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＜前へ 1 2 .... 173 174 175 176 177 178 179 180 181 .... 287 288 次へ＞- A porous Si single crystal layer 4 where holes are open to an outer direction and which is coated with a 3C-SiC single crystal layer 3 having a surface thickness of 0.1-100 nm is formed on an Si single crystal substrate 2.
Ｓｉ単結晶基板２上に外方へ開孔し、かつ、表面が厚さ０．１〜１００ｎｍの３Ｃ−ＳｉＣ単結晶層３によって被覆された多孔質Ｓｉ単結晶層４が形成されている。 - 特許庁 - To synthesize an azo metal complex coloring matter which shows a high absorption in the 400-700 nm visible light range, high photothermal stability and separability from an organic solvent and is best suited for a high-density optical disc recording medium.
４００〜７００ｎｍの可視光線領域の強い吸収性、光・熱安定性、有機溶剤に対する分離性を有し、高密度光ディスク記録媒体に適したアゾ金属錯体色素を合成すること。 - 特許庁 - The antifouling layer formed on the surface of the building base material preferably includes silica fine particles bound together by hydrotalcite where the mean particle size of the silica fine particles is less than 10 nm.
建築用基材表面に形成される防汚層において、シリカ微粒子をハイドロタルサイトで結合してなり、該シリカ微粒子の平均粒径が１０ｎｍ未満であることを特徴とする建築用基材の防汚層。 - 特許庁 - The total film thickness from a light emitting side electrode 2 to the organic layer 5 is ≤200 nm, and the difference between a drive voltage in a low-temperature environment and a drive voltage in a normal-temperature environment is ≤3V.
出射側の電極２から有機層５までの総膜厚が２００ｎｍ以下であり、低温環境下における駆動電圧と常温環境下における駆動電圧との差が３Ｖ以下であることを特徴とする。 - 特許庁 - The surface roughness of a steel wire 7 constituting a reinforcing layer 3 interposed between the inner surface rubber layer 2 and outer surface rubber layer 5 of a rubber hose 1 is set to be 130 nm or less in terms of the maximum height Ry specified in JIS B0601.
ゴムホース１の内面ゴム層２と外面ゴム層５の間に介在する補強層３を構成するスチールワイヤ７の表面の粗さを、ＪＩＳ Ｂ０６０１で規定される最大高さＲｙで１３０ｎｍ以下にした。 - 特許庁 - In a case where rotating speed Nm of a motor 14 for driving an auxiliary machine is higher than prescribed rotating speed N1, inversion phase current is inputted to the motor 14, and rotating operation of the motor 14 is braked.
補機駆動用モータ１４の回転数Ｎｍが所定回転数Ｎ１よりも高い場合には、補機駆動用モータ１４に対して反転位相電流が入力され補機駆動用モータ１４の回転動作が制動される。 - 特許庁 - A lateral mode control layer 13 or 7 of AlN with a thickness of 0-300 nm is provided either of between N-type clad layers 12 and 14 or between P-type clad layers 6 and 8, or between one of the above clad layers and an active layer.
ｎ型クラッド層又はｐ型クラッド層の少なくとも一方のクラッド層内もしくは前記少なくとも一方のクラッド層と活性層の間に、厚さ０〜３００ｎｍのAlN からなる横モード制御層を設けた。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a substrate for a mask blank by which the end profile in the edge part of a substrate can be controlled to several tens nanometers (about 20 to 30 nm) or less of fluctuation with desired flatness by an easy method.
簡便な方法で、所望の平坦度で、且つ基板の周縁部の端部形状を数十ｎｍ（２０〜３０ｎｍ程度）以下に制御することが可能なマスクブランクス用基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A fluorescent lamp has, on the inner face of an arc tube, a protective film containing a connected body of particles of metal oxide of which the volume average particle size is 10-300 nm and which does not form an amalgam with mercury.
発光管の内面に、体積平均粒径が１０ｎｍ〜３００ｎｍであり、水銀とアマルガムを形成しない金属の酸化物の粒子の連結体を含む保護膜を有することを特徴とする蛍光ランプ。 - 特許庁 - In the planar heating element, a conductive polyvinyl alcohol system fiber wherein copper sulfide fine particles of an average particle size of 500 nm or less are included on the surface layer and/or the inside of the fiber is used as a resistor.
平均粒子径５００ｎｍ以下の硫化銅微粒子が繊維の表層および／または内部に含有されてなる導電性ポリビニルアルコール系繊維を抵抗体として用いることを特徴とする面状発熱体。 - 特許庁 - The core-shell type composite silica particle in which the rind part is composed of silica having the structure of the mesopore 1-10 nm in an average pore diameter, and a metal or the metal compound is embraced in the inside and the method for producing the particle are provided.
