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また、単結晶基板１は、主成分がシリコンからなる単結晶基板であって、孔径１０〜２００ｎｍ、螺旋径１００〜６００ｎｍの螺旋状の孔が形成されており、その孔の底に銀、白金及びパラジウムのうちから選ばれる一種以上の金属の微粒子が存在することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition having high sensitivity to laser exposure light in the wavelength range from 400 nm to 900 nm, in particular, having improved stability over time in a coating liquid for applying the photosensitive composition onto a support, and to provide a photosensitive lithographic printing plate material having improved plate wear and remedied surface stains.
４００ｎｍ〜９００ｎｍの波長範囲のレーザー光露光に対して高感度であり、特に感光性組成物を支持体上に塗布するための塗布液の経時安定性が改良された感光性組成物、および耐刷性と地汚れが改善された感光性平版印刷版材料を与えること。 - 特許庁 - The light magenta toner is color matched by adding a hue-adjusting colorant or combination of colorants which absorb wavelengths of light from about 400 to about 500 nm, and optionally adding a shade-adjusting colorant or combination of colorants which absorb wavelengths of light from about 600 to about 700 nm.
ライトマゼンタトナーは約４００から約５００ｎｍまでの波長の光を吸収する色相調節着色剤または着色剤の組み合わせと約６００から約７００ｎｍまでの波長の光を吸収する任意に調節着色剤または着色剤の組み合わせを添加することによって色と一致させた。 - 特許庁 - The toner contains at least one amorphous resin, at least one infrared absorber, at least one crystalline resin, an optional colorant and an optional wax, wherein at least one infrared absorber has a maximum absorption of light at wavelengths of from about 850 nm to about 1,100 nm.
少なくとも１つの非晶質樹脂と、少なくとも１つの赤外線吸収体と、少なくとも１つの結晶性樹脂と、随意の着色剤と、随意のワックスとを含み、少なくとも１つの赤外線吸収体は、約８５０ｎｍから約１１００ｎｍまでの波長において最大吸光度を有する、トナー。 - 特許庁 - To provide an image forming material for laser fixing including a near-infrared absorbing color material having a sufficiently low absorbance in the visible wavelength range of 400-750 nm and a sufficiently high absorbance in the range of 760-900 nm, and to provide an image forming method using the same.
４００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の可視光波長領域における吸光度が十分に低く、かつ、７６０ｎｍ以上９００ｎｍ以下における吸光度が十分に高い近赤外吸収色材を含有する、レーザー定着用画像形成材料、及び、それを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁 - This near-infrared absorbent comprises one or more compounds (I) having a maximum absorption wavelength of 800-920 nm, which are phthalocyanine compounds or naphthalocyanine compounds, and one or more compounds (II) having a maximum absorption wavelength of >920 nm, which are phthalocyanine compounds or naphthalocyanine compounds.
この近赤外線吸収剤はフタロシアニン系化合物又はナフタロシアニン系化合物であって最大吸収波長が８００〜９２０ｎｍである化合物（Ｉ）の一種以上とフタロシアニン系化合物又はナフタロシアニン系化合物であって最大吸収波長が９２０ｎｍを超える化合物（II）の一種以上である。 - 特許庁 - The CMP slurry contains water, persulfuric acid or its salt, basic amino acid blended by ≥0.05 wt.% and ≤0.5 wt.%, a water insoluble complex formation agent for forming a water insoluble complex of metal, a surfactant, and colloidal silica with a primary particle diameter of ≥5 nm and ≤50 nm.
水と、過硫酸またはその塩と、０．０５ｗｔ％以上０．５ｗｔ％以下で配合された塩基性アミノ酸と、金属の水不溶性錯体を形成する水不溶性錯体形成剤と、界面活性剤と、一次粒子径が５ｎｍ以上５０ｎｍ以下のコロイダルシリカとを含有することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a write once optical recording medium which exhibits good recording/reproducing characteristic in a blue wavelength range (350 to 500 nm) especially around 405 nm and has a recording layer including an oxide of metal or half metal as a primary component for enabling high density recording and having higher recording sensitivity than conventional ones.
