「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 137 138 139 140 141 142 143 144 145 .... 287 288 次へ＞- A high resistance coat film is formed in the magnetic-particles surface for the rare earth permanent magnet by using coat film formation process liquid for a high resistance having the film thickness of sub μm-nm.
上記課題を解決するために、希土類磁石用磁粉表面にサブμｍ〜ｎｍの膜厚を有する高抵抗コート膜形成処理液による高抵抗コート膜を形成する。 - 特許庁 - This evaluation method for the chap of the lip is so constituted as to illuminate lights mainly including a light with a wavelength of 290-420 nm to the lip of a subject and observe the brightness of the color on the lip.
被験者の唇に２９０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長の光を主に含む光を照射し、唇上の明度を観察することを特徴とする唇の荒れの評価方法。 - 特許庁 - A fine particle dispersion layer containing at least one kind of fine particle that is selected from metal or a metal oxide where a particle diameter ranged from 1 to 500 nm is formed on the surface of the ceramics substrate 1.
金属及び金属酸化物から選択され粒径が１〜５００ｎｍである少なくとも一種の微粒子を含む微粒子分散層を、セラミックス基板１表面に形成する。 - 特許庁 - The setting resin composition contains (A) an ethylenic unsaturated group-containing fluorinated polymer and (B) a particle whose main component is a silica whose number average particle size is 40-100 nm.
下記成分（Ａ）及び（Ｂ）：（Ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、（Ｂ）数平均粒径４０〜１００ｎｍのシリカを主成分とする粒子、を含有する硬化性樹脂組成物。 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern using liquid for a liquid immersion exposure process having extremely high transparency and a refractive index that is higher than that of water at a wavelength range of 200 nm or smaller.
200nm以下の波長範囲において非常に高い透明性と水よりも高い屈折率を有する液浸露光プロセス用液体を用いてレジストパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁 - Also a SiN film on a polysilicon gate is irradiated at least once with a white light, having a wavelength of 200 nm or longer for 10 msec or shorter with an energy of 10-100 J/cm2.
また、ポリシリコンゲート上のＳｉＮ膜を波長２００ｎｍ以上の白色光を１０ｍｓｅｃ以内、１０〜１００Ｊ／ｃｍ^2 のエネルギーで少なくとも１回照射する。 - 特許庁 - A separator contains fluoro-mica particles having particle diameters between 1 nm and 1 μm at a rate of 0.05-50 wt.%.
フッ素雲母粒子を含有させたことを特徴とするセパレータであって、該フッ素雲母粒子の粒子径は１ｎｍ〜１μｍ、また、含有率はセパレータに対して重量比で０．０５〜５０％とされる。 - 特許庁 - This plaque detection method is characterized in sticking the plaque disclosing agent having the constitution to the object in the oral cavity and then illuminating the light having the wavelength within 250-500 nm to the object.
上記構成の歯垢染色剤を口腔内の対象物に付着させた後、該対象物に２５０〜５００ｎｍの範囲内の波長を有する光を照射する歯垢検出方法。 - 特許庁 - To provide a high sensitivity heat developable photosensitive material suitable for medical image use and giving an image having excellent gradation and color tone by heat development after exposure with laser light of 350-450 nm.
350ｎｍ〜450ｎｍのレーザー光で露光、熱現像することによって、優れた階調、色調の画像が得られる医療画像用途に適した高感度の熱現像感光材料が提供される。 - 特許庁 - To provide a display device having a thin metal-organic mixed layer (MOML) that contains a metal (contained material) and an organic material and has a thickness less than 175 nm.
金属（含有材料）および有機材料を含み、１７５ｎｍ未満の厚さを有する薄い金属−有機材料混合層（ＭＯＭＬ）を備えた表示デバイスを提供すること。 - 特許庁 - The visible light selective absorption layer 6 is formed by containing and dispersing a visible light selective absorption material having an absorption peak in a wavelength range of 575-600 nm in translucent material.
