「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 169 170 171 172 173 174 175 176 177 .... 287 288 次へ＞- An erbium-loaded glass fiber 3 is used as a gain medium in the optical fiber laser 1 of 2.8 μm band, and an excitation optical source 2 oscillating excitation light 4 having a wavelength of above 980 nm is also used.
本発明は、エルビウム添加ガラスファイバ３を利得媒質とした２．８μｍ帯の光ファイバレーザ１であって、９８０ｎｍよりも長波長の励起光４を発振する励起光源２を用いた構成とする。 - 特許庁 - The catalyst comprises noble metal particles supported on a porous body while being partially buried in the porous body and having a mean particle diameter of 1 to 10 [nm] and a transition metal coming into contact with both the noble metal particles and the porous body.
多孔質体中に一部が埋没された状態で、多孔質体に担持され、平均粒子径が１〜１０[ｎｍ]である貴金属と、貴金属と多孔質体の両方に接触する遷移金属と、を有する触媒。 - 特許庁 - Here, λshows the wavelength of the emitted light, and T0 shows the thickness of the anode in which a combination efficiency of the diffraction grating becomes not less than 10-2 (μm-1) in case the wavelength λ is 550 nm.
Ｔ≦（λ／550）×Ｔ0（ｎｍ） …式（１） ここで、λは出射光の波長を示し、Ｔ0は、波長λが550ｎｍのときの、回折格子の結合効率が１０^-2（μｍ^-1）以上となる有機発光層の最大の厚さを示す。 - 特許庁 - The photopolymerization initiator preferably contains a spectral sensitizing compound having the maximum absorption at 300-1,000 nm wavelength and a compound which interacts with the spectral sensitizing compound.
好ましくは、前記重合開始剤が３００〜１０００ｎｍに最大吸収波長を有する分光増感化合物と、該分光増感化合物と相互作用する化合物とを含有する記録材料１０である。 - 特許庁 - Blending nanoparticles having a particle size of 50 nm or less can reduce oxygen dispersion in the resin of molded articles during combustion and enhance the rate of char formation without the need of using a specific resin to improve flame retardancy.
粒径５０ｎｍ以下のナノ粒子の配合によって、燃焼時に成形物の樹脂中の酸素拡散が低下し、特定の樹脂を用いる必要なくチャー生成率を高めて難燃性を向上することができる。 - 特許庁 - To provide a manufacturing process of a rare earth-activated metal aluminate-based phosphor which has an excitation band in the near ultraviolet region of wavelengths of around 400 nm and emits light highly efficiently.
波長４００ｎｍ付近の近紫外域に励起帯を有して高効率な光を発光する蛍光体を製造することができる希土類付活金属アルミネート系蛍光体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a metal complex dye capable of efficiently sensitizing semiconductive microparticles through utilizing rays with wavelengths of ≥800 nm, and to provide a photoelectric conversion element having high conversion efficiency by using the metal complex dye.
800nm以上の領域の波長の光を利用して半導体微粒子を効率良く増感できる金属錯体色素、およびこれを用いることにより高い変換効率を示す光電変換素子を提供する。 - 特許庁 - In the high-strength steel sheet, in the main phase structure, ferrite and carbides form layers, further, the aspect ratio of the carbide is 10 or more, and a layered structure in which the pitch of the layers is 50 nm or less occupies 65% or more by a volume fraction with respect to the whole structure.
フェライトと炭化物が層をなしており、炭化物のアスペクト比が10以上で、かつ、前記層の間隔が50nm以下である層状組織が組織全体に対する体積率で６５％以上である。 - 特許庁 - When the total use of the solid oxygen source is 1 to less than 3 Nm^3/t, the gas-oxygen ratio is 75 to less than 95% in a desiliconizing period and 55 to less than 85% in a slag-making period.
固体酸素源の総使用量が１以上３Ｎｍ^3／ｔ未満の場合、脱珪期では気体酸素比率を７５％以上９５％未満とし、造滓期では気体酸素比率を５５％以上８５％未満とする。 - 特許庁 - The long-afterglow fluorophor is doped with 0.1 to 1.0 mol% of Ce and either one or more of Hf, Ti, Zr, W and Pb, the sum being 0.1 to 1.0 mol%, and has one or more peaks in the wavelength of 400 to 450 nm.