青色波長領域（３５０〜５００ｎｍ）、特に４０５ｎｍ近傍のレーザ光で良好な記録再生特性を示し、高密度記録可能で、記録感度が従来品よりも高い、金属又は半金属の酸化物を主成分として含有する記録層を有する追記型光記録媒体の提供。 - 特許庁 - An average pitch of fine surface irregularity of the reflective electrode 31 is controlled to 1μm or less, and a reflectance in a wavelength region of 200-400 nm is controlled to 90% or more at that of the wavelength of 400 nm, by forming the metallic film constituting the electrode 31 at 170°C or below.
反射電極３１を構成する金属膜の成膜温度を１７０℃以下で行うことにより、反射電極３１の微細な表面凹凸の平均ピッチを１μｍ以下に制御し、波長域２００ｎｍ〜４００ｎｍでの反射率を波長４００ｎｍでの反射率の９０％以上とする。 - 特許庁 - It is preferable that the metal coat of this glass plate has a thickness of 15-30 nm and comprises one or more of metals selected from the group consisting of chromium, stainless steel, titanium, zirconium, tantalum and hafnium, and the oxide coat has a thickness of 8-100 nm and comprises an aluminum oxide film or a zirconium oxide film.
本発明のガラス板は、厚さが１５〜３０ｎｍのクロム、ステンレス、チタン、ジルコニウム、タンタル及びハフニウムから選ばれた１種又は複数種の金属からなる金属被膜であり、前記酸化物被膜は厚さが８〜１００ｎｍの酸化タンタル膜、酸化アルミニウム膜又は酸化ジルコニウム膜により構成されることが好ましい。 - 特許庁 - A recessed secondary surface shape is formed of a recessed basic shape which may be connected with each other, the basic shape has 30 to 200 nm average depth and 80 to 400 nm average diameter and arrangement of the basic shapes at an antireflection surface is substantially irregular.
凹状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。 - 特許庁 - The photocatalytic coating fluid forms a thin film having titanium oxide as the major component on a base material and comprises 0.1-10 wt.% titanium oxide (TiO2) having an average particle size of 50-120 nm and a crystallite diameter of 6-18 nm, 0.1-10 wt.% silica compound (SiO2), and ≥60 wt.% alcoholic solvent.
基材上に酸化チタンを主成分とする薄膜を形成させる光触媒塗布液において、平均粒子径が50nm〜120nm、結晶子径6〜18nmの酸化チタン(TiO_2)を0.1〜10重量％、シリカ化合物(SiO_2)を0.1〜10重量％、アルコール溶媒を60重量％以上含むことを特徴とする酸化チタン含有光触媒塗布液。 - 特許庁 - The carrier of this catalyst has a BET surface area within a range being more than 30 m^2/g and less than 70 m^2/g, the pore volume exceeding 50% of the carrier comprises macropores having a pore size exceeding 50 nm and the pore volume of below 50% of the carrier comprises mesopores having a pore size of 2 to 50 nm.
触媒の担体が３０ｍ^２／ｇを上廻り７０ｍ^２／ｇを下廻る範囲内のＢＥＴ表面積を有し、触媒の担体の５０％を上廻る細孔容積が５０ｎｍを上廻る孔径を有するマクロ細孔であり、触媒の担体の５０％未満の細孔容積が２〜５０ｎｍの孔径を有するメソ細孔である。 - 特許庁 - The photocatalyst composition is prepared by dispersing four components comprising: a photocatalyst particle (a1) having 1-100 nm particle size; silicon oxide (a2) having 1-100 nm particle size; a metal oxide (a3) (except for the photocatalyst particle (a1)) having 2.0-2.5 refractive index; and a polymer emulsion particle (B) in water.
