「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 117 118 119 120 121 122 123 124 125 .... 287 288 次へ＞- The wet film thickness of the substrate 5 coated with the coating liquid 10 is measured by a light interference method using wavelength light of ≥500 nm at a film measuring position 17.
塗液１０が塗布された基体５の湿潤膜厚が、膜厚測定位置１７で５００ｎｍ以上の波長光を用いた光干渉法によって測定される。 - 特許庁 - In addition, a Pd-containing film 107 having a thickness of 1 to 200 nm may be formed between the silicon oxide film 106 and the soft magnetic backing layer 102.
なお、酸化珪素膜１０６と軟磁性裏打ち層１０２との間に１ｎｍ以上２００ｎｍ以下の厚みのＰｄ含有膜１０７を設けるようにしてもよい。 - 特許庁 - This O/W type emulsion contains a plant extract in oil drops having an average particle diameter of ≤100 nm.
Ｏ／Ｗ型エマルジョン乳化物であって、油滴が植物抽出物を含有し、かつ、油滴の平均粒子径１００ｎｍ以下であるＯ／Ｗ型エマルジョン乳化物。 - 特許庁 - The particles are nanoparticles formed to have grain sizes of several tens of nm and mixed in the base 23a to occupy about 3 to 10% of the electrostatic capacity medium 23.
粒径が数十ｎｍとなるように形成されたナノ粒子であり、静電容量媒体２３の３〜１０％程度を占めるように基剤２３ａ内に混入されている。 - 特許庁 - In this CMP process and products thereof, alumina is used including α-alumina particles with a particle size of less than 50 nm and a surface area of at least 50 m^2/g.
粒子幅が５０ｎｍ未満で且つ表面積が少なくとも５０ｍ^2／ｇのα−アルミナ粒子を含むアルミナを使用するＣＭＰプロセス及び生成物とする。 - 特許庁 - Next, a state where a platinum thin film 103 with a film thickness of about 200 nm is deposited on the silicon oxide layer 102 by an ECR (Electron Cyclotron Resonance) sputtering process using a platinum target is made.
次に、白金ターゲットを用いたＥＣＲスパッタ法により、酸化シリコン層１０２の上に、膜厚２００ｎｍ程度の白金薄膜１０３が形成された状態とする。 - 特許庁 - The optical film is characterized by having 10-60 μm film thickness, 20-200 g/m^2/24 hours moisture permeability and further 10 nm or less in-plane retardation value Ro.
膜厚が１０〜６０μｍ、透湿度が２０〜２００ｇ／ｍ^2・２４時間で、かつ面内のレターデーション値Ｒｏが１０ｎｍ以下であることを特徴とする光学フィルム。 - 特許庁 - The ratio of the graphite crystals in the carbon in the composite material is 50-70 vol.%; and the average spacing d002 of the graphite crystals is ≤0.338 nm.
前記複合材料中の炭素に占める黒鉛結晶の割合が５０〜７０体積％であって、黒鉛結晶の平均面間隔ｄ００２が０．３３８ｎｍ以下である。 - 特許庁 - Thus, as the tan δ of the compressed layer 4 is less than 0.150, the torque loss by the V-ribbed belt 1 can be reduced to be equal to or less than 0.24 Nm.
このように圧縮層４のｔａｎδが０．１５０未満であることによって、Ｖリブドベルト１によるトルクロスを０．２４Ｎ・ｍ以下に低減することができる。 - 特許庁 - The leading end of the metallic probe 8 is made to project from the free end of the cantilever 6, so that a plurality of probes can be brought in contact with a region of a 10 nm level.
この際、金属探針８の先端がカンチレバー６の自由端よりも飛び出るようにすることで、１０ｎｍレベル領域への複数探針の接触を可能にする。 - 特許庁 - To provide a filter glass for cutting near-infrared rays excellent in chemical durability and hardly transmitting near-infrared rays up to 1,100 nm wavelength where an imaging device is sensible.
化学的耐久性に優れ、撮像素子が感度を有する１１００ｎｍまでの近赤外線をほとんど透過しない近赤外線カットフィルタを提供すること。 - 特許庁 - The optical recording medium has a recording layer containing ultrafine particles with a mean particle size of 1-50 nm, of which the surfaces are modified with a silane coupling agent, of a metal or a metal compound.
表面をシランカップリング剤で修飾した平均粒径１ｎｍ〜５０ｎｍの金属または金属化合物超微粒子を記録層に含有する光記録媒体。 - 特許庁 - The flame-retardant resin composition contains 1 to 40 parts by mass of low-melting glass particles having an average particle diameter of 10 to 500 nm with respect to 100 parts by mass of a matrix resin.
