The glass substrate is manufactured by polishing the main surface of substrates by a polishing pad, and setting height (NRa) of minute undulation on the main surface to 0.12 nm or less. ガラス基板は、ガラス素板の主表面を研磨パッドで研磨し、その主表面の微小うねりの高さ(NRa)を0.12nm以下とすることで製造されている。 - 特許庁
The ultraviolet source 102 has a wavelength of about 140 to 400 nm and its intensity is equal to or greater than 1 mV/cm^2, and a high or a low pressure mercury lamp, etc., is used. 紫外線光源102は、およそ140〜400nmの波長で1mV/cm^2以上の強さであって、高圧、低圧水銀ランプ等が用いられる。 - 特許庁
As the laminated polyestel film, an optical density (in terms of a thickness of 100 μm) of 1.0 or more and a reflectivity in a wavelength region of 420 - 900 nm of 90% or more. 積層ポリエステルフィルムとしては、光学濃度(厚み100μm換算)が1.0以上、420〜900nmの波長域における反射率が90%以上である。 - 特許庁
The second light absorption layer 34 allows the writing light to permeate it, and has the light shading performance of an absorbance of 1 or larger for all wavelength regions of 300-550 nm. この第2の光吸収層34は、書込光を透過し、且つ300nm以上550nm以下の全波長領域について吸光度1以上の遮光性能を示す。 - 特許庁
To provide an optical information recording medium wherein medium super resolution is made without especially adding a light absorbing layer to a laser beam having a wavelength of about 400 nm. 波長400nm前後レーザ光に対して、特に光吸収層を付加することなく媒体超解像を可能とする光学情報記録媒体を提供する。 - 特許庁
The adsorbent for the gas odorant contains a silica gel with a center pore diameter of not more than 4 nm and a specific area of not less than 600 m^2/g. 本発明のガス着臭剤用の吸着剤は、中央細孔径が4nm以下で、比表面積が600m^2/g以上のシリカゲルを含むことを特徴とする。 - 特許庁
To provide an optical information recording medium in which informational high density recording and reproducing are possible by irradiating a laser beam of 450 nm or less and which is excellent in especially recording sensitivity. 450nm以下のレーザ光を照射して情報の高密度記録及び再生が可能であり、特に記録感度に優れた光情報記録媒体を提供する。 - 特許庁
When an area ratio of the aggregate having the equivalent circle diameter of more than 5 nm is X% and a total content of the cobalt and the nickel is Y atom%, X<4Y is filled. 等価円直径が5nmを超える凝集体の面積比をX%とし、CoとNiの合計含有量をY原子%としたときに、X<4Yを満たす。 - 特許庁
The excitation light with 976 nm oscillation wavelength is branched with an optical branching filter 17, one portion is outputted to the wavelength conversion element 41b, and the other portion is outputted to an optical multiplexer 18. 976nmの励起光は光分波器17によって分岐され、一方が波長変換素子41bに出力され、他方が光合波器18に出力される。 - 特許庁
This method is very effective when the organic gel is hydrogel containing water, or when the average particle diameter of the anionic/cationic fine particles is 1 to 1,000 nm. 同法において、有機ゲルが水を含有したヒドロゲルである場合や、アニオン性の微粒子およびカチオン性の微粒子の平均粒経が1nm以上1000nm以下である場合に効果が高い。 - 特許庁
Then the metal film, for example 450 nm Au layer 38, is deposited on the Ti/Au laminate film 36 by means of electrolytic plating process, and a gate opening 34 is embedded. 次いで、電解メッキ法で金属層、例えば膜厚450nmのAu層38をTi/Au積層金属膜36上に堆積させ、かつゲート開口34を埋め込む。 - 特許庁
To provide an optical information recording and reproducing method having an aptitude for recording, reproduction and erasure by a short wavelength laser beam having ≤600 nm wavelength and giving high density and high sensitivity. 600nm以下の短波レーザ光での記録、再生、消去適性を有する、高密度および高感度を与える光情報記録再生方法を提供する。 - 特許庁
Gold is precipitated on the surface of a spherical gold grain with a grain size of about 10 nm, thus a new gold grain having a plurality of projections with a chestnut bur shape is formed. 10nm程度の粒径の球形金粒子の表面に金を析出させることにより、栗のイガ状の複数の突起を有した新規な金粒子を形成した。 - 特許庁