粒子径が１以上１００ｎｍ以下の光触媒粒子（ａ１）と、粒子径が１以上１００ｎｍ以下の酸化珪素（ａ２）と、屈折率が２．０以上２．５以下の金属酸化物（ａ３）｛ただし光触媒粒子（ａ１）を除く｝と、重合体エマルジョン粒子（Ｂ）を水中に分散させて含む光触媒組成物。 - 特許庁 - An Si wafer for forming the SiO_2 insulating film manufactured by a TEOS-CVD method is polished by the cerium oxide abrasive for polishing a semiconductor substrate that is slurry containing cerium oxide particles, a polyacrylic acid ammonium salt, and water, where the average particle diameter of the cerium oxide particles in the slurry is 200 nm or higher and 400 nm or smaller.
ＴＥＯＳ−ＣＶＤ法で作製したＳｉＯ_２絶縁膜を形成させたＳｉウエハを、酸化セリウム粒子、ポリアクリル酸アンモニウム塩および水を含むスラリーであって、スラリー中の酸化セリウム粒子の平均粒径が２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下である半導体基板研磨用酸化セリウム研磨剤で研磨する。 - 特許庁 - A picture 2 obtained by photographing the area to be monitored while throwing infrared rays different in wavelength (810 nm and 950 nm) to the area and a picture 1 obtained by photographing the area at the time of normalcy are compared with each other by a discrimination means, and it is judged based on a differential picture 3 whether the state of the monitor area is normal or not.
監視領域に異なる波長（８１０、９５０ｎｍ）の赤外線を投光して監視領域を撮影した映像（２）と、監視領域を正常時に撮影した映像（１）とを判断手段により比較して、差分の画像（３）から前記監視領域の状態が正常であるか又は異常であるかを判断する。 - 特許庁 - The reflecting direction of the light of 650 nm incident on the first reflecting surface R1 at a critical angle is equal to the reflecting direction of the light of 650 nm incident on the second reflecting surface R2 along the optical axis direction of incident light on a light incident surface of the light diffusion sheet 10.
第１光反射面Ｒ１に臨界角度で入射した６５０ｎｍの波長の光の反射方向と、光拡散シート１０の光入射面における入射光の光軸方向に沿って第２光反射面Ｒ２に入射した６５０ｎｍの波長の光の反射方向とが同一である。 - 特許庁 - The optical filter wherein 100 or more thermoplastic resin layers of at least two or more kinds are laminated in the thickness direction has ≥70% maximum value of transmittance or reflectance in 250 to 2,600 nm wavelength and ≤10 nm shift quantity of a reflection spectrum or a transmission spectrum under an atmosphere of -5°C to 65°C.
少なくとも２種以上の熱可塑性樹脂層が厚み方向に１００層以上積層され、波長２５０〜２６００ｎｍにおける透過率または反射率の最大値が７０％以上であり、−５℃と６５℃の雰囲気下における反射スペクトラムまたは透過スペクトラムのシフト量が１０ｎｍ以下である光学フィルタ。 - 特許庁 - The functional nanostructure comprises a support having a plurality of mutually independent pores whose opening portions have bores of 200 nm or smaller and widths of 20 nm or greater and one or more type of functional organic compound that at least parts of molecules are introduced in the pores.
開口部の口径が２００ｎｍ以下で且つ深さが２０ｎｍ以上である互いに独立した複数の細孔を有する支持体と、前記細孔の内部に少なくとも分子の一部が導入された１種類以上の機能性有機化合物とを有することを特徴とする機能性ナノ構造体である。 - 特許庁 - The method for disinfecting harmful bacteria in a diatom-containing culture is provided and comprises a process for irradiating a diatom with at least one visible light having a band width of ≤100 nm, preferably having a central wavelength in a wavelength region of 410-780 nm.