Ｃｅを０．１〜１．０モル％と、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｗ、またはＰｂのいずれか一つ以上を合計で０．１〜１．０モル％とをドープしてなり、４００〜４５０ｎｍの波長に１以上の吸収ピークを持つ。 - 特許庁 - Furthermore, the pseudo sunlight does not contain the light in the wavelength range of 500-600 nm reflected from the plant P1, therefore, the diurnal pests B1 become difficult to visually identify the plant P1, as a result, the pest-repelling effect is further increased.
また、擬似太陽光は植物Ｐ１に反射される５００〜６００ｎｍの波長範囲の光を含ないので、昼行性害虫Ｂ１は植物Ｐ１を視認し難くなり、従って、防虫効果がさらに高まる。 - 特許庁 - The undercoat layer 71 has a thickness of 200 nm or more, and a light refractive index thereof is within a range from the light refractive index of the film body 33-0.05 to the light refractive index of the film body 33+0.13.
また、アンダーコート層７１は、その厚みが２００ｎｍ以上となっており、かつその光屈折率が、フィルム本体３３の光屈折率−０．０５〜フィルム本体３３の光屈折率＋０．１３の範囲内となっている。 - 特許庁 - When the total use of the solid oxygen source is below 6 Nm^3/t, the gas-oxygen ratio is 25 to less than 45% in the desiliconizing period and 35 to less than 60% in the slag-making period.
固体酸素源の総使用量が６Ｎｍ^3／ｔ未満の場合、脱珪期では気体酸素比率を２５％以上４５％未満とし、造滓期では気体酸素比率を３５％以上６０％未満とする。 - 特許庁 - When the total use of the solid oxygen source is 3 to less than 6 Nm^3/t, the gas-oxygen ratio is 50-75% in the desiliconizing period and 35 to less than 85% in the slag-making period.
固体酸素源の総使用量が３以上６Ｎｍ^3／ｔ未満の場合、脱珪期では気体酸素比率を５０％以上７５％未満とし、造滓期では気体酸素比率を３５％以上８５％未満とする。 - 特許庁 - The rewiring 40 has a center line average roughness of 100 nm or more on its surface joined with the second insulating layer 32 and the solder bump 55 strides over the rewiring 40 not electrically connected with the solder bump.
再配線４０は、第２の絶縁層３２との接合面において１００ｎｍ以上の中心線平均粗さを有し、はんだバンプ５５は、該はんだバンプに電気的に接続されない再配線４０に跨る。 - 特許庁 - The cellulose fiber composite includes cellulose fibers having 4-100 nm number-average fiber diameter and a matrix and has ≤2 haze and ≤25 YI value when the cellulose fiber composite is subjected to heat treatment for 4 hours at 190°C and the heat treatment is repeated four times.
数平均繊維径が４〜１００ｎｍであるセルロース繊維とマトリックスとを含み、ヘーズ２以下、かつ１９０℃４時間の加熱処理を４回繰り返した後のＹＩ値が２５以下であるセルロース繊維複合体。 - 特許庁 - The solder bonding agent composition contains lead-free solder powder and thermosetting resin-containing flux, and further contains an inorganic filler with the average particle diameter of 5 to 100 nm.
本発明のはんだ接合剤組成物は、鉛フリーはんだ粉末と熱硬化性樹脂含有フラックスとを含有するはんだ接合剤組成物であって、平均粒径５〜１００ｎｍの無機フィラーを含有することを特徴とする。 - 特許庁 - The main objective is achieved by providing a conductive substrate with an inter-particle spacing of 1 to 10 nm of secondary sintered particles made by sintering metal- or metal-oxide fine particles on a base material.
本発明は、基材上に、金属又は金属酸化物微粒子が焼結した二次焼結粒子の粒子間距離が１〜１０nmである導電性基板を提供することにより上記目的を達成するものである。 - 特許庁 - To provide an electrophotographic photoreceptor having high sensitivity characteristics in a wavelength region of 405±5 nm and such excellent durability as to avoid light-induced fatigue deterioration, and to provide an image forming apparatus including the electrophotographic photoreceptor.
４０５±５ｎｍの波長域で高い感度特性を有し、光によって疲労劣化しない高耐久性に優れた電子写真感光体及びその電子写真感光体を備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a composition for a topcoat which gives a highly fine and highly accurate pattern, especially in immersion lithography, by photolithography using a high-energy line or an electron beam which is an electromagnetic wave with a wavelength of 300 nm or less.
