「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 168 169 170 171 172 173 174 175 176 .... 287 288 次へ＞- The packaged beverage includes: glucosamines and oil-in-water type emulsion particles, wherein the glucosamines is an N-acetylglucosamine, and a particle diameter of the emulsion particles is less than 200 nm.
本発明の容器詰飲料は、グルコサミン類と、水中油型のエマルション粒子とを含み、ここで前記グルコサミン類が、Ｎ−アセチルグルコサミンであり、前記エマルション粒子の粒子径が２００ｎｍ以下である容器詰飲料。 - 特許庁 - This adhesive composition contains (A) a compound having at least one ethyleneimine backbone and (B) a compound which generates an acid by the irradiation with light of 150-750 nm wave lengths or by heating at 80-200°C.
（Ａ）分子中に１つ以上のエチレンイミン骨格を有する化合物、(Ｂ)１５０〜７５０ｎｍの光照射または８０〜２００℃の加熱によって酸を発生する化合物とを含有する接着剤組成物。 - 特許庁 - The low refractive index fine particles are synthesized with an emulsion polymerization method and have an average primary particle size of 80-500 nm, and an acrylate monomer with two or more functional groups of ≥1 pts.wt. is used in the emulsion polymerization.
該低屈折率微粒子は乳化重合法により合成されたものであり、平均一次粒子径が８０〜５００ｎｍで、かつ乳化重合時にニ官能以上のアクリレートモノマーを1重量部以上使用する。 - 特許庁 - In addition, the sheet comprises a water-double polymer layer and a layer containing the particulate synthetic silica and alumina with 50 nm or less average grain dia. of primary particle by a vapor phase process, formed in order near to a base material.
（２）支持体に近い方から水溶性ポリマー層、ついで一次粒子の平均粒径が５０ｎｍ以下の気相法による合成シリカ微粒子とアルミナ微粒子とを含有する層を有するインクジェット記録用シート。 - 特許庁 - The dust core having an excellent soft magnetic characteristic and highly saturated magnetic flux density is obtained thereby using the nano-crystalline alloy powder deposited with a microscopic nano-crystal of 30 nm or less comprising bccFe of high magnetization.
これにより、高磁化のｂｃｃＦｅからなる３０ｎｍ以下の微細なナノ結晶が析出したナノ結晶合金粉末を用いて優れた軟磁気特性と高飽和磁束密度とを有する圧粉磁心を得ることができる。 - 特許庁 - According to an analysis by high-frequency glow discharge atomic emission spectrometry, the maximum value of Si concentration in a surface layer extended 20 nm from the surface of the copper or copper alloy tube is 0.3-30 atom%.
高周波グロー放電発光分光分析法により分析したときの前記銅又は銅合金管の表面から２０ｎｍまでの表層部におけるＳｉ濃度の最大値が０．３乃至３０原子％である。 - 特許庁 - Thus the cross-section of the silicon filament core 102 is characteristically formed to be flat and when waveguide length is formed to about 2.2 cm, a filter having transmission wavelength interval Δλ=0.08 nm can be obtained.
このように、シリコン細線コア１０２の断面が扁平に形成されていることが特徴でり、導波路長が２．２ｃｍ程度に形成されていれば、透過波長間隔Δλ＝０．０８ｎｍのフィルタが得られる。 - 特許庁 - Illumination light L1 and auxiliary light L2 of a wavelength 805 nm are emitted onto an observation target 10 and obtained RGB image signals are outputted to an estimated spectroscopic data calculation unit 180 and an image processing unit 182.
照明光Ｌ１および波長８０５ｎｍの補助光Ｌ２を被観察部１０へ照射、取得したＲＧＢ画像信号を推定分光データ算出部１８０および画像処理部１８２へ出力する。 - 特許庁 - The bismuth-based lead-free glass is used as a light patterning glass material which is patterned by light irradiation and has a light absorption coefficient of 300-3,000 cm^-1 at the wavelength of 365 nm.
光照射によりパターニングされる光パターニングガラス材料に用いられ、３６５ｎｍの波長の光に対する吸収係数が３００〜３０００ｃｍ^-1であることを特徴とするビスマス系無鉛ガラスを提供する。 - 特許庁 - Alternatively, the number of nitrogen compounds of 10 to 200 nm in the region within 3 μm to the sheet thickness direction from the sheet surface is controlled to ≥2 times compared with the number of the nitrogen compounds with the above dimensions in the central part of the sheet thickness.
