl ester unit, an unsaturated carboxylic acid unit and a cyclic structure unit c and elastic particles C having a particle size of ≥10 nm and ≤1,000 nm and involves step (1) and step (2).
    不飽和カルボン酸アルキルエステル単位と不飽和カルボン酸単位と環化構造単位ｃとを含有するアクリル系ポリマーＢと、粒子径が１０ｎｍ以上１，０００ｎｍ以下である弾性体粒子Ｃとを含有するアクリル系ポリマー組成物の製造方法であって、下記工程（１）および工程（２）を経る方法とする。 - 特許庁
  • A resist film 122 is formed on the back face of BOE (binary optical element) 121 where a BOE structure is formed as shown in (a), and chromium 123 is vapor deposited on the BOE 121 having the BOE structure to form an island structure 124 having about 50 nm diameter with 80 nm pitch.
    (a)に示すようにＢＯＥ形状が成形されたＢＯＥ１２１の裏面にレジスト膜１２２を成膜し、ＢＯＥ形状の形成されたＢＯＥ１２１上にはクロム１２３を電子ビーム蒸着法を用いて、成膜することにより、直径約５０ｎｍ、間隔約８０ｎｍの島構造１２４を形成することができる。 - 特許庁
  • Each lighting 1 is set to have ≤26% of maximum spectroscopic energy in the wave length of 300-410 nm to the maximum spectroscopic energy in the wave length of ≥410 nm by installing a cylindrical short wave length light cut filter on a linear type fluorescent lamp.
    各照明器具１は、直管形の蛍光ランプにシリンダ状の短波長光カットフィルタを装着することで、波長が約３００ｎｍ以上且つ約４１０ｎｍ未満の分光エネルギーの最大値が約４１０ｎｍ以上の分光エネルギーの最大値に対して約２６％未満になるように構成されている。 - 特許庁
  • The electron emitting element of field emission type that emits electrons with a strong electric field is equipped with a substrate and a nano carbon material of fiber shape on the substrate having a projection shape with a diameter of 10 nm or more and a height of 100 nm or more and 100 μm or less.
    強電界によって電子を放出する電界放射型の電子放出素子において、基体と、前記基体上に突起形状を有する直径が１０ｎｍ以上であり、かつ、高さが１００ｎｍ以上１００μｍ以下であるファイバー状のナノ炭素材料と、を具備することを特徴とする電子放出素子。 - 特許庁
  • On a semiconductor layer 103 which is a columnar structure body extended in a prescribed direction on an insulation layer 102 whose width and height are in the range of several nm to several tens nm, a plurality of gate electrodes 105 are arrayed in the extended direction of the semiconductor layer 103 through a gate insulation film 104.
    絶縁層１０２上において所定の方向に延在する柱状の構造体であり、幅および高さが数ｎｍから数１０ｎｍの範囲となっている半導体層１０３上に、ゲート絶縁膜１０４を介して複数のゲート電極１０５を、半導体層１０３の延在方向に配列する。 - 特許庁
  • To provide an optical semiconductor mounting board which can maintain a reflectance ratio in wavelengths of 400-800 nm which is a visible light region at 80% and over, and at the same time inhibit reduction in reflectance ratio by attenuating or extinguishing reflectance ratio absorption peak appearing at wavelengths of around 340-380 nm which is a near ultraviolet region.
    可視光域である波長４００〜８００ｎｍの反射率が８０％以上を維持すると同時に、近紫外域である波長３４０〜３８０ｎｍ付近に出現する反射率吸収ピークを減衰あるいは消滅させて反射率低下を抑制することができる光半導体実装用基板を提供する。 - 特許庁
  • The method includes a step of depositing a layer 312 including amorphous carbon on the substrate 300 and then a step of exposing the substrate 300 to the electromagnetic radiation having at least one wavelength of between about 600 nm and about 1,000 nm under a condition sufficient for heating the layer 312 to the temperature of at least about 300°C.