本発明はまた、珪藻を含む培養物中の有害細菌の殺菌方法も提供し、該方法は、珪藻に、１００ｎｍ以下の帯域幅を有する少なくとも１つの可視光を照射する工程を含み、好ましくは、該可視光は４１０〜７８０ｎｍの波長領域内に中心波長を有する。 - 特許庁 - The retardation film essentially comprises polyvinyl alcohols and is characterized in that the film contains at least an unmodified polyvinyl alcohol and a modified polyvinyl alcohol having a crosslinking group in the molecule and that the retardation (Rth) in the thickness direction at a wavelength of 550 nm is not less than 30 nm.
ポリビニルアルコール類を主成分とする位相差膜であって、未変性ポリビニルアルコール及び分子内に架橋性基を有する変性ポリビニルアルコールを少なくとも含有し、且つ波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が、３０ｎｍ以上であることを特徴とする位相差膜である。 - 特許庁 - A separator 5 used for the non-aqueous electrolyte secondary battery 1 is a fine porous membrane made of a polyolefin resin containing polyethylene and polypropylene, and contains polypropylene 7 wt.% to 25 wt.% against the total weight of the polyethylene and polypropylene, and its surface roughness (Ra) is 15 nm to 30 nm.
本発明の非水電解質二次電池１に用いるセパレータ５は、ポリエチレンとポリプロピレンとを含むポリオレフィン樹脂からなる微多孔膜であり、ポリエチレンとポリプロピレンの合計重量に対して、ポリプロピレンを７重量％〜２５重量％含み、かつ、その表面粗さ（Ｒａ）は１５ｎｍ〜３０ｎｍである。 - 特許庁 - The polymer film has ≥80% but ≤100% light transmission of all wavelength light from 450 nm to 700 nm wavelength, ≥0% but ≤4.5% moisture absorption and ≥1 μm but ≤300 μm thickness, wherein the film has a light transmission difference of a specific value or less between films different in heat-treatment conditions.
波長４５０ｎｍから７００ｎｍの全ての波長の光の光線透過率が８０%以上１００％以下であり、吸湿率が０％以上４．５％以下であり、かつ厚みが１μｍ以上３００μｍ以下であり、さらに熱処理条件を異にするフィルム間の透過率の差が一定値以下である高分子フィルムとする。 - 特許庁 - A dyestuff recording layer, the thickness of which is 50-160 nm and on which information can be recorded by incorporating an organic dyestuff selected to have 0.045-0.075 fading coefficient k when irradiated with the laser beam having recording laser wavelength, is formed on a transparent substrate where a pre-groove of 150-200 nm depth is formed.
溝深さが１５０〜２００ｎｍのプレグルーブが形成された透明基板上に、厚さが５０〜１６０ｎｍであり、且つ記録レーザ波長での消衰係数ｋが０．０４５〜０．０７５となるように選択された有機色素を含有することにより情報の記録が可能な色素記録層を形成する。 - 特許庁 - The container for the observation and the container for the culture are each obtained by forming an assembly of protrusions having ≥10 nm and ≤10 μm equivalent diameters and ≥10 nm and ≤1 mm heights on the bottom surface, and further forming a functional surface structure according to a required function on the surface of the container.
上記課題を解決するために、本発明は容器の底面に相当直径が１０ｎｍ以上１０μｍ以下であり、高さが１０ｎｍ以上１mm以下である突起物集合体を形成し、容器表面に必要な機能に応じて機能性表面構造を形成した観察用容器及び培養用容器を提供する。 - 特許庁 - The inorganic pigment, which is a compound oxide-based inorganic pigment having an average grain size of 500 nm or smaller, manufactured by mixing a raw material powder comprising two or more metal oxides, baking it, then pulverizing it, characterized in that use is made of a powder having an average grain size of 1,000 nm or smaller as the raw material powder.