または板表面から板厚方向３μm以内の領域における10nm以上200nm以下の窒素化合物の個数が、板厚中心部の前記大きさの窒素化合物の個数に比較して、２倍以上とする。 - 特許庁 - The paint higher in functionality can be obtained by dispersing or the like at least either ones of particulates having particle sizes of 50-800 nm and liposomes as a dispersed phase particulate in the paint as a dispersion medium.
５０〜８００ｎｍの粒径を有するものとリポソームのうち少なくとも一方を分散相たる粒状物として、分散媒たる塗料中に分散等させることでより機能性の富んだ塗料を提供できる。 - 特許庁 - An inventive anti-oxidation film S is formed on a second metal layer 106c of gold (Au) having a thickness of about 200 nm and located above a p-type contact layer 105b by lift-off method employing photolithography.
ｐ型コンタクト層１０５ｂの上方に位置する金（Ａｕ）から成る膜厚約２００ｎｍの第２金属層１０６ｃの上には、フォトリソグラフィーを用いたリフトオフ法にしたがって、本発明の酸化防止膜Ｓを形成する。 - 特許庁 - To produce a photocatalyst structure having a carrier high in light transmissivity, capable of effectively utilizing the light energy of a light source with a wavelength of 240-420 nm and using the inexpensive carrier, and to provide a photocatalyst reactor using the same.
担体自体の光透過性が高く、波長240〜420nmの光源の光エネルギーの有効利用を可能とし、しかも廉価な担体を用いた光触媒構造体およびそれを用いた光触媒反応器を提供する。 - 特許庁 - In the particle laminated film laminate, particles having an average partiucle size of 1-23 nm and an electrolyte polymer are adsorbed alternately on the surface of a solid substrate having polar groups in the surface.
表面に極性基を有する固体基材の表面に平均一次粒子径が１ｎｍ以上２３ｎｍ以下である微粒子および電解質ポリマーを交互に吸着させてなる微粒子積層膜積層体。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which an LaO film is etched with high precision to leave an LaO film in a predetermined region in a microstructure like a CMOS semiconductor device after hp45 nm.
ｈｐ４５ｎｍ以降のＣＭＯＳ半導体装置のような微細構造において、ＬａＯ膜を高精度でエッチングして所定の領域にＬａＯ膜を残すことができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - It can be judged by irradiating the paper with the ultraviolet rays of the wavelength longer than 300 nm whether it is an authentic gift exchange ticket issued by using this rolled paper 1 for ticket issue or the ticket is forged outside the shop.
この発券用ロール紙１を用いて発券された正規の景品交換チケットであるか、店外で偽造されたものであるかは、波長が３００ｎｍ以上の紫外線を照射することによって判断できる。 - 特許庁 - Hence, the irradiation of a position corresponding to the mirror area and a position corresponding to the nano area each with the laser beam of 405 nm wavelength enables each memory layer of the mounted disk to be discriminated on the basis of the reflectance of both positions observed in the irradiation.
よって、ミラー領域に対応する位置とナノ領域に対応する位置に、それぞれ波長405nmのレーザ光を照射し、そのときの反射率に基づいて、装着されたディスクの各記憶層を判別する。 - 特許庁 - The surface treated silicon substrate for a magnetic disk having a texture formed on the surface of a silicon substrate having an oxide film of 0-2 nm thick and the magnetic recording medium built by using this silicon substrate are provided.
厚みが０〜２ｎｍの酸化膜を有するシリコン基板の表面に形成されたテクスチャーを有する磁気ディスク用の表面処理シリコン基板、および該シリコン基板を用いてなる磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁 - The light accumulating strontium aluminate material has a stuffed tridymite structure expressed as SrAl_2O_4 in host crystals and spacing in a range of 0.3120-0.3140 nm in the (-211) plane.
また、さらに母体結晶がＳｒＡｌ_２Ｏ_４で表されるスタッフド・トリジマイト構造を有し、（−２１１）面の面間隔が０．３１２０〜０．３１４０ｎｍの範囲にあることを特徴とするアルミン酸ストロンチウム系蓄光材料である。 - 特許庁 - The method for manufacturing the semiconductor device having the MOS structure where the gate insulating film with thickness of 100 nm or thicker is formed by LPCVD process on the surface of a region containing boron as a dopant element.