難燃性樹脂組成物は、マトリクス樹脂１００質量部に対して平均粒径１０〜５００ｎｍの低融点ガラス粒子を１〜４０質量部含有する。 - 特許庁 - The powder comprising ultrafine fiber is constituted of the ultrafine fiber having 1-500 nm number average diameter and 1-1,000 μm number average particle diameter.
数平均直径が１〜５００ｎｍである超極細繊維から構成され、数平均粒径が１〜１０００μｍであることを特徴とする超極細繊維からなる粉末。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the silica slurry, the silica powder and the organic medium are mixed under pressure of 50-350 MPa, and particles of 200 nm and larger are removed.
シリカ粉末と有機媒体とを、５０〜３５０ＭＰａの加圧下で混合した後、２００ｎｍ以上の粒子を除去することを特徴とするシリカスラリーの製造方法。 - 特許庁 - The core layer 13 has ≤100 nm film thickness fluctuation, a BER (Bit Error Rate) in reproducing recorded information can be reduced and reproducibility of recorded information is enhanced.
また、コア層１３の膜厚変動量が１００ｎｍ以下にされており、記録情報再生時のＢＥＲを低くすることができ、記録情報の再現性が向上する。 - 特許庁 - To provide an inexpensive pellicle film suited to a lithography process of applying ultraviolet light including i line, h line and g line and having a wavelength region of 350-450 nm, and having light resistance.
ｉ線、ｈ線、ｇ線を含む、３５０〜４５０ｎｍの波長域の紫外線を照射するリソグラフィ工程に好適な、安価で耐光性に優れたペリクル膜を提供する。 - 特許庁 - The polarized light separation layer is constituted of a cholesteric liquid crystal phase e.g. and is a layer capable of selectively reflecting circularly polarized light whose center wavelength is 300 to 900 nm.
偏光分離層は、例えば、コレステリック液晶相で構成されており、中心波長が３００〜９００ｎｍの円偏光を選択反射可能な層である。 - 特許庁 - To provide a magnetic disk which performs recording and reproduction safely even when a magnetic head is floated and fled at a low floating height of ≤10 nm.
浮上量が１０ｎｍ以下の低浮上量で磁気ヘッドを浮上飛行させても安全に記録再生ができる磁気ディスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - A color filter 37 of a CCD 33 has a sub-sensitivity region sensing the reflected light of narrow band light of central wavelength of 405 nm, in a sensitivity region of a G pixel.
ＣＣＤ３３のカラーフィルタ３７は、中心波長４０５ｎｍの狭帯域光の反射光に感応する副感度領域をＧ画素の感度領域に有する。 - 特許庁 - The emitter part 8 including the electron emitting body 1 and the gate electrode 6 are each coated/filmed with a covering member 2, made of a poly-inorganic salt and having a fixed thickness (0.5 to 20 nm).
この電子放出体１を含むエミッタ部８とゲート電極６とに、ポリ無機塩からなる被覆部材２を塗布，成膜させて、所定の厚み（０．５〜２０ｎｍ）に被覆する。 - 特許庁 - To suppress the occurrence of a non-light-emitting region caused by indium segregation in a light-emitting layer in a nitride semiconductor light-emitting element, having an emission wavelength of 430 nm or longer.
４３０ｎｍ以上の発光波長を有する窒化物半導体発光素子において、発光層中のＩｎ偏析に起因する非発光領域の発生を抑制する。 - 特許庁 - To provide a method for producing copper fine particles with a particle size of primary particles of 1-150 nm, which are excellent in dispersion stability in an electrolytic reduction tank and are reduced in formation of dendrite.
電解還元槽中で分散安定性に優れかつデンドライト化が抑制された、一次粒子の粒子径が１〜１５０ｎｍの銅微粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Sputtering power of nickel sputtering is specified to ≥1.2 KW, the flow rate of argon to <0.5 Pa and the film thickness of a conductive film 6 to be formed to a range from 50 to 150 nm.
ニッケルスパッタのスパッタパワーを１.２ＫＷ以上、アルゴン流量を０．５Ｐａ未満とし、形成される導電皮膜６の膜厚は５０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲とする。 - 特許庁 - The first glass plate 12 consists of a heat-absorbing glass of which the insolation absorption coefficient at a wavelength of 300-2,500 nm is 28% or higher when measured at a thickness of 2 mm.