可視光選択吸収層６は、５７５〜６００ｎｍの波長域に吸収ピークを有する可視光選択吸収材料を、透光性材料に含有・分散させて構成される。 - 特許庁 - To provide an inspection device capable of detecting relatively large-sized defects with high sensitivity as well as fine defects whose amount of change in height or depth is equal to or less than 1 nm.
比較的大きなサイズの欠陥を高感度で検出できると共に、高さ又は深さの変化量が１ｎｍ又はそれ以下の微細な欠陥も検出できる検査装置を実現する。 - 特許庁 - The protease is such that the ketamine content of its solution at 10,000 U/mL is 0.0-2.0 μmol/L and/or the absorbance at 500-700 nm is 0-20 mAbs.
１００００Ｕ／ｍｌのプロテアーゼ溶液中のケトアミン含有量が０．０〜２．０μｍｏｌ／Ｌである及び／又は、５００〜７００ｎｍの吸光度が０〜２０ｍＡｂｓであるプロテアーゼを用いる。 - 特許庁 - The two solid solutions composing the above main phase are characterized by growing in a particular crystal orientation in a cooling process, and having the periodic structure with phase intervals of a nano order, namely of 1.0-100 nm.
また、前記主相を構成する二固溶体は冷却過程で特定の結晶方位に成長し、相間隔が１．０〜１００nmのナノオーダの周期構造を有することを特徴とする。 - 特許庁 - The elastic layer forming the outermost layer consists of a rubber or a thermoplastic elastomer containing carbon black having the DBP oil absorption of 100-130 ml/100g, and the mean grain size of 20-55 nm.
最外層をなす弾性層が、ＤＢＰ吸油量１００〜１３０ｍｌ／１００ｇ、平均粒子径２０〜５５ｎｍであるカーボンブラックを含むゴムまたは熱可塑性エラストマーからなる。 - 特許庁 - The peak shift of the peak top of interfering light, before and after the selective holding layer is treated at 32°C for 3 hr using a 1.5 μM avidin aqueous solution, is preferably 2 nm or below.
選択的保持層を１．５μＭのアビジン水溶液を用いて３２℃にて３時間処理した前後における、干渉光のピークトップのピークシフトが、２ｎｍ以下である態様が好ましい。 - 特許庁 - This pest-repellent coating liquid composition comprises red microparticles having the crystal structure of α-Fe2O3 and an average size of 25-90 nm, organic and/or inorganic binder(s) and an organic solvent.
平均粒径２５〜９０ｎｍのα−Ｆｅ_2 Ｏ_3 の結晶構造を持つ赤色微粒子と、有機および／または無機バインダーと、有機溶媒よりなる害虫阻止用塗布液組成物を得る。 - 特許庁 - The reflection surface 2 has fine protrusion parts 2a according to protrusion of the microspheres 16 and a water-repellent film 20 having a thickness of 10 nm or less is formed along the shape of the protrusion parts 2a on the same.
反射表面２は、微小球１６の突出による微小な凸部２ａを有し、該凸部２ａにはその形状に沿って厚さ１０ｎｍ以下の撥水膜２０が形成されている。 - 特許庁 - By regulating the spacing between protrusions to 200 nm and forming a film of titanium or another metal on the surface, a carbon nanowall bridging adjoining protrusions was able to be formed (2.B).
また、凸部と凸部の間隔を２００ｎｍとし、表面にチタンその他の金属膜を形成することで、隣り合う凸部と凸部を橋架けするカーボンナノウォールを形成できた（２．Ｂ）。 - 特許庁 - The catalyst has more preferably fine pores belonging to at least two different pore diameter ranges of a fine pore with a pore diameter of 0.5-20 nm, and a fine pore with a pore diameter of 0.1-5 μm.
触媒は、孔径０．５〜２０ｎｍである細孔と、孔径０．１〜５μｍである細孔の少なくとも二つの異なる孔径範囲に属する細孔を有することがより好ましい。 - 特許庁 - This projection optical system has an image side numerical aperture of ≥0.75 and forms the image of a first object (3) on a second object by using specified light having a wavelength of ≤300 nm.