不純物元素としてボロンを含有する領域の表面に、１００ｎｍ以上の厚さのゲート絶縁膜がＬＰＣＶＤ法により形成されるＭＯＳ構造を有する半導体装置の製造方法とする。 - 特許庁 - The recording sheet with an ink acceptive layer comprises a base sheet, and the acceptive layer formed on the sheet and containing crystalline alumina particles having a mean particle size of a range of 2 to 1,000 nm.
基材シートと、該基材シート上に形成されてなり、かつ平均粒子径が２〜１０００ｎｍの範囲にある結晶性アルミナ粒子を含んでなる受容層とからなることを特徴とするインク受容層付記録用シート。 - 特許庁 - When a pigment composition including 30 mass% the pigment as a solid component is formed into a film so that the film thickness after drying is 1.0 μm, the absorbance at wavelength 570 nm of the dried film is 0.8 or less.
固形分として顔料を３０質量％含む顔料組成物を、乾燥後の膜厚が１．０μｍとなるように製膜した時の、該乾燥後の膜の、波長５７０ｎｍにおける吸光度が０．８以下である。 - 特許庁 - At this time, the average particle size of the metal oxides is required to be 3 to 40 nm, the hydrophobic rate of the surface to be ≥85%, further preferably ≥98% and the refractive index to be ≥1.65.
その際、金属酸化物の平均粒子径が３ｎｍ以上４０ｎｍ以下、表面の疎水率が８５％以上、更に望ましくは９８％以上であり、かつ屈折率が１．６５以上であることが必要である。 - 特許庁 - A water-soluble polymer dispersion liquid contains a metal oxide fine particle having an accumulated average diameter of 1 to 100 nm homegeneously dispersed therein and a low molecular weight gelatin of 0.001 to 200% based on the total mass of the metal oxide particle.
累積平均粒径が1〜１００ｎｍである金属酸化物微粒子が均一に分散され、低分子量ゼラチンを金属酸化物微粒子全質量の０．００１％〜２００％含む水溶性ポリマー分散液。 - 特許庁 - To provide a polyester film for a dry film photoresist which is excellent in transparency, light transmittance in particular in the vicinity of a wavelength of 365 nm, sliding property, antistatic characteristics and scraping resistance, and has an excellent fine pattern circuit forming property.
透明性、特に波長３６５ｎｍ近辺の光線透過率、滑り性、帯電防止特性および耐削れ性に優れ、ファインパターン回路形成性に優れたドライフィルムフォトレジスト用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁 - In addition, the semiconductor laser element 31 which emits the nonlinear optical-crystal exciting laser beam having the oscillation wavelength of 810 nm is constituted in a DBR laser adopting a window structure in which zinc is diffused in the end face of a cavity.
そして、光学非線形結晶励起用の発振波長８１０ｎｍの半導体レーザ素子３１を、キャビティ端面に亜鉛を拡散させた窓構造を採用したＤＢＲレーザとすることを特徴としている。 - 特許庁 - After the TiN film 16 is removed, an H_2SO_4 solution is used, for example, to clean the silicon substrate 1 so that the respective etching rates of the tungsten and Co silicide layer 17 become 0.3 nm/min or lower.
ＴｉＮ膜１６を除去した後、タングステン及びＣｏシリサイド層１７のそれぞれのエッチングレートが０．３ｎｍ／分以下となるように、シリコン基板１に対して例えばＨ_2ＳＯ_4溶液を用い洗浄を行なう。 - 特許庁 - A high density polymer film obtained by grafting a polyacrylonitrile-based polymer in a graft density of ≥0.1 molecule/nm^2 is formed on the surface of the substrate, and the carbon thin film is formed by heat treating the high density polymer film.
基材表面に、ポリアクリロニトリル系重合体が０．１分子／ｎｍ^２以上のグラフト密度でグラフトした高密度高分子膜を形成し、該高密度高分子膜を熱処理して炭素薄膜を形成する。 - 特許庁 - The semiconductor element is constituted by forming the iron silicide layer on a predetermined substrate, and forming a cap layer which is made of a silicon germanium or a silicon of crystal grain of 50 nm or less of a mean particle diameter on the above iron silicide layer.
所定の基板上に鉄シリサイド層を形成し、前記鉄シリサイド層上にシリコンゲルマニウム又は平均粒径５０ｎｍ以下の結晶粒のシリコンからなるキャップ層を形成して半導体素子を構成する。 - 特許庁 - For these light sources 15, light sources casting ultraviolet light of a wavelength 400 nm or below are provided and the light sources 15 or reflectors are provided in a plurality so that many dark parts may not be brought about in the vacuum drying chamber 1.