波長３００ｎｍ以下の電磁波である高エネルギー線または電子線を用いたフォトリソグラフィーにより、特に液浸リソグラフィーにて、極めて微細且つ高精度なパターンを与えるトップコート用組成物を提供する。 - 特許庁 - In the color toner for the electrophotography containing at least a binder resin and a colorant, a calix arene compound is used in combination with an infrared ray absorbing compound exhibiting at least a light absorption peak in a 700-1,000 nm wavelength region.
バインダ樹脂及び着色剤を少なくとも含む電子写真用カラートナーにおいて、カリックスアレン化合物と、少なくとも700〜1000nmの波長域において光吸収ピークを示す赤外線吸収性化合物を併用する。 - 特許庁 - An ozone producing electrode 1 comprises a substrate 2, and a surface layer 4 formed on the surface of the substrate 2 and including a dielectric, wherein the thickness of the surface layer is >0 to 2000 nm.
本発明のオゾン生成用電極１は、基体２と、該基体２の表面に形成され、誘電体を含む表面層４とから構成され、該表面層４の厚さは、０より大きく２０００ｎｍ以下に形成される。 - 特許庁 - This ceramic circuit board is produced by bonding a metal plate principally comprising aluminum to a ceramic board, having an oxidation layer in the range of 1 nm-0.2 μm thickness using a solder material of aluminum alloy.
１ｎｍ以上０．２μｍ以下の酸化層を有するセラミックス基板に、アルミニウムを主成分とする金属板をアルミニウム合金からなるろう材を用いて接合されてなることを特徴とするセラミックス回路基板。 - 特許庁 - To provide an excellent photosensitive resin composition having satisfactory transmittance when an exposure light source of ≤160 nm, more concretely, F_2 excimer laser light is used and ensuring small line edge roughness and small dependence on development time.
１６０ｎｍ以下、より具体的にはＦ_２エキシマレーザー光の露光光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像時間依存性が小さく優れた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The cyanine compound has a sharp light absorption in the wavelength range of 480-520 nm, and is excellent in light resistance and suitable as a light absorber of an optical filter especially for an image display.
該シアニン化合物は、４８０〜５２０ｎｍの波長領域において急峻な光吸収を有し、耐光性に優れ、画像表示装置用として特に好適な光学フィルターの光吸収剤に適している。 - 特許庁 - In the gas-discharge display device, gadolinium is added to a material other than the fluorescent substance among the structural components surrounding a discharge cell to generate an ultraviolet ray having a wavelength of 315 nm which may excite the fluorescent substance.
ガス放電表示装置の、放電セルを取り巻く周囲の構造物のうちで、蛍光体以外の材料にガドリニウムを添加する事によって、蛍光体を励起できる３１５ｎｍの波長の紫外線を発生させる。 - 特許庁 - To provide a process for efficiently producing a composite adhesive having good conductivity by dispersing ultrafine carbon fibers in a 0.2 to 200 nm level in diameter in an emulsion-type adhesive without aggregation.
エマルション型粘着剤中に、直径が０.２〜２００ナノメートルレベルの極細炭素繊維を、凝集することなく分散させて、良好な導電性を有する複合粘着剤を効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a particle measuring method and its device suitable for detection of a trace of particles included in a large volume of fluid (medium) and having a size of several micron (μm) to sub-micron (μm) or several nanometer (nm).
大容量の流体（媒質）中に混在するサイズが数ミクロン（μｍ）からサブミクロン（μｍ）あるいは数ナノメートル（ｎｍ）の微量の微粒子の検出に好適な微粒子測定方法およびその装置を提供する。 - 特許庁 - A buffer layer 43, a non-doped InGaAs channel layer 44, a barrier layer 45 composed of a plurality of layers, and an n^+-type contact layer 46 of thickness 50 nm are formed on a semi-insulating GaAs substrate 42.
半絶縁性ＧａＡｓ基板４２上にバッファ層４３、ノンドープＩｎＧａＡｓのチャネル層４４、複数層からなる障壁層４５、ｎ＋型ＧａＡｓからなる膜厚５０ｎｍのコンタクト層４６が形成される。 - 特許庁 - To define practical realizable conditions for producing sum frequency light at 193 nm from a CLBO crystal and provide a generating method for the sum frequency light from a CLBO crystal, which can be realized practically.
ＣＬＢＯ結晶により１９３ｎｍの和周波光を発生させるための実用上の条件を明らかにし、実用上実現可能なＣＬＢＯ結晶による和周波光の発生方法を提供すること。 - 特許庁 - The optical sheet is obtained by laminating one or more organic coat layers (c) onto at least one surface of a sheet (A) comprising a transparent resin (a) and a glass fiber fabric (b), wherein surface unevenness of at least one surface is 150 nm or less.