The light source light guided through the optical waveguide 110 is bled to the separation film 104 and aspartic acid has a large circular dichroic peak at a wavelength of 210 nm. 光導波路110を導波している光源光は分離膜104にしみ出しており、また、アスパラギン酸は波長210nmに大きな円二色性ピークを有している。 - 特許庁
To provide an electric discharge lamp which emits UV-rays including a wavelength range equal to or shorter than 220 nm, and suppresses the arising of a halogenide from an insulating conductor lead around at the outside of a tube. 220nm以下の波長域を含む紫外線が放射される放電灯において、管体の外を引き回される絶縁導体からのハロゲン化物の発生を抑制すること。 - 特許庁
The color of the material in the glassy state can be controlled by adjusting the temperature of a film or the irradiation quantity of UV rays in a range of 350 nm before quenched. 材料のガラス状態での色は急冷却する前のフィルムの温度または350nm領域での紫外線照射量の調整によって制御できる。 - 特許庁
The entire surface of the substrate to be processed 130 is irradiation-processed with monochromatic light 139 having a wavelength in a region ranging from far-ultraviolet to vacuum ultraviolet and a half-value width of 30 nm or narrower. 被処理基板130上に遠紫外から真空紫外領域の波長で半値幅30nm以下の単色光139を全面照射処理する。 - 特許庁
As a result, sterilization effect is maintained, without weakening the strength of the ultraviolet rays of 254 nm, and a deodorization effect can be obtained, while restraining the amount of the generated ultraviolet rays within the regulated quantity. これにより、254nmの紫外線強度を弱めずに殺菌効果を維持するとともに、オゾン発生量を規定内に抑制しつつ消臭効果を得ることができる。 - 特許庁
The porous composite material containing carbon particles 11 and a water-repellent material 12, has a distribution width of a pore diameter 13 to be 1,000 nm or more. カーボン粒子11と撥水材12とを含む多孔質複合材であって、細孔径13の分布幅が1000nm以上であることを特徴とする多孔質複合材。 - 特許庁
This ordinary temperature catalyst is obtained by carrying a noble metal on an oxide with introduced oxygen deficiency, and ≥90% of the noble metal is carried in the form of fine particles of ≤2 nm particle diameter. 酸素欠損が導入された酸化物に貴金属を担持してなり、貴金属はその90%以上が粒径2nm以下の微粒子状態で担持された構成とした。 - 特許庁
This titanium oxide ultra-fine particle has a particle size of 5 to 100 nm and is a high-crystallinity anatase-single phase titanium oxide ultra-fine particle in which a crystal face {101} is clearly appeared. この酸化チタン微粒子は、粒子径が5〜100nmで、結晶面{101}が鮮明に現れた、高結晶性アナターゼ単相酸化チタン超微粒子である。 - 特許庁
Difference (λ2n-λ2n-1) of center wavelength λ2n-1, λ2n of output light from light sources 112n-1, 112n in the excitation module 10 for raman amplification is 6 nm or less (n=1, 2, 3). ラマン増幅用励起モジュール10内の光源11_2n-1,11_2nからの出力光の中心波長λ_2n-1,λ_2nの差(λ_2n−λ_2n-1)は6nm未満である(n=1,2,3)。 - 特許庁
To provide a recording medium which uses an organic dye material capable of recording/reproduction with light having a wavelength of 620 nm or below, and a recording method and a reproducing device using the same. 620nm以下の波長の光で記録/再生できる有機色素材料を用いた記憶媒体、及びそれを用いる記録方法,記録装置を提供する。 - 特許庁
The medium 21 is made to emit light by making 532 nm pumping light L2 generated by using an Nd: YAG laser 11 and a secondary higher harmonic generator 12 incident on the medium 21. 発光媒質21にNd:YAGレーザー11および2次高調波発生装置12を用いて発生させた532nmの励起光L2を入射して発光させる。 - 特許庁
The polyimide is soluble in a solvent, wherein the double refraction value (X) at a wavelength of 633 nm and the plane orientation value (Y) calculated from IR measurement meet expression (1): Y≤-1.49X+0.55 and 0≤X≤0.30. 溶剤可溶性ポリイミドであって、633nm波長における複屈折の値(X)とIR測定から算出される面配向の値(Y)が、式(1) Y≦−1.49X+0.55かつ0≦X≦0.30を満足するものであるポリイミド。 - 特許庁