外殻部が平均細孔径１〜１０ｎｍのメソ細孔構造を有するシリカからなり、その内部に金属又は金属化合物を包含してなるコアシェル型複合シリカ粒子、及びその製造方法である。 - 特許庁 - On a sapphire substrate 11, a buffer layer 12 of film thickness of about 25 nm comprising nitride aluminum(AlN) is provided, over which a high carrier concentration n+ layer 13 of film thickness of about 4.0 μm comprising silicon(Si) doped GaN is formed.
サファイア基板１１の上には窒化アルミニウム(AlN) から成る膜厚約25nmのバッファ層１２が設けられ、その上にシリコン(Si)ドープのGaN から成る膜厚約4.0 μｍの高キャリア濃度ｎ^+ 層１３が形成されている。 - 特許庁 - In the optical recording medium having at least a recording layer containing an organic dye, the intermediate layer and a cover layer on a substrate, the intermediate layer has 80 to 300 nm layer thickness.
基板上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、中間層と、カバー層とを有する光記録媒体であって、前記中間層の層厚が８０〜３００ｎｍであることを特徴とする光記録媒体である。 - 特許庁 - Change rate of a value obtained by dividing residual magnetization in the circumferential direction of the magnetic layer 4 by residual magnetization in the radial direction to the reciprocals of film thicknesses of the first and the second seed layers 21 and 22 are 6 nm or below.
磁性層４の円周方向の残留磁化を半径方向の残留磁化で除した値の、第１シード層２１および第２シード層２２の膜厚の逆数に対する変化率は６ｎｍ以下である。 - 特許庁 - For manufacturing it, the piezoelectric film 43 is formed by the sol-gal method on a laminate structure composed of a ZrO2 film 32, an Ir-containing lower electrode 42 and a Ti layer 45 of 10-20 nm.
これを製造するには、ＺｒＯ_２膜３２、Ｉｒ層を含む下部電極４２、厚さ１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下のＴｉ層４５の積層構造の上に、圧電体膜４３をゾルゲル法により成膜する。 - 特許庁 - Particle removal performance is measured with non-aqueous solution having ferric hydroxide colloidal particles of an average particle diameter 13 to 200 nm where pH for stabilizing the colloidal particles ranges from 2.5 to 4.0 as testing liquid.
平均粒子径１３〜２００ｎｍの水酸化第２鉄コロイド粒子と該コロイド粒子を安定させるためのｐＨが２．５〜４．０であることを特徴とする非水溶液を試験液として粒子除去性能を測定する。 - 特許庁 - Herewith a flat and smooth surface (both square mean values of waviness and microwaviness are equal to or less than 0.3 nm) is obtained without being affected by difference of crystal orientation and existence of crystal grain boundaries of the polycrystal grains.
これにより、多結晶粒の結晶方位の違いや結晶粒界の存在には影響を受けずに平坦で平滑な表面（ウェビネスとマイクロウェビネスの２乗平均値が何れも０．３ｎｍ以下）を得ることができる。 - 特許庁 - To provide a particle counter which can count particles of 2-50 nm in aerosol within a working pressure range from atmospheric pressure through a pressure reduced atmosphere to low vacuum, and can be used for calculating particle size distribution.
大気圧から減圧雰囲気を経て低真空までの動作圧力範囲で、エアロゾル中の５０ｎｍ以下２ｎｍ以上のパーティクルをカウントし、粒径分布を算出することができる、パーティクルカウンタを提供すること。 - 特許庁 - The silicon micro-particle dispersion immobilizing the protein is obtained by dispersing the silicon micro-particles immobilizing the protein in which the protein is immobilized on the silicon micro-particles having the average particle diameter within the range of 1-200 nm.
平均粒子径が１〜２００ｎｍの範囲にあるシリコン微粒子にタンパク質が固定されてなるタンパク質固定化シリコン微粒子が分散してなることを特徴とするタンパク質固定化シリコン微粒子分散液。 - 特許庁 - Preferably, an average particle diameter of the crosslinked rubber particle is 10-2,000 nm, and further, a containing ratio of the crosslinked rubber particle is 0.1-100 pts.wt. based on 100 pts.wt. of the norbornene based monomer.
好ましくは、前記架橋ゴム粒子の平均粒子径は１０〜２，０００ｎｍであり、また、前記架橋ゴム粒子の含有割合が、前記ノルボルネン系モノマー１００重量部に対して、０．１〜１００重量部である。 - 特許庁 - The lithographic printing method includes: attaching the precursor to a printing press; imagewise exposing with laser light of 350-1,200 nm, supplying a printing ink and dampening water to remove an unexposed area of the image forming layer; and printing.