透明樹脂(ａ)及びガラス繊維布(ｂ)からなるシート（Ａ）上の少なくとも片面に、１層以上の有機コート層（ｃ）を積層し、少なくとも片面の表面凹凸が１５０ｎｍ以下である光学シート。 - 特許庁 - This water-in-oil type emulsified cosmetic is obtained by dispersing a water phase being an inner phase into an oil phase being an outer phase and comprises pigment particles having 100 nm to 1 μm average particle diameter dispersed into the water phase.
外相である油相中に内相である水相が分散してなり、水相中に顔料粒子が平均粒子径１００ｎｍ〜１μｍで分散してなる油中水型乳化化粧料である。 - 特許庁 - To provide a metal wiring of a semiconductor element which can be applied also to a semiconductor element of 65 nm or less, and a method for manufacturing it, by using CVD TiSiN as a material of a barrier metal layer of a copper wiring.
銅配線のベリア金属層の物質としてＣＶＤ ＴｉＳｉＮを用いて６５ｎｍ以下の半導体素子にも適用できるようにした半導体素子の金属配線およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The value of x represents a plurality of maximums and a plurality of minimums in the thickness direction of the buffer layer 2, and variation of the value of x is 0.5 or less in any region where the thickness in the buffer layer 2 is 1 nm.
ｘの値は、バッファ層２の厚さ方向で複数の極大及び複数の極小を示し、バッファ層２中の厚さが１ｎｍの任意の領域内では、ｘの値の変化量が０．５以下となっている。 - 特許庁 - Next, after the oxide-resistance film 4 and the sacrificial oxide film 3 in the first element active region are removed by using the resist 7, the resist 7 is removed and a gate oxide film 8 of a thickness of about 100 nm is formed.
次に、レジスト７を用いて第１の素子活性領域内の耐酸化膜４及び犠牲酸化膜３を除去した後、レジスト７を除去し、１００ｎｍ程度の厚さのゲート酸化膜８を形成する。 - 特許庁 - The film substrate is constituted by providing at least one gas barrier layer at least on one side of a polybenzazole-containing film of which the transmittance at a wavelength of 400 nm when the thickness of the film is set to 20 μm is 60% or above.
膜厚を２０μｍとしたときの４００ｎｍにおける透過率が６０％以上であり、かつ、ポリベンズアゾールを含むフィルムの少なくとも片面に、少なくとも１層のガスバリア層が設けられたフィルム基板。 - 特許庁 - The magnetic tape 1 formed with a cleaning part 6 formed by finishing the surface of a magnetic recording layer 4 to 20 to 40 nm in center line surface roughness Ra in continuation with a recording parts 5 for information signals, etc., is used.
情報信号等の記録部５に連続して磁気記録層４の表面を中心線表面粗さＲａが２０ｎｍ乃至４０ｎｍとしたクリーニング部６が形成された磁気テープ１が用いられる。 - 特許庁 - The heat-conductive filler is composed of a particulate core composed of metallic aluminum and an electrically insulating oxide layer formed on the surface of the core and having an average thickness of ≥500 nm.
熱伝導性フィラーが、金属アルミニウムからなる粒子状の中心部と、中心部の表面上に形成された、その平均厚みが５００ｎｍ以上である電気絶縁性の酸化層とからなるものである。 - 特許庁 - Sintered pellets 2, each of which is coated with a manganese dioxide layer 4, are dipped in suspension composed only of very fine silver powder having diameter in the range of 3-100 nm and a solvent, pulled from the suspension, and baked at a prescribed temperature.
二酸化マンガン層４形成済みの焼結ペレット２を、粒径３ｎｍ以上で１００ｎｍ未満の微粉銀粒子と溶媒とだけからなる縣濁液に浸漬させ、引き上げ、所定の温度で焼き付ける。 - 特許庁 - A thickness of an Al film 5 is set to 300 nm or less and an area ratio of an upper face of the Al film 5 to an upper face of a CrSi resistor 3 is set to 0.02 or more.
Ａｌ膜５の膜厚が３００ｎｍ以下となるように設定すると共に、ＣｒＳｉ抵抗３の上面の面積に対して、Ａｌ膜５の上面の面積の比が０．０２以上になるように設定する。 - 特許庁 - To provide a polymer chip for conducting mixture, reaction, synthesis, extraction, separation and analysis of trace samples of one type or two or more types of organic compounds which absorb light in the range from 200 to 400 nm in a wave length region.