    基板３００上にアモルファス炭素を含む層３１２を堆積させるステップと、その後、該層３１２を少なくとも約３００℃の温度に加熱するのに十分な条件下で該基板３００を約６００ｎｍ〜約１０００ｎｍの波長を１つ以上もつ電磁放射線にさらすステップと、を含む前記方法が提供される。 - 特許庁
  • The optical information medium has: a layer capable of reproducing information at least by the irradiation of the laser beam of 750 to 850 nm wavelength; an intermediate layer; a layer capable of reproducing the information at least by the irradiation of the laser beam of 350 to 500 nm wavelength; and a cover layer on a substrate.
    基板上に、波長７５０〜８５０ｎｍのレーザー光を照射して少なくとも情報の再生が可能な層と、中間層と、波長３５０〜５００ｎｍのレーザー光を照射して少なくとも情報の再生が可能な層と、カバー層とを有することを特徴とする光情報媒体である。 - 特許庁
  • This polyester polymerization catalyst comprises at least one kind selected from a group consisting of water-soluble aluminum compounds, wherein the water-soluble aluminum compound comprises a basic aluminum acetate of which the aqueous solution has a transmission at 680 nm of ≥97% in a concentration of 2.54 g/l (concentration converted into aluminum element).
    水溶性アルミ二ウム化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種からなるポリエステル重合触媒において、該水溶性アルミニウム化合物の２．５４ g/l（アルミニウム元素換算濃度）水溶液の６８０ nmでの透過率が９７％以上である塩基性酢酸アルミニウムからなることを特徴とするポリエステルの重合触媒。 - 特許庁
  • This polishing composition is obtained by adding colloidal silica having an average primary particle diameter of 30 nm and polymethyl methacrylate having an average particle diameter of 30 nm as a polishing material, oxalic acid, hydrogen peroxide, and benzotriazole to ion-exchanged water filtered through a 0.5μm cartridge filter and then uniformly dispersing the mixture with a high speed homogenizer.
    研磨材として一次粒子の平均粒径が３０ｎｍであるコロイダルシリカと平均粒径３０ｎｍｍのポリメチルメタクリレート、シュウ酸、過酸化水素、ベンゾトリアゾール、ポリビニルアルコールを０．５μｍのカートリッジフィルターで濾過されたイオン交換水に混合し、高速ホモジナイザーで攪拌して均一に分散させて研磨用組成物を得た。 - 特許庁
  • To obtain a dielectric thin film and a thin film dielectric element satisfying both characteristics of a high dielectric constant and a low leak current density while making a BST thin film thinner than 40 nm and as thin as 200 nm or less, and to provide its manufacturing method.
    本発明の目的は、ＢＳＴ薄膜を膜厚が４０ｎｍを超えて２００ｎｍ以下に極薄化させながらも、高誘電率の特性と低リーク電流密度の特性を両立させた誘電体薄膜及びそれを素子化した薄膜誘電体素子並びにその最適な製造方法を提供することである。 - 特許庁
  • The as-grown single crystal body of the barium fluoride is manufactured by the single crystal pulling-up method (Czochralski method), is ≥17 cm in the diameter of a straight cylindrical part, more preferably ≥5 cm in the length of the straight cylindrical part and is ≤3 nm/cm in the birefringence, more particularly 0.1 to 2 nm.
    単結晶引き上げ法（チョクラルスキー法）によって製造され、直胴部の直径が１７ｃｍ以上であり、好適には直胴部の長さが５ｃｍ以上であり、且つ複屈折が３ｎｍ／ｃｍ以下、好適には０．１〜２ｎｍであることを特徴とするフッ化バリウムのアズグロウン単結晶体。 - 特許庁
  • The TFT 10 has the base insulating layer 2 in which boron is contained in a region of 100 nm or smaller from the surface of the insulating substrate 1 in a way that a boron concentration decreases at an average rate of almost 1/1,000 times or smaller per 1 nm from the surface of the insulating substrate 1 to the semiconductor layer 3.