第１ガラス板１２は、厚さ２ｍｍで測定したときの波長３００〜２５００ｎｍの日射吸収率が２８％以上の熱線吸収ガラスからなる。 - 特許庁 - To obtain a fine carbon fiber having ≤500 nm diameter and 10-15,000 aspect ratio, and further having excellent characteristics such as slidability, electroconductivity and heat conductivity in a mass-production scale.
５００ｎｍ以下の径と１０〜１５０００のアスペクト比を有し、摺動性、導電性、熱伝導性等の特性に優れた微細炭素繊維を量産規模で得ること。 - 特許庁 - A first report on the synthesis of certain ^124I-labelled photosensitizers related to chlorines and bacteriochlorines with long wavelength absorption in the range of 660-800 nm is provided.
６６０〜８００nmの長波長を吸収するクロリン及びバクテリオクロリンと関連するある種の^124I-標識光線感作物質の合成に関する初めての報告を記載する。 - 特許庁 - To provide a polymer which is excellent in transparency and suitable for a resist resin in a chemical amplification resist for photolithography using an exposure light at a wavelength of 180 nm or less.
波長１８０ｎｍ以下の露光光を用いたフォトリソグラフィ用化学増幅レジストにおけるレジスト樹脂に適する、透明性に優れた重合体の提供。 - 特許庁 - A large number of superfine metallic particles 4 of ≤10 nm in grain size and with grain size made even can be generated through the short- time irradiation of the electron beam 3 of such intensity.
このような高強度の電子線３の短時間照射によって、粒径が10nm以下でかつ粒径が揃った金属超微粒子４を多数生成することができる。 - 特許庁 - The adhesive sheet for optical films has an adhesive layer on a release sheet, and the surface roughness Ra of the adhesive layer on the release sheet is 2-150 nm.
離型シート上に粘着剤層を有する光学フィルム用粘着シートであって、離型シート上の粘着剤層表面の表面粗さ（Ｒａ）が、２〜１５０ｎｍである。 - 特許庁 - To produce a fluorescent substance based on a rare earth vanadium salt and a rare earth vanadium phosphate that is not colored and exhibits high luminance under excitation by vacuum ultraviolet rays (VUV) of 200 nm or less .
着色が無く、２００ｎｍ以下のＶＵＶ励起下で高輝度を発現する、希土類バナジウム塩系および希土類バナジウムリン酸塩系の蛍光体を得る。 - 特許庁 - To provide a method for synthesizing a carbon-based one-dimensional material for synthesizing high purity single wall carbon nanotubes with less than 2 nm diameter at a temperature as low as 650°C or lower.
６５０℃以下の低温で直径が２ｎｍ未満の高純度の単層カーボンナノチューブを合成することができる炭素系一次元材料の合成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a high-efficiency yellow fluorophor having an excitation band in a near-ultraviolet region in the vicinity of 400 nm wavelength.
本発明に係る黄色蛍光体は、近紫外励起にて高効率で発光する蛍光体であり、青色、緑色、赤色蛍光体と組み合わせて白色発光が可能である。 - 特許庁 - To provide a light emitting device whose light emitting output is extremely high at around 200 nm in light emitting wavelength, and to provide a high-output electronic device using an n-type AlN.
発光波長２００ｎｍ付近で発光出力が極めて高い発光素子を提供し、またｎ型ＡｌＮを用いた高出力電子素子を提供すること。 - 特許庁 - That is, providing this seed layer enables forming a pinning layer (MnPt layer) which is very thin (thickness of about 8 nm) similarly as a pinned layer or a free layer.
すなわち、このシード層を設けることによって、ピンド層やフリー層と同様に極薄（約８ｎｍの厚み）であるピンニング層（ＭｎＰｔ層）の形成が可能となる。 - 特許庁 - A topcoat comprising anionic polymer particles (16) with a Tg of 60-100°C and a dimension of <250 nm is applied on the porous ink receiving coating (14).
前記多孔質インク受容コーティング（１４）上に、Ｔｇが６０〜１００℃であり、且つ寸法が２５０ｎｍ未満の高分子粒子（１６）からなる陰イオン性のトップコートを適用する。 - 特許庁 - The porous membrane has pores with a mean pore size of ≤10 nm, and is composed of an oxide solid solution comprising an Al element, a Ce element and a Zr element.
本発明の多孔質膜は、平均細孔径が１０ｎｍ以下の細孔を有し、Ａｌ元素と、Ｃｅ元素と、Ｚｒ元素とを含む酸化物固溶体からなる。 - 特許庁 - To improve radiation efficiency of 185 nm ultraviolet rays, enhance the sustaining rate of the ultraviolet rays, and save energy and maintenance in a low-pressure mercury vapor electric discharge lamp.