０．７５以上の像側開口数を有し、３００ｎｍ以下の波長を有する所定の光に基づいて第１物体（３）の像を第２物体上に形成する投影光学系。 - 特許庁 - To obtain a semiconductor device manufacturing method adapted to the manufacturing of an SoC device after the 45 nm generation in which the processability of a metal gate structure is improved without increasing the number of processes.
工程数を増加させずにメタルゲート構造の加工性を向上した、４５ｎｍ世代以降のＳｏＣデバイスの製造に対応可能な半導体装置の製造方法を得る。 - 特許庁 - An insulating material has the feature of having voids formed by plural fine particles whose diameters are ≤1 μm, and those particles of diameter ≤100 nm are more preferable.
粒子径が１μｍ以下である複数の微粒子により形成された空間を有することを特徴とする電気絶縁材料であり、微粒子の粒子径は１００ｎｍ以下が更に好ましい。 - 特許庁 - The colored layer 50 is a light absorption layer which absorbs ≥95% of visible light having a wavelength range of 400 to 700 nm and provided to cover the end portion of the glass substrate 10.
着色層５０は、波長域が４００〜７００ｎｍである可視光を９５％以上吸収する光吸収層であって、ガラス基板１０の端部を覆うように設けられている。 - 特許庁 - The aperture of the fine pore 21 in the mesoporous silica 2 is 1.0-6.0 nm and the support quantity of the porphyrin metal complex 3 is 5-10 wt% relative to 100% of the mesoporous silica 2.
メソポーラスシリカ２における細孔２１の孔径は、１．０〜６．０ｎｍであり、ポルフィリン金属錯体３の担持量は、１００ｗｔ％のメソポーラスシリカ２に対して５〜１０ｗｔ％となっている。 - 特許庁 - The fuel additive comprises silica-alumina fine particles having an average particle diameter of from 5 nm to 0.5 μm, dispersed in a range from 0.1 to 50 wt.% in terms of oxides, into an organic solvent such as alcohol.
平均粒子径が５ｎｍ〜０．５μｍの範囲にあるシリカ・アルミナ微粒子を酸化物として０．１〜５０重量％の範囲でアルコール等の有機溶媒に分散させた燃料添加剤。 - 特許庁 - The component inside the enclosure is subjected to a reactive fluid pressure higher than 10 bars during a predetermined period and also subjected to thermal activation (T>100°C) or optical activation (λ<500 nm).
容器内の構成部材は、所定の期間、１０バールよりも高い反応性流体圧力を受け、かつ熱的活性化（Ｔ＞１００℃）または光学的活性化（λ＜５００ナノメートル）を受ける。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an SiC single-crystal substrate having an extremely flat surface such that a surface of an active layer of the SiC single-crystal substrate has a center-line average roughness of approximately 0.1 nm.
ＳｉＣ単結晶基板の活性層表面の中心線平均粗さが、０．１ｎｍ程度と、極めて平坦な表面を持つＳｉＣ単結晶基板の製造方法を提供する - 特許庁 - The composite fabric for cool feeling material is made by laminating a nanofiber nonwoven fabric comprising fiber having a diameter of 50 nm or more and less than 2.5 μm, and at least one layer of knitted texture on each other.
直径が５０ｎｍ以上２．５μｍ未満の繊維からなるナノファイバー不織布及び少なくとも１層の編生地が積層されてなる冷感素材用複合ファブリックである。 - 特許庁 - To provide a display apparatus which can improve transmittance in a desired wavelength by using a thin silver film layer that contains 90 wt.% or more of silver and has a film thickness of thinner than 30 nm.
銀を９０重量％以上含み、膜厚が３０ｎｍ未満の銀薄膜層を用い、所望の波長における透過率を改善できる表示装置を提供する。 - 特許庁 - A woven fabric whose thickness is settled within a range of 0.1 to 1.0 mm is constituted of filament yarn A the single fiber diameter of which is 10 to 1,000 nm and the number of filaments of which is 2,000 or more.