To provide an F2 excimer laser capable of producing laser pulses with pulse energies greater than 10 mJ at wavelength in the range of 157 nm, at repetition rates in the range of 1,000 to 2,000 Hz. F_2エキシマレーザは、1000から2000Hzの反復度で、157nmの波長で約10mJを超えるパルスエネルギを有するレーザパルスを生成できる。 - 特許庁
The maximum of carbon element concentration in the carbon accumulation region 10 is provided in a region of 2 nm from an interface between the n-type diffusion layer 7 and the inter-cell insulating film 9. この炭素蓄積領域10における炭素元素濃度の最大がn型拡散層7とセル間絶縁膜9との界面から2nmの領域に設けられている。 - 特許庁
To easily manufacture a large optical fiber preform 1 used for manufacturing an optical fiber with a low loss at a wavelength of 1,385 nm and no increase in scattering loss. 波長1385nm帯において低損失でありかつ、散乱損失の増大が防止された光ファイバを製造するための大型光ファイバ母材1を、容易に製造する。 - 特許庁
The polycrystalline diamond material has 1 nm to 20 μm average particle size and is dispersed in a dispersion medium to be used, for example, as a polishing slurry for a silicon wafer. 多結晶ダイヤモンド材料は、平均粒子径が1nm〜20μmであり、分散媒体に分散されて例えばシリコンウエハの研磨用スラリーとして用いられる。 - 特許庁
The organic/inorganic complex is a forming body where a metal oxide of 300 nm or less is uniformly dispersed in the organic polymer within a range of 1 to 60 wt.%. 有機無機複合体は300nm以下の大きさの金属酸化物が1〜60重量%の範囲で有機高分子中に均一に分散された成形体である。 - 特許庁
To provide a glass ceramic with a black tone containing a reduced percentage of V_2O_5, which has a transmittance of ≤1% for a wavelength of <630 nm in a glass thickness of 4 mm. 630nm未満の波長に対してガラスの厚さ4mmで1%以下の透過率を有するV2O5の割合を減じた黒い色調のガラスセラミックを提供する。 - 特許庁
To provide a glass composition for cold cathode fluorescent lamp capable of restraining the irradiation amount of X-ray of 313 nm, capable of improving brightness based on excited light emission component. 313nmの紫外線の放射量を抑えることができ、かつ、励起発光成分に基づく輝度向上が可能な冷陰極蛍光ランプ用ガラス組成物を提供する。 - 特許庁
The optical fiber has an effective area exceeding 100 μm^2, that compiles with the G.652 standard except specifications relating to the mode field diameter at a wavelength of 1,310 nm. 光ファイバは、1310nmの波長のモードフィールド径に関する仕様を除いて、G.652規格に対応しながら、100μm^2より大きい実効面積を有する。 - 特許庁
The binary porous silica particles have 0.1 to 30 μm pore diameter of macropores, 1 to 50 nm average pore diameter of nanopores and 5 μm to 10 mm average particle diameter. マクロ細孔の細孔径が0.1〜30μm、ナノ細孔の平均細孔径が1〜50nmであって、平均粒子径が5μm〜10mmである二元細孔シリカ粒子 - 特許庁
To provide an aligner for manufacturing a semiconductor device comprising a fine pattern with a line width 100 nm or less by using an F2 excimer laser beam as an exposure light source. F_2 エキシマレーザ光を露光光源として用いて線幅が100nm以下の微細パターンを有する半導体装置を製造するための露光装置の提供。 - 特許庁
Transmission loss of at least one of the first optical fiber 11 and the second optical fiber 12 in wavelength of 1383 nm is 0.32 dB/km or less. 第1光ファイバ11および第2光ファイバ12のうちの少なくとも一方は、波長1383nmにおける伝送損失が0.32dB/km以下である。 - 特許庁
To provide a semiconductor device which is excellent in flatness by satisfactorily embedding an insulating layer in an STI structure following 90 to 70 nm width generations. 90−70nm幅世代以降のSTI構造に対して絶縁膜を良好に埋め込むことができ、平坦性の優れた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