低圧水銀蒸気放電灯における１８５ｎｍ紫外線の放射効率向上を図り、当該紫外線の維持率を高め、省エネルギー・省メンテナンスを図る。 - 特許庁 - To provide a device using a carbon nano-tube that has high directivity, diameter of about 1-20 nm, and has a density of 1×10^11/cm^2 or more.
指向性が高く、１〜２０ｎｍ程度の直径を有するカーボンナノチューブを１×１０^11個／ｃｍ^2以上の密度で形成したカーボンナノチューブを用いたデバイスを提供する。 - 特許庁 - As a result, even if the reactive chamber 12 is so-called hot wall type, a silicon crystal layer of film thickness about 400 nm is selectively grown on a silicon exposed surface.
その結果、反応チャンバー１２がいわゆるホットウオールタイプであっても、膜厚約４００nmのシリコン結晶層をシリコン露出面４５に選択成長させることができる。 - 特許庁 - To provide a heat developable photographic sensitive material which ensures few black spots even when exposed with laser light at a wavelength of ≤500 nm and which is excellent in raw stock preservability, and to provide an image forming method.
レーザー光の波長を５００ｎｍ以下で露光しても、黒ポツが少なく、生保存性に優れた熱現像写真感光材料及び画像形成方法の提供。 - 特許庁 - Thereafter, a thermally oxidized film 2 having a thickness of about 2-5 nm is formed by thermally oxidizing the upper part of the silicon carbide layer 1 and a CVD oxidized film 3 is formed on the film 2.
その後、炭化珪素層１の上部を熱酸化して、厚さ２〜５ｎｍ程度の熱酸化膜２を形成し、熱酸化膜２の上に、ＣＶＤ酸化膜３を形成する。 - 特許庁 - (1) The planar aggregates of the zinc oxide of primary zinc oxide particles having 50-100 nm of average particle size and having a relief structure of thickness equal to the size of a particle.
平均粒子径が５０〜１００nmの酸化亜鉛の一次粒子が面状に集合した、これらの一次粒子一個分の厚さの凹凸面を有する酸化亜鉛である。 - 特許庁 - The size of the void is preferably 10 nm-0.5 μm as the diameter of a ball, having the same volume as that of the void.
空洞の大きさは、該空洞の体積と同じ体積を有する球の直径に換算して１０ｎｍ以上で０．５μｍ以下となるような大きさであることが好ましい。 - 特許庁 - When the laser beam is projected upon the sample 20 through the filter 18, only part of the laser beam having a wavelength of about 680 nm is projected upon the sample 20 and the background light is intercepted by the filter 18.
干渉フィルターを通してレーザ光を試料に照射すると、６８０ｎｍ近傍の波長だけが試料に照射され、背景光は干渉フィルターでカットされる。 - 特許庁 - The granular free layer 101 has a thickness of about 5-10 nm and improves overall thermal stability, reduces spin transfer effect and improves a read-out signal.
グラニュラー状フリー層１０１は約５〜１０ｎｍ台のより厚肉とし、全体的な熱安定性を改善し、スピントランスファー効果を低減し、出力読み取り信号を改善する。 - 特許庁 - To provide a thin leaf-like substance without cracks and film exfoliation with a length of ≥100 nm on the film surface and covered with a rutile type titanium dioxide, and a method for producing it.
膜表面に１００ｎｍ以上の長さのクラックや膜剥離がない、ルチル型二酸化チタンで被覆された薄片状物質、及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - Composite metal particles of average particle size 1-10 nm are obtained by dissolving a catalytic component into a plurality of reverse micellar solutions and are deposited on conductive carbon particles.
逆ミセル溶液に触媒成分を溶解して平均粒子径が１〜１０ｎｍの金属粒子を得て、これを導電性カーボン粒子に担持させることを特徴とする。 - 特許庁 - A separator consisting of a fine cellulose fiber in which a maximum fiber size is 1,000 nm or less, and having a permeability of 5 sec/100 cc or more and 700 sec/100 cc or less.
最大繊維太さが１０００ｎｍ以下である微細セルロース繊維からなり、通気度が５ｓｅｃ／１００ｃｃ以上７００ｓｅｃ／１００ｃｃ以下であるセパレータ。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a short-life phosphor which has the main fluorescent component of the fluorescence which is emitted from ZnO:Zn and has the peak central wavelength of 385 nm.
ＺｎＯ：Ｚｎから放出されるピーク中心波長３８５ｎｍの蛍光が主な蛍光成分となる短寿命蛍光体を製作する方法を提供する。 - 特許庁
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