単繊維径が１０〜１０００ｎｍであり、かつフィラメト数が２０００本以上のフィラメント糸Ａにより、厚さが０．１〜１．０ｍｍの範囲内の織編物を構成する。 - 特許庁 - When the applied pressure is 500 MPa, a highly-transparent alumina having a real in-line transmittance (wavelength of 645 nm) higher than 60% is obtained at a low temperature of 950-1,000°C.
印加圧力が５００ＭＰａの場合、９５０℃〜１０００℃という低温で、６０％よりも高い実直線透過率（波長６４５ｎｍ）を持つ高度に透明なアルミナが得られた。 - 特許庁 - The multiquantum barrier layer 20 has the cycle period of a well layer and a barrier layer in the range of 5-10 periods, and the total thickness of 50 nm or less.
多重量子障壁層２０は井戸層と障壁層との繰り返し周期が５〜１０周期の範囲内であり、かつ多重量子障壁層２０の総厚が５０ｎｍ以下である。 - 特許庁 - To provide a resin film having an ultraviolet light-blocking effect in a wide range including long wave ultraviolet light (UV-A) at around 400 nm, and maintaining excellent light stability performance for a long period of time.
４００ｎｍ付近の長波紫外線（ＵＶ−Ａ）領域を含む広い範囲で紫外線遮蔽効果を有し、長期に亘り優れた耐光性能を維持する樹脂フィルムを提供する。 - 特許庁 - The hydrogen occluding material comprises the cylindrical carbon compounds with pores having a volume of 0.22 ml/g or more to 0.6 ml/g or less in the pores having the diameters of 1 nm or less.
細孔を有する筒状の炭素化合物からなり、径１ｎｍ以下の前記細孔が容積０．２２ｍｌ／ｇ以上、０．６ｍｌ／ｇ以下の容積を占めている、水素吸蔵材料。 - 特許庁 - Since in the carbon fiber composite material 10, the fine pores having 12 nm order diameter are formed in the matrix 12, the specific surface area of the carbon fiber composite material is increased.
この炭素繊維複合材料１０は、マトリックス１２にナノメータ（ｎｍ）オーダーの径の微細気孔が形成されているので、炭素繊維複合材料１０の比表面積が増大する。 - 特許庁 - The conductive polymer material has a layer containing the conductive polymer on the support body with the transmittance of the light of a wavelength of 410 nm of 40% or lower.
また、本発明の導電性ポリマー材料は、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下である支持体上に、導電性ポリマーを含有する層を備える。 - 特許庁 - To provide a manufacturing technology of a semiconductor device using a defective modification technology of a reflective mask which lets extreme ultraviolet (EUV) light having the wavelength of near 13.5 nm be an exposure light source.
波長が１３．５ｎｍ付近の極端紫外(Extreme Ultra Violet：ＥＵＶ)光を露光光源とする反射型マスクの欠陥修正技術を利用した半導体装置の製造技術を提供する。 - 特許庁 - To prevent a semiconductor storage device whose cell size is ≤60 nm from deteriorating in charge holding characteristic when a high-permittivity insulating film is introduced in a tunnel insulating film and an inter-electrode insulating film.
セルサイズが６０ｎｍ以下の半導体記憶装置において、トンネル絶縁膜や電極間絶縁膜に高誘電率絶縁膜を導入した場合の電荷保持特性の劣化を防ぐ。 - 特許庁 - To provide an EUV light source in which debris can be reduced while an appropriate target material Sn is used in a wavelength area in the vicinity of 13 nm used for an EUV exposure device.
ＥＵＶ露光装置に使用される１３ｎｍ付近の波長域において適当なターゲット材料であるＳｎを用いつつ、デブリを低減することができるＥＵＶ光源を提供する。 - 特許庁 - After a p-type pocket layer 14 is formed on the front surface of a semiconductor substrate 11, a thin sidewall insulating film 15 having a width of about 10 nm is formed, and P ions are implanted.