該光源に４００ｎｍ以下の波長の紫外光を照射する光源を設け、真空乾燥室内に多くの暗部を発生させないように複数の該光源又は反射装置１６を設けた。 - 特許庁 - A substrate constituted by laminating a plurality of layers upon another is provided with a semiconductor layer 1a, and a high-temperature oxidized film layer 12b which is formed as the substrate of the semiconductor layer 1a and has a thickness of ≥50 nm.
複数の層が積層された基板において、半導体層１ａと、前記半導体層１ａの下地として形成される５０ｎｍ以上の厚さの高温酸化膜層１２ｂとを具備したことを特徴とする。 - 特許庁 - The fluorescent polymer has a molecular chain exhibiting fluorescence at wavelength 380-800 nm and a terminal group represented by general formula (I) (wherein R^1 to R^3 is as defined in the specification).
本発明は、波長３８０〜８００ｎｍに蛍光発光を示す分子鎖と、一般式（Ｉ）：（式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、明細書に定義のとおりである）で表わされる末端基とを有する蛍光性ポリマーに関する。 - 特許庁 - This ink for inkjet recording is characterized by comprising water, surface-treated carbon black which can be dispersed in an aqueous solvent without a dispersant and has an average particle diameter of ≤50 nm, a compound of formula (1) and a resin emulsion.
水と、分散剤なしに水性溶媒中に分散可能な平均粒子径が５０ｎｍ以下である表面処理カーボンブラックと、式（１）の化合物と、樹脂エマルションとを含むことを特徴とするインクジェット記録用インク。 - 特許庁 - To provide a piezoelectric linear ultrasonic motor which directly makes the linear movement of a mover in forward and backward directions at a precision of nm order and is higher in efficiency and longer in service life.
本発明は、移動子をｎｍ級の精密度で順・逆方向に直接直線運動させることができる上、高効率で長寿命な圧電線形超音波モーターを提供することを目的としている。 - 特許庁 - To enable recording and reproduction of information with a beam of light with a wavelength of ≤500 nm, and to enable retention of a recording region before recording and after recording under a stable condition.
波長５００ｎｍ以下の光によって情報の記録及び再生が可能であり、かつ、記録前及び記録後における記録領域を安定した状態で保持することのできる追記型光記録媒体を提供する。 - 特許庁 - An information acquisition device 1 includes a laser light source 111 which emits laser light of about 830 nm in wavelength, a polarization beam splitter (PBS) 113, a 1/4-wavelength plate 114, a DOE 116, and a PD 117.
情報取得装置１は、波長８３０ｎｍ程度のレーザ光を出射するレーザ光源１１１と、偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）１１３と、１／４波長板１１４と、ＤＯＥ１１６と、ＰＤ１１７を備えている。 - 特許庁 - The optical element manufacturing method consists of a processing process for processing an aperture having a diameter of 200 nm or less on a membrane and a filming process for forming a metal film on the membrane processed by the processing process.
メンブレンに直径２００ｎｍ以下の開口を加工する加工工程と、前記加工工程によって加工されたメンブレン上に金属を成膜する成膜工程とからなる光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The material includes a carrier carrying the antibacterial agent expressed by general formula (1) and the carrier consists of fibers having a diameter of ≤100 nm.
本明細書に定義する一般式（１）で表される抗菌剤を担持した担体を備える有害物質除去材であって、前記担体が直径１００ｎｍ以下の繊維からなることを特徴とする有害物質除去材。 - 特許庁 - In the organic thin film electronic device, one or more of organic layers contain 1,3,5-triazine derivatives deposited at a deposition speed of 1-10 nm/sec and represented by the following general formula (1).
有機層のいずれか１つ以上が、蒸着速度１〜１０ｎｍ／ｓｅｃで成膜された下記一般式（１）で表される１，３，５−トリアジン誘導体を含んでなることを特徴とする有機薄膜電子デバイス。 - 特許庁 - The infection with a microorganism belonging to the genus Ganoderma is detected by subjecting a leaf sample of Elaeis guineensis to an acidic ninhydrin reaction, followed by determining the amount of an amino acid exhibiting the maximal absorption near 515 nm in the obtained product.