    開示されるＴＦＴ１０は、下地絶縁層２に、絶縁性基板１表面から略１００ｎｍ以内の領域に、絶縁性基板１表面から半導体層３に向かってボロン濃度が平均的に１ｎｍあたり略１／１０００倍以下の割合で減少するようにボロンが含まれている。 - 特許庁
  • A monitoring apparatus monitors a combustion region with an image, which comprises an imaging apparatus including an imaging device 11 which is sensitive to light rays with 250 to 450 nm for imaging the interior of the combustion region, and an illumination apparatus 6 for illuminating with light rays of a wavelength in the range of 250 to 450 nm to a photographed region of the imaging apparatus 4.
    燃焼領域を画像により監視する監視装置であって、２５０〜４５０ｎｍの波長の光線に感度を有する撮像素子１１を備え該燃焼領域内を撮像する撮像装置４と、撮像装置４の撮像範囲に２５０〜４５０ｎｍの波長の光線を照光する照光装置６とを備える。 - 特許庁
  • This invention relates to the method for removing the viruses from the liquid Factor VII composition, the composition comprising one or more Factor VII polypeptides, at least 5% of the one or more Factor VII polypeptides being in the activated form, the method comprising subjecting the solution to nanofiltration using a nanofilter having a pore size of at the most 80 nm.
    組成物が一以上の因子VIIポリペプチドを含み、前記一以上の因子VIIポリペプチドのうち少なくとも5%が活性化された形態であり、最大80 nmの細孔サイズを有するナノフィルターを使用するナノ濾過を前記溶液に対して行う、液体因子VII組成物からウイルスを除去するための方法。 - 特許庁
  • The negative electrode active material for lithium secondary battery is made by compounding graphite particle 1 and ultrafine particle 2..., and the ultrafine particle 2... is formed by an in-gas evaporation method, and its particle size is in a range of 1 nm or more and 100 nm or less, and is composed of an element capable of alloying with lithium.
    黒鉛粒子１と超微粒子２…とが複合化されてなり、超微粒子２…は、ガス中蒸発法により形成され、粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲であってリチウムと合金化が可能な元素からなるものであることを特徴とするリチウム二次電池用負極活物質を採用する。 - 特許庁
  • The rare-earth-doped optical fiber is composed of a core doped with a rare earth element and at least a layer of clad surrounding the core, wherein the difference between a loss of a wavelength of 1,240 nm and a loss of a wavelength of 1,200 nm is within a range between 20 dB/km-300 dB/km.
    希土類元素が添加されたコアと、該コアを囲む少なくとも１層のクラッドとからなる希土類添加光ファイバにおいて、波長１２４０ｎｍの損失と波長１２００ｎｍの損失との差が２０ｄＢ／ｋｍ〜３００ｄＢ／ｋｍの範囲内であることを特徴とする希土類添加光ファイバ。 - 特許庁
  • The glass ceramic of which the surface roughness Ra without grinding is <50 nm, the thermal expansion at 20-300°C is <1.2×10^-6/K and the transmittance is >85% at near-infrared region of 1050 nm and thickness of 4 mm contains β-quartz and/or keatite solid solution.
    研磨することなく表面粗度Ｒａが＜５０ｎｍ、２０〜３００℃の温度範囲で熱膨張が＜１．２×１０^-6／Ｋ、近赤外領域における透過率が１０５０ｎｍにおいて、厚みが４ｍｍで＞８５％である、ベータ石英および／またはキータイト固溶体を含み、次の組成（質量％）を含を有する。 - 特許庁
  • The invention also relates to an article of manufacture having a nanometric porous surface layer comprising at least one of metals, metal oxides and mixture their, which comprises pores in the surface layer having a width in a range of 0-100 nm, and wherein a major number of pores in this range have a width in a band of about 1 to about 30 nm.
    ナノメートル規模の多孔質表面層であって、金属、金属酸化物、およびそれらの混合物の少なくとも１種類を備え、０〜１００ｎｍの範囲の幅を有する細孔を表面層中に備え、この範囲の細孔の過半数が約１〜約３０ｎｍの帯域の幅を有する多孔質表面層を有する製品。 - 特許庁
  • Since the cobalt-containing ferromagnetic layer 23 is formed thicker than 1 nm, the resistance variation and the resistance variation ratio can be improved while the thickness of the nickel-containing ferromagnetic layer 22 is in the range of 1 nm or less, and hence it can be adapted for high recording density by increasing the output.