２種類以上の金属化合物よりなる原料粉体を混合し、焼成した後、粉砕して製造された、平均粒径が５００ｎｍ以下の複合酸化物系無機顔料において、該原料粉体として平均粒径が１０００ｎｍ以下のものを用いたことを特徴とする無機顔料。 - 特許庁 - The catalyst comprises the composite oxide powder which carries a precious metal, and has the precious metal which is highly dispersed into a pore in a first pore distribution in a 3.5-50 nm region, and thus improves cleaning activity and oxygen occluding/releasing function and also improves gas diffusion property owing to a second pore distribution in a 50-500 nm region.
この複合酸化物粉末に貴金属を担持した本発明の触媒では、 3.5〜50nmの領域の第１の細孔分布の細孔に貴金属が高分散で担持されて浄化活性や酸素吸蔵放出能が向上し、かつ50〜 500nmの領域の第２の細孔分布によってガス拡散性が向上する。 - 特許庁 - The ultraviolet light shielding element is made by laminating multilayer films containing high refractive index films 3 and low refractive index films 2 on a transparent substrate 1, wherein the light absorption coefficient of at least one film selected from the high refractive index films 3 and the low refractive index films 2 becomes 0.1 or more at a wavelength in the range of 300 nm-360 nm.
透明基板（１）上に、高屈折率膜（３）と低屈折率膜（２）とを含む膜を多層積層した紫外光遮蔽素子であって、高屈折率膜（３）及び低屈折率膜（２）から選ばれる少なくとも一つ膜の光吸収係数が０．１以上となる波長が３００ｎｍから３６０ｎｍの範囲にある。 - 特許庁 - This operation method of the internal combustion engine operates the internal combustion engine by supplying emulsion fuel made of combustible oil and water to the inside of a reciprocating engine, and the emulsion fuel is made of emulsion of the combustible oil or the water an average particle diameter of which is less than 1,000 nm (favorably, the average particle diameter is 200 to 700 nm).
可燃性油と水からなるエマルジョン燃料をレシプロエンジン内に供給して内燃機関を稼働する内燃機関の稼働方法であって、前記エマルジョン燃料が可燃性油又は水の平均粒径が１０００ｎｍ以下（好ましくは、平均粒径が２００〜７００ｎｍ）のエマルジョンからなる内燃機関の稼働方法。 - 特許庁 - To provide a novel manufacturing method of a fine pigment having a primary particle size of 10 nm-50 nm and being capable of forming a higher contrast and clearer image as a pigment coloring agent, e.g., a fine pigment used for CF color or IJ color, and a coloring agent using it.
顔料着色剤、例えば、ＣＦカラーもしくはＩＪカラーに使用される微細化顔料として、よりコントラストが高く、より鮮明な画像が得られる顔料として、顔料の一次粒子サイズが１０ｎｍ〜５０ｎｍである、これまでにない微細化顔料の製造およびそれを使用した着色剤の提供。 - 特許庁 - During rotation speed control, in C areas from t4 to t5 in which motor rotation speed Nm (transmission input speed) reaches the after gear shift input rotation speed, torque upper limit value Tm (Lim) of the electric motor during rotation speed control is set the same value as the target motor torque in front of the switching time t3 to rotation control from torque control.
回転数制御中、モータ回転数Nm（変速機入力回転数Ni）が変速後入力回転数に達するt4からt5までのC領域において、回転数制御中である電動モータのトルク上限値Tm(Lim)を、トルク制御から回転数制御への切り替え時t3の直前における目標モータトルクと同じ値に設定する。 - 特許庁 - The curable composition for optical parts comprises a cationic photopolymerization compound, a cationic photopolymerization initiator and a sensitizer, wherein the cationic photopolymerization initiator has a maximum absorption wavelength of 300 nm or less, and the sensitizer has a maximum absorption wavelength of 300-365 nm.