Since the mean particle diameter of fine metallic particles produced when the compound is heat-dissolved becomes <7 nm and the particles are uniformly distributed in the mixed solvent, the stable magnetic fluid can be obtained. その結果得られる金属微粒子の平均粒径は7nm未満となり、溶媒中に均一に分散するため、安定した磁性流体を得ることができる。 - 特許庁
To produce a highly functional Ga_2O_3 single crystal thin film which can be used as a light source emitting light in a far ultraviolet region where the wavelength is 250-270 nm by a simple means. 波長250〜270nmの深紫外域で発光する光源として使用可能な高機能性Ga_2O_3単結晶薄膜を、簡便な手段で作製する。 - 特許庁
To form a silicon (Si) fine particle having high surface stability and a particle size of at least several hundreds nm or less from a silicon substrate, and create a solar cell by using it. シリコン基材から、表面安定性の高い、粒径が少なくとも数百nm以下のシリコン(Si)微細粒子を形成し、それを用いて太陽電池を創製する。 - 特許庁
A thin impurity diffusion inhibition layer with an approximately 1 nm thickness is buried into a semiconductor region for forming such impurity diffusion layer as source/drain regions in advance. ソース/ドレイン領域等の不純物拡散層を形成する半導体領域に予め、膜厚1nm程度の薄い不純物拡散抑制層を埋め込み形成しておく。 - 特許庁
Anisotropy of the refractive index of the liquid crystal for light with 590 nm wavelength is preferably 0.18 or more, and a cell gap of the liquid crystal cell 1 is preferably set to be 5.0 μm or less. また、波長590nmの光に対する液晶の屈折率異方性が0.18以上であり、液晶セル1のセルギャップを5.0μm以下とすることが好ましい。 - 特許庁
To improve the conversion efficiency of a thin-film photoelectric converting device by effectively using the incident sunshine (400 to 1200 nm). 本発明は、入射した太陽光(400〜1200nm)を有効に利用することによって、薄膜光電変換装置の変換効率を向上させることを目的とする。 - 特許庁
The optical pickup 100 is designed so that the aberration is smallest when a light beam of a wavelength of 405 nm is focused on the center recording layer 14 of an optical disk 10. 光ピックアップ100は、波長405nmの光が、光ディスク10の中央の記録層14に合焦する場合に、収差が最も小さくなるように設計されている。 - 特許庁
The surface (charged surface) of the electrostatic charging member 3 is formed of aluminum material, and a porous anodic oxide film is formed with a thickness of 300 to 5,000 nm on the surface of the aluminum material. 帯電部材3の表面(帯電面)はアルミニウム材で形成され、そのアルミニウム材の表面には多孔質の陽極酸化皮膜が300〜5000nmの厚さで形成されている。 - 特許庁
Preferably, a half-value width of the wavelength of the processing light to energy intensity is 5 to 700 nm and the optical recording medium is of a write-once (WORM) type. 該処理光のエネルギー強度に対する波長の半値幅が5〜700nmである態様、該光記録媒体が、ライトワンス(WORM)型である態様が好ましい。 - 特許庁
A first plating film composed of tin and a second plating film having a thickness of ≤50 nm and comprising a metal baser than tin are successively formed on the surface of a terminal component in an inert atmosphere. 不活性雰囲気で、スズからなる第一のめっき膜と、厚さが50nm以下で、スズより卑な金属を含む第二のめっき膜を、端子部品表面に順次形成する。 - 特許庁
The average particle diameter of primary particles of the pigment is 5-25 nm, and the vinyl copolymer contains carboxyl group in an amount within a range of 50-200 mgKOH/g. 前記顔料は平均1次粒子径が5〜25nmであり、前記ビニル共重合体がカルボキシル基を50〜200mgKOH/gの範囲で有することを特徴とする。 - 特許庁
A semiconductor laser having a wavelength of 420 nm or shorter is used for an exposure light source 1, and the intensity of an exposure beam is directly modulated by modulating its driving current. 露光光源1に波長420nm以下の半導体レーザを使用し、これの駆動電流を変調することにより直接露光ビームの強度を変調する。 - 特許庁
The polarizing plate 1 is produced by sticking the polycarbonate sheet 3 having ≤300 nm retardation value and 0.05-0.25 mm thickness on one or both surfaces of a polarizing thin film 2. 偏光性薄膜2の片面又は両面に、リタデーション値が300nm以下であり、厚さが0.05〜0.25mmのポリカーボネートシート3を貼着して偏光板1とする。 - 特許庁