    コバルト含有強磁性層２３の厚さを１ｎｍより厚くすることにより、ニッケル含有強磁性層２２の厚さが１ｎｍ以下の範囲において、抵抗変化量および抵抗変化量を改善することができ、従って、出力を大きくして高記録密度化に対応することが可能になる。 - 特許庁
  • This invention provides the opto-electronic device which includes a first electrode deposited on a substrate, and a surface from which the first electrode is exposed, having square average roughness of at least 30 nm and height change amount of at least 200 nm, wherein the first electrode is transparent, and provides the method for manufacturing the device.
    基板上に蒸着された第１電極、少なくとも３０ｎｍの二乗平均粗さ及び少なくとも２００ｎｍの高さ変化量を有する第１電極の露出された表面を含み、第１電極は透明であるようなオプトエレクトロニックデバイス及びオプトエレクトロニックデバイスを作製する方法。 - 特許庁
  • The contact material comprises 0.5 to 60 wt.% of carbon powder in the form of very fine particles with a diameter Φ1= 5 to 200 nm as a first additive, and 0.5 to 60 wt.% of a second powdery additive in the form of fine particles with a diameter Φ2=5 to 200 nm which improves conductivity, hardness and abrasion resistance.
    接点材は、第１の添加剤として、０．５ないし６０重量％の炭素粉を、径Φ_１＝５ないし２００ｎｍの細かい粒子の形態で含み、０．５ないし６０重量％の第２の粉状の添加剤を、導電性、硬度、耐磨耗性を改善させる径Φ_２＝５ないし２００ｎｍの細かい粒子の形態で含んでいる。 - 特許庁
  • Especially suitably, silver-coated calcium carbonate powder comprises calcium carbonate particles each having a base coating layer comprising silver oxide and having an average thickness of 1 to 15 nm, and a top silver coating layer having an average thickness of 10 to 150 nm and formed on the base coating layer, and has an average particle diameter of 10 to 350 μm, and an average shape ratio of 1/4 to 1.
    なかでも、酸化銀からなる平均厚さ１〜１５ｎｍの下地被覆層と、その上に平均厚さ１０〜１５０ｎｍの銀被覆層を有する炭酸カルシウム粒子で構成される平均粒径１０〜３５０μｍ、平均形状比１／４〜１の銀被覆炭酸カルシウム粉末が好適な対象となる。 - 特許庁
  • The light in a short wavelength side having a wavelength shorter than 190 nm out of the light is absorbed by water in the sample solution, only the light in a wavelength band of 190-200 nm is reflected by total refrectance mirrors 14a, 14b to be transmitted again through the sample solution in the cell 2, and the light is converged by a lens 16 in a detector 18 to be detected.
    その光のうち１９０ｎｍより短波長側の光が試料水の水により吸収されて、１９０〜２００ｎｍの波長領域の光のみが全反射ミラー１４ａ，１４ｂで反射されて再びセル２中の試料水を透過し、レンズ１６で検出器１８に集光されて検出される。 - 特許庁
  • In a laser annealing method of the present invention, a continuous-wave laser beam having a wavelength range (600 to 900 nm) of red light to near-infrared light and a pulse laser beam having a wavelength range (100 to 550 nm) of visible light to ultraviolet light are overlappingly scanned to transform an amorphous silicon thin film formed on a substrate into a polycrystalline silicon thin film.
    本発明によるレーザアニール方法は、赤色から近赤外線領域（６００〜９００ｎｍ）の連続発振レーザビームと、可視光線から紫外線領域（５５０〜１００ｎｍ）のパルスレーザビームを重畳走査し、基板上に形成された非晶質状態のシリコン薄膜を多結晶状態のシリコン薄膜に変換する。 - 特許庁
  • If a transmittance of the infrared ray reflective interference film is suppressed to not less than 80% on the average in the range of not more than 550 nm of wavelength and to not more than 40% on the average in the range of over 550 nm of wavelength, taste of blue is emphasized, therefore, a white color whose color temperature is very high such as 5000 k can be get.