Ｐ型ポケット層１４を半導体基板１１の表面に形成した後、幅が１０ｎｍ程度の薄いサイドウォール絶縁膜１５を形成し、Ｐのイオン注入を行う。 - 特許庁 - A dispersed particle size of black pigment which is contained in the black composition containing a resin component and the black pigment, for forming the partition wall for an inkjet type color filter, is set to be 120 nm or less.
樹脂成分と、黒色顔料と、を含有するインクジェット方式カラーフィルタ隔壁形成用黒色組成物に含有される黒色顔料の分散粒子径を、１２０ｎｍ以下とする。 - 特許庁 - The optical device 10 includes a laser light source 12 which emits a laser light of short wavelength range (for example, 160 to 500 nm), a lens 14, a transparent member 16, and an optical fiber 18.
光デバイス１０は、短波長（例えば１６０〜５００ｎｍ）のレーザ光を出射するレーザ光源１２、レンズ１４、透明部材１６、及び光ファイバ１８を含んで構成されている。 - 特許庁 - A fluorescent lamp FL of the back light device 14 is three wavelength type having a red phosphor, a green phosphor and a blue phosphor, and a half width value of the blue phosphor is not more than 40 nm.
バックライト装置14の蛍光ランプFLは、赤色蛍光体、緑色蛍光体、青色蛍光体を備えた３波長形とし、青色蛍光体は、半値幅を４０nm以下とする。 - 特許庁 - The uppermost layer of the thin-film laminate 31 is the Ti_XO_Y film 31b, and an Al_2O_3film 32 of 6.5 nm film thickness is film-formed on the Ti_XO_Y film 31b as an anti-oxidization film.
この薄膜積層体３１の最上層はＴｉ_XＯ_Y膜３１ｂとし、そのＴｉ_XＯ_Y膜３１ｂ上に酸化防止膜として膜厚６．５ｎｍのＡｌ_2Ｏ_3膜３２を成膜している。 - 特許庁 - To provide a new image recording medium used for recording with high sensitivity (particularly for the image complying with the condition of 360-420 nm essential as a process mask film) and provided with superior storage stability.
高感度の記録（特に製版用マスクフィルムとして不可欠な３６０〜４２０ｎｍに対応する画像記録）が可能であり、かつ保存安定性に優れた新規な画像記録媒体を得る。 - 特許庁 - This porous structure is mainly composed of a water repellent material, and has holes having 300-800 nm of diameter, and formed at 30-70 % of void ratio.
撥水材を主成分とする多孔質構造体であって、直径３００〜８００ｎｍの空孔を有し、空隙率が３０〜７０％である多孔質構造体により上記課題を解決する。 - 特許庁 - To produce a magnetic recording medium having a high squareness ratio by achieving a high orientation property, when a magnetic layer of upper layer is formed to a thin layer of ≤50 nm by an wet-on-dry method.
ウェット・オン・ドライ方式により、上層の磁性層を５０ｎｍ以下の薄層に形成する場合において、高配向性を実現し、高い角形比を有する磁気記録媒体を作製する。 - 特許庁 - The silica-carbon composite porous body is prepared so as to have a specific surface area of 20-1,000 m^2/g, a pore volume of 0.3-2.0 ml/g and an average pore diameter of 2-100 nm.
このシリカ・炭素複合多孔質体は、比表面積が２０−１０００ｍ^2／ｇ、細孔容積が０．３−２．０ｍｌ／ｇ、平均細孔径が２−１００ｎｍに調製される。 - 特許庁 - To provide a process for producing an optical fiber preform and an apparatus for the process, in which the phenomenon in which a large loss is caused especially in the region of short wavelengths of 1,310 nm and shorter can be inhibited from occurring.
特に1,310nm以下の短い波長領域で損失が大きくなるという現象の発生を抑制することのできる、光ファイバ母材の製造方法及びその装置を提供する。 - 特許庁
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