アブラヤシの葉を試料として酸性ニンヒドリン反応を行ない、得られた反応物における５１５ｎｍ付近に吸収極大を持つアミノ酸の量を測定することにより、ガノデルマ属菌の感染を検出する。 - 特許庁 - The glass substrate has a substrate size of ≥1,100×1,250 mm and transmittance at a wavelength of 500 to 800 nm and at a path length of 50 mm is 80% or more.
本発明のガラス基板は、基板寸法が１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ以上であり、且つ経路長５０ｍｍにおける波長５００〜８００ｎｍの透過率が８０％以上であることを特徴とする。 - 特許庁 - The wiring pattern with very fine wire width of 100 nm or less is drawn on various kind of printed boards by an ink jet printer, by using the ink for the ink jet printer containing conductive gold-colloid particles as main component.
導電性を有する金コロイド粒子を主成分とするインクジェット印刷機用インキを用いて、インクジェット印刷機により、プリント基板上に１００ｎｍ以下の微細線幅の配線パターンを形成させる。 - 特許庁 - The catalyst component is a photocatalyst or a heat catalyst, and a film is formed on a substrate with the coating liquid for forming the metallic film containing the photocatalyst, heating treatment and irradiation of light having a wave length of 450 nm or less are simultaneously conducted to the film.
触媒成分は、光触媒、または熱触媒であり、光触媒を含む金属膜形成用塗布液を基体上に成膜後、加熱処理と４５０ｎｍ以下の波長の光照射とを同時に行う。 - 特許庁 - In the method for manufacturing an organic thin-film transistor, an organic semiconductor film is formed by spraying an organic semiconductor material in the form of liquid drops having an average particle diameter of 50 nm to 500 μm on a substrate.
平均粒径が５０ｎｍ〜５００μｍの液滴状の有機半導体材料を基板上に噴射することにより、有機半導体膜を形成することを特徴とする有機薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁 - The cloth contains a filament yarn A having a single fiber diameter of ≤1,000 nm and a filament yarn B having a single fiber diameter of >1 μm, and has an uneven pattern on a surface of the cloth by embossing or resin printing processing.
単繊維径が１０００ｎｍ以下のフィラメント糸Ａと、単繊維径が１μｍより大のフィラメント糸Ｂを含む布帛であって、布帛表面に、エンボス加工または樹脂プリント加工により凹凸柄が形成されている。 - 特許庁 - To easily and stably manufacture a desired probe needle having a sharp chip with extremely high accuracy and high yield, and properly perform an electrical characteristic inspection of a transistor, for example, in 45 nm technology.
歩留り良く安定して極めて高い精度で所期の尖端なプローブ針を容易に得ることができ、例えば４５ｎｍテクノロジーのトランジスタを対象とした電気的特性検査においても、これを確実に行う。 - 特許庁 - The electroluminescent element, when employing poly-di-n-hexylpolysilylene (PDHS) for the light-emitting layer, emits light with an EL spectrum having a sharp peak at about 370 nm, when direct voltage is placed between both of the electrodes 12 and 14.
発光層としてポリ−ジ−ｎ−ヘキシルポリシリレン（ＰＤＨＳ）を用いた場合、両電極１２，１４間に直流電圧を印加することで約３７０ｎｍに鋭いピークを有するＥＬスペクトルが得られる。 - 特許庁 - A reflection suppressing layer 202 of light having a wavelength region ranging from at least 400 to 800 nm is provided between the projecting part 201 formed by a resin layer and the base material 200 supporting the projecting part 201.
樹脂層により形成される凸部２０１と凸部２０１を支持する基材２００との間に少なくとも４００ｎｍから８００ｎｍの波長領域の光の反射抑制層２０２を有することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a binary or ternary alloy of Fe and/or Co and Pt which has ferromagnetism even if heat treatment is not performed, ≤450°C dislocation start temperature and ≤10 nm particle size, and also to provide a chemical manufacturing method therefor.
熱処理無しでも強磁性を有し、転位開始温度が450℃以下である、粒子サイズが10ｎｍ以下のＦｅおよび／またはＣｏとＰｔの2元あるいは3元合金、およびその化学的な製造方法を提供する。 - 特許庁 - In a method for finishing a surface with unevenness by applying a clear coating material on the plastic film, a gravure coating is performed so that width of unevenness is 100-900 μm and the height is 100-900 nm.
プラスチックフィルム上にクリヤー塗料を塗布して凹凸のある塗装面にする方法であって、その塗装面の凹凸の幅が１００〜９００μｍで高さが１００〜９００ｎｍとなるようにグラビア塗装を行なう。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