    赤外線反射性干渉膜は透過率が波長５５０ｎｍ以下の範囲で平均８０％以上、波長５５０ｎｍ超の範囲で平均４０％以下に制御された構成であると、青味が強調されて色温度が５０００Ｋのように高い白色光が得られる。 - 特許庁
  • The anti-reflection coating is an amorphous metal oxide thin film including fine pores inside, and the refractive index (a refractive index to the light of λ = 500 nm) is not less than 1.8, and the diameter of the fine pores occupying 80 vol% or more of the whole fine pores is 5 nm or less.
    透明でかつ、内部に微細な空隙を含む非晶質金属酸化物薄膜であって、屈折率（λ＝５００ｎｍの光の屈折率）が１．８以上であり、微細空隙全体の８０体積％以上を占める微細空隙の直径が５ｎｍ以下である非晶質金属酸化物薄膜からなる反射防止膜。 - 特許庁
  • The ink jet recording sheet comprises an ink absorption layer containing inorganic fine particles having a mean particle size of 5 to 100 nm, a cationic fixing agent, a binder and a polymer dispersing material having a glass transition temperature of -50 to 40°C on a support in such a manner that a mean particle size of the polymer dispersing material is 5 to less than 50 nm.
    支持体上に、平均粒径が５〜１００ｎｍの無機微粒子、カチオン性定着剤、バインダー及びガラス転移温度が−５０〜４０℃の重合体分散物を含有するインク吸収層を有し、かつ該重合体分散物の平均粒径が５ｎｍ以上５０ｎｍ未満であることを特徴とするインクジェット記録用紙。 - 特許庁
  • The quantity of the pitch powder is controlled so that the ratio V2/V1 of the pore volume (V1) of pores having 2-50 nm pore diameter to the pore volume (V2) of pores having 50-200 nm pore diameter in the pore distribution curve determined by analyzing nitrogen desorption side isotherm of the resultant carbon powder by the BJH method is ≥1.
    ピッチ粉末の量は、得られた炭素粉末の窒素脱着側等温線をＢＪＨ法により解析して求めた細孔分布曲線における、細孔直径２〜５０ｎｍの細孔容積Ｖ１に対する細孔直径５０〜２００ｎｍの細孔容積Ｖ２の比であるＶ２／Ｖ１が１以上となるようにする。 - 特許庁
  • The electrostatic image developing agent contains a toner including toner particles, spherical external additives of an 80 nm or larger and 200 nm or smaller average volume size, indeterminable external additives with indeterminable shapes, and carriers of a 45 μm or larger and 75 μm or smaller average volume particle size with a saturated magnetization of 70 Am^2/kg or larger and 95 Am^2/kg or smaller.
    トナー粒子、体積平均粒子径８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の球状外添剤、及び不定形形状の不定形外添剤を含むトナーと、体積平均粒子径４５μｍ以上７５μｍ以下で、飽和磁化７０Ａ・ｍ^２／ｋｇ以上９５Ａ・ｍ^２／ｋｇ以下のキャリアと、を有する静電荷現像用現像剤。 - 特許庁
  • After an interlayer insulation film 10, the underlying layer 11a of a conductive film for lower electrode, and the like, are formed on a substrate 1, a Pt film having a thickness in the range of 50-500 nm, e.g. about 175 nm, is formed as the overlying layer 11b of the conductive film for lower electrode on the underlying layer 11a by DC magnetron sputtering.
    基板１上に層間絶縁膜１０及び下部電極用導電膜の下側層１１ａ等を形成した後、下側層１１ａ上に下部電極用導電膜の上側層１１ｂとして厚さが５０ｎｍ〜５００ｎｍ、例えば約１７５ｎｍのＰｔ膜をＤＣマグネトロンスパッタ法により形成する。 - 特許庁
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