光カチオン重合性化合物、光カチオン重合開始剤及び増感剤を含有する光学部品用硬化性組成物であって、前記カチオン重合開始剤は、極大吸収波長が３００ｎｍ以下であり、かつ、前記増感剤は、極大吸収波長が３００〜３６５ｎｍである光学部品用硬化性組成物。 - 特許庁 - A base material is immersed while stirring a plating bath with diamond particles of the average grain size of 1-1,000 nm suspended with a gas containing oxygen to deposit a plating film with the diamond particles of 8-25 vol.% and the average grain size of 1-1,000 nm dispersed in the metal matrix on the surface of the base material.
平均粒径が１〜１０００ｎｍのダイヤモンド微粒子を懸濁しためっき浴を酸素を含有する気体で攪拌しながら基材を浸漬し、基材表面に金属マトリックス中に８〜２５容量％の平均粒径が１〜１０００ｎｍのダイヤモンド微粒子を分散させためっき膜を形成する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition useful in a process with light having a shorter wavelength than KrF excimer laser light, e.g. F2 excimer laser light (157 nm) or EUV (extreme-ultraviolet radiation 13 nm) as a light source and capable of forming a resist pattern having high resolution and a good sectional shape and to provide a base material with a resist layer of the resist composition.
ＫｒＦエキシマレーザー以下の短波長光、例えば、Ｆ_2エキシマレーザー（１５７ｎｍ）やＥＵＶ（真空紫外線１３ｎｍ）を光源とするプロセスに有用であり、高解像性で断面形状の良好なレジストパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物およびそのレジスト層を設けた基材を提供すること。 - 特許庁 - The film has 1 nm or more and less than 600 nm retardation value, is composed of a polylactic acid based resin as the aliphatic polyester based resin, has 0.1% or more and 1,000% or less stretch ratio, has 0 or more and less than 20 (×10^-12/Pa) photoelastic coefficient, and is molded with extrusion molding or cast molding.
レターデーションが１ｎｍ以上６００ｎｍ未満である、脂肪族ポリエステル系樹脂が、ポリ乳酸系樹脂、延伸倍率が、０．１％以上１、０００％以下である、光弾性係数が、０以上２０（×１０^−１２／Ｐａ）未満である押し出し成形又は、キャスト成形で成形されたフィルムである。 - 特許庁 - This transparent conductive material is formed by laminating an intermediate refractive index layer (B) having a layer thickness in optical film thickness of 100-175 nm and a conductive layer (C) having a layer thickness in optical film thickness of 10-60 nm in order from a substrate side directly or through one or more layers on one surface or booth surfaces of a substrate (A).
透明導電材料は、基材（Ａ）の片面もしくは両面に、直接もしくは一層以上の層を介して基材側から順に、層厚が光学膜厚で１００〜１７５ｎｍの中間屈折率層（Ｂ）、層厚が光学膜厚で１０〜６０ｎｍの導電層（Ｃ）が積層されたものである。 - 特許庁 - The polishing composition is obtained by mixing colloidal silica having a mean particle size of 30 nm, a copolycondensate of PMMA having a mean particle size of 40 nm and divinylbenzene, a tartaric acid, a benzotriazol and a hydrogen peroxide with an ion exchange water filtered with a 0.5 μm cartridge filter to become a specific concentration, by agitating the mixture by a high speed homogenizer, and by dispersing it uniformly.
平均粒径３０ｎｍのコロイダルシリカ、平均粒径４０ｎｍのＰＭＭＡとジビニルベンゼンの共縮合物、酒石酸、ベンゾトリアゾール及び過酸化水素を特定濃度になるように０．５μｍのカートリッジフィルターで濾過されたイオン交換水に混合し、高速ホモジナイザーで攪拌して均一に分散させた研磨用組成物である。 - 特許庁 - To provide an optical recording medium having a recording layer carrying out good recording and reproducing with bluish-purple laser beams within the range of 300-900 nm wavelength especially selected from the range of 400-410 nm wavelength and suitable for ultrahigh-density recording and to provide a new compound suitably usable for the optical recording medium.