波長領域２００〜４００ｎｍの範囲の光を吸収する１種または２種以上の有機化合物の微量試料を、混合、反応、合成、抽出、分離、分析するためのポリマーチップを提供する。 - 特許庁 - In the main phase structure, ferrite and carbides form layers, further, an aspect ratio of the carbide is 10 or more, and a layered structure in which the pitch of the layers is 50 nm or less occupies 65% or more by a volume fraction with respect to the whole structure.
主相組織は、フェライトと炭化物が層をなしており、さらに、炭化物のアスペクト比が10以上で、かつ、前記層の間隔が50nm以下である層状組織が組織全体に対する体積率で65％以上である。 - 特許庁 - This biaxially oriented lactic acid film uses a resin composition including the polylactic acid and 0.005-5 wt.% of chain particles having an average radius of primary particles of 1-400 nm and a chain coefficient of 3-200 as the main component.
二軸延伸ポリ乳酸系フィルムは、ポリ乳酸に、平均一次粒径が１〜４００ｎｍ、連鎖係数が３〜２００である連鎖状粒子を０．００５〜５質量％を含有する樹脂組成物を主成分とする。 - 特許庁 - To provide a porous silica membrane capable of performing the separation/filtration of a nano particle, for example, a liquid material such as water or an organic solvent by controlling the average diameter of pores of a silica membrane to ≥1 nm and a method of manufacturing the same.
シリカ膜の孔の平均径を１ｎｍ以上とすることで、ナノ粒子、例えば水や有機溶媒等の液状物質の分離・濾過が可能な多孔質シリカ膜及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The imaging apparatus is equipped with the optical filter in which a near-infrared-ray reflecting layer of cholesteric liquid crystal, shutting off light of 600 to 1,200 nm in wavelength is formed on a plastic substrate.
撮像装置は、プラスチック製の基板上に、波長６００〜１２００ｎｍの光を遮断するコレステリック液晶よりなる近赤外線反射層が形成されてなる光学フィルターを備えてなることを特徴とする。 - 特許庁 - A detection element has a transparent substrate made from quartz, a tungsten trioxide thin film having a columnar crystal structure on the transparent substrate, and a platinum layer deposited and formed on the thin film surface to have a thickness of 15 nm or less.
検知素子は、石英製の透明基板と、該透明基板上に柱状結晶構造を有する三酸化タングステン薄膜と、該薄膜表面に15nm以下の厚さに堆積形成された白金層から構成されている。 - 特許庁 - The film-shaped product having at least the network structure of 1 nm to 1 μm diameter on the surface thereof is manufactured in the electrospray deposition process using a cellulose diacetate solution prepared by dissolving cellulose diacetate in a solvent having 57-150°C boiling point.
エレクトロスプレーデポジション法で沸点が５７〜１５０℃の溶媒で溶解したセルロースジアセテートの溶液を用いて、少なくとも表面に直径が１ｎｍ〜１μｍの網目構造を有するフィルム状物を製造する方法。 - 特許庁 - The low refractive index coating agent comprises an active energy ray-curable resin containing a compound having at least (meth)acryloyloxy group in the molecule, and hollow fine particles having an average particle size of 0.5-200 nm.
少なくとも（メタ）アクリロイルオキシ基を分子内に有する化合物を含む活性エネルギー線硬化型樹脂と、平均粒径０．５〜２００ｎｍの中空微粒子から成ることを特徴とする低屈折率コーティング剤。 - 特許庁 - After this, when quantum dot raw materials 16 are fed to the surface of the ultrathin film layer 14 including the recesses 15, quantum dots 17 having a size of 10 nm or thereabouts are formed only in the parts of the recesses 15.
この後さらに、前記の窪み（15）を含む超薄膜層（14）表面に、量子ドット原材料（1６）を供給すると、前記窪み（15）の部分にのみ１０ｎｍ程度のサイズを有する量子ドット（17）が形成される。 - 特許庁 - In this case, the photomask is characterized in that it has at least two kinds of transmissive patterns wherein at least one kind of the transmissive pattern has a transmittance of equal to or under 40-80% at 365 nm.
このとき、フォトマスクは少なくとも２種類の透過性パターンを有するものであり、該透過性パターンのうち少なくとも１種は３６５ｎｍにおける透過率が４０〜８０％以下であることを特徴とする。 - 特許庁
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