本発明の目的は、波長３００ｎｍ〜９００ｎｍの範囲のレーザー光、殊に波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲から選択される青紫色のレーザー光で良好な記録および再生が可能な超高密度記録に適した記録層を有する光記録媒体を提供することにある。 - 特許庁 - The composition is characterized in that it comprises the resin and the zirconium oxide particles, the zirconium oxide particle has an mean particle diameter of ≥1 nm and ≤30 nm, and the surface of the particle is coated with an organic compound capable of coordinating and/or bonding.
本発明の光半導体封止用樹脂組成物は、樹脂および酸化ジルコニウム粒子を含有し；当該酸化ジルコニウム粒子の平均粒子径が１ｎｍ以上、３０ｎｍ以下であり；当該酸化ジルコニウム粒子の表面が、配位および／または結合可能な有機化合物により被覆されていることを特徴とする。 - 特許庁 - In this manufacturing method of a ceramic composite material containing zirconia, a zirconia dispersion containing zirconia particles having a dispersed particle diameter of not smaller than 1 nm but not greater than 20 nm and slurry containing ceramic particles are blended, and the obtained mixture is dried and fired to make the ceramic composite material containing zirconia.
本発明のジルコニア含有セラミックス複合材料の製造方法は、分散粒径が１ｎｍ以上かつ２０ｎｍ以下のジルコニア粒子を含有するジルコニア分散液と、セラミックス粒子を含有するスラリーとを混合し、得られた混合物を乾燥、焼成し、ジルコニア含有セラミックス複合材料とする。 - 特許庁 - The pigment dispersion comprises at least carbon black, a dispersant, and water, wherein in the particle size measurement by the dynamic light scattering, the accumulated volume percent of a carbon black particle size of 150 nm or more is 40% or more and that of 550 nm or more is 0%.
少なくともカーボンブラックと分散剤、水からなり、動的光散乱法による粒子径測定において、カーボンブラック粒子径の１５０ｎｍ以上の累積体積パーセントが４０％以上であり、且つ５５０ｎｍ以上の累積パーセントが０％であることを特徴とするインクジェット用顔料分散液。 - 特許庁 - An average pitch of fine surface projection and recession of the reflection electrode 31 is controlled to be 1 μm or less, and reflectance in a wavelength region of 200-400 nm is controlled to be 90% or more of reflectance at the wavelength of 400 nm, by forming a metal film constituting the reflection electrode 31 at 170°C or below.
反射電極３１を構成する金属膜の成膜温度を１７０℃以下で行うことにより、反射電極３１の微細な表面凹凸の平均ピッチを１μｍ以下に制御し、波長域２００ｎｍ〜４００ｎｍでの反射率を波長４００ｎｍでの反射率の９０％以上とする。 - 特許庁 - To provide an electrophotographic photoreceptor supersensitive to a light source emitting monochromatic light of a wavelength ≥380 nm and ≤500 nm, having high quality represented by high resolution, high gradation or the like, and allowing formation of a small-defect image faithfully developed to high-resolution exposure.
波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の単色光を発する光源に対し高感度であり、高解像度、高階調性等に代表される高品質であって、しかも高解像度な露光に対して忠実に現像された欠陥の少ない画像を形成することのできる電子写真感光体を実現する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition which is suitable for a lithographic printing original plate having high sensitivity to the oscillation wavelength of an inexpensive short wave semiconductor laser, and which uses a new photoinitiation system having high sensitivity in a wide wavelength region from 350 nm to 450 nm, excellent plate wear and favorable handling property in a bright room.
安価な短波半導体レーザの発振波長に対し高感度な平版印刷版用原版等に適した、３００ｎｍから４５０ｎｍの広い範囲の波長に対し高感度を有し、かつ耐刷性に優れ、また明室取り扱い性が良好な新規な光開始系を用いた感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a resin composition for a filter of a face image photographing device such as a face direction detection device and a face authentication device, which blocks visible light and a light ray in the near-infrared region of 850 nm or shorter vaguely recognizable with human eyes and which transmits the near-infrared light of the wavelength side longer than 850 nm.
可視光及び人間の眼でかすかに認識できる８５０ｎｍ以下の近赤外領域の光線を遮蔽し、８５０ｎｍより長波長側の近赤外線を透過させる、顔向き検知装置や顔認証装置等の顔面像撮影装置のフィルター用樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - The undergarment has an woven structure or a knitted structure, and is made of fabric containing polyester filament yarns (A) whose monofilament has a diameter of 10-1,000 nm, and filament yarns (B) whose monofilament has a diameter larger than 1,000 nm: wherein the polyester filament yarns (A) are exposed out of a skin-contact face.
織物組織または編物組織を有する下着を含む生地であって、単繊維径が１０〜１０００ｎｍのポリエステルフィラメント糸Ａと単繊維径が１０００ｎｍより大のフィラメント糸Ｂとを含み、かつ肌に接触する面に前記ポリエステルフィラメント糸Ａが露出していることを特徴とする下着。 - 特許庁 - In the multi-layer coating film having a metallic base coating film and a colored base coating film, a transparent clear coating film is formed on at least uppermost layer and a brightness L^* value of the metallic base coating film and a transmission ratio of a visible light (wavelength of 400 nm to 700 nm) of the colored base coating film are set to a specific range.
メタリックベース塗膜と、着色ベース塗膜と、を有する複層塗膜において、透明クリヤー塗膜を少なくとも最上層に形成するとともに、メタリックベース塗膜の明度Ｌ^＊値と、着色ベース塗膜の可視光線（波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下）透過率を特定の範囲に設定する。 - 特許庁 - The silver halide photographic element comprises a light- sensitive silver halide emulsion layer having associated therewith a coupler that forms a dye for which the λ_max using spin-coating is shifted towards the infrared region of the spectrum by at least 30 nm, when compared to the λ_max of the same dye in solution form, to a value of at least 700 nm.
スピン塗工法を用いたλ_maxが、溶液形態の同じ色素のλ_maxと比較したときに、少なくとも３０ｎｍスペクトルの赤外領域に向かってシフトして少なくとも７００ｎｍの値になる色素を形成するカプラーを関連して有する感光性ハロゲン化銀乳剤層を含んで成るハロゲン化銀写真要素。 - 特許庁 - The method comprises the processes of implanting oxygen ion 22 in the state where a first oxide film 17 partially having the thickness of 200 nm to 1,000 nm is formed on the surface of the substrate 12 comprising a silicon single crystal, and forming an embedded oxide film 13 in the substrate 12 by annealing the substrate 12 at a temperature of ≥1,300°C.
シリコン単結晶からなる基板１２の表面に部分的に厚さが２００ｎｍ〜１０００ｎｍの第１酸化膜１７を形成した状態で酸素イオン２２を注入する工程と、基板１２を１３００℃以上でアニール処理して基板１２の内部に埋込み酸化膜１３を形成する工程とを含む。 - 特許庁 - The porous titanium oxide structure contains titanium oxide, and has a flat vacancy of ≥1.35 in aspect ratio and a spherical vacancy of ≤1.1 in aspect ratio, wherein the average major-axis diameter of the flat vacancy is 300 to 1,000 nm, and the average major-axis diameter of the spherical vacancy is 1 to 100 nm.
酸化チタンを含有し、かつ、アスペクト比が１．３５以上の扁平状空孔と、アスペクト比が１．１以下の球状空孔とを有し、前記扁平状空孔の平均長径が３００〜１０００ｎｍであり、前記球状空孔の平均長径が１〜１００ｎｍである多孔質酸化チタン構造体。 - 特許庁
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