該原版を、印刷機に装着し、３５０〜１２００ｎｍのレーザーで画像様に露光した後印刷インキと湿し水とを供給して未露光部の画像形成層を除去し印刷する平版印刷方法。 - 特許庁 - Stress evaluation can be realized with spatial resolution at the atomic level or at an order of 0.1 nm from the spatial distributions of the strains and stresses, and stress evaluation can be realized for fine elements with a processing size of less than 0.1 μm.
歪及び応力の空間分布から原子レベルすなわち０．１ｎｍ程度の空間分解能を持つ応力評価が可能であり、加工寸法０．１μｍ以下の微細な素子の応力評価を実現できる。 - 特許庁 - To provide at low costs an apparatus which is capable of easily measuring within a short time in-air number concentration of ultrafine particles of about 100 nm or less without changing the particle property thereof while having a certain level of particle size information.
１００ｎｍ程度以下の超微粒子の気中個数濃度を、その粒子性状を変化させることなく、或る程度の粒径情報を持って、短時間で簡便に測定できる装置を安価に提供する。 - 特許庁 - A light source 21 for emitting light having a wavelength in the range of 600 to 750 nm is disposed and the surface of the photoreceptor 40 is destaticized by irradiating a contact part of a cleaning blade 11 and the photoreceptor 40 with light from the light source 21.
波長６００〜７５０ｎｍの範囲の光を放射する光源２１を設け、クリーニングブレード１１と感光体４０の接触部分に光源２１から光を照射して感光体４０の表面を除電する。 - 特許庁 - The polymer composition comprises (a) 90-99.9 wt.% fluoride polymer and uniformly dispersed (b) 0.1-10 wt.% flake inorganic particle having at least <100 nm thickness.
（ａ）フッ化ポリマーが、９０〜９９．９重量％と、均一に分散された（ｂ）少なくとも１００ｎｍ以下の層状無機粒子の０．１〜１０重量％とからなる重合体組成物により、上記の課題を解決する。 - 特許庁 - After forming a backing layer 22 of a soft magnetic material on a substrate 21, an oxidation preventive layer 23 is formed in 0.1-1.0 nm thick by using rare earth metals, such as Tb, Gd, Sm, and Y on the backing layer 22.
基板２１上に軟磁性体により裏打層２２を形成した後、裏打層２２の上にＴｂ、Ｇｄ、Ｓｍ及びＹ等の希土類金属により酸化防止層２３を０．１〜１．０ｎｍの厚さに形成する。 - 特許庁 - To provide a light receiving element which can increase a light receiving sensitivity in particular at a blue color wavelength in a 405 nm band as a short wavelength while avoiding increase of the internal resistance of a light receiver, and also a method of manufacturing the light receiving element.
受光部の内部抵抗を増加させることなく、特に、短波長である４０５ｎｍ帯の青色波長における受光感度が向上可能な受光素子の製造方法及び受光素子を提供する。 - 特許庁 - The silicon carbide single crystal substrate has a volume resistivity of 0.001-0.012 Ωcm, and ≥90% of the entire substrate surface is coated with a silicon carbide single crystal surface having a surface roughness (Ra) of ≤1.0 nm.
体積抵抗率が0.001Ωcm以上0.012Ωcm以下の炭化珪素単結晶基板であって、基板全表面の90%以上が、表面粗さ(Ra)1.0nm以下の炭化珪素単結晶面で覆われている炭化珪素単結晶基板である。 - 特許庁 - In the base material, particles are dispersed, which comprise a deposit (typically an intermetallic compound containing at least either of Al and Mg), and whose average particle size is 50-1,500 nm, and the total area of the particles is 1-20%.
基材中には、析出物(代表的にはAl及びMgの少なくとも一方を含む金属間化合物)からなり、平均粒径が50nm〜1500nmの粒子が分散しており、これら粒子の合計面積は1％〜20％である。 - 特許庁 - A plasma treatment surface is provided on one surface of a polyamide resin film and a vapor deposition film of an inorganic oxide with a thickness of 4-10 nm due to a chemical vapor phase growing method is provided on the plasma treatment surface to constitute a transparent barrier film.
ポリアミド系樹脂フィルムの一方の面に、プラズマ処理面を設け、更に、該プラズマ処理面の面に、化学気相成長法による膜厚４〜１０ｎｍの無機酸化物の蒸着膜を設けた透明バリア性フィルム。 - 特許庁 - On the surface of the treated object 1 having pores, liquid droplet particulates, produced by breaking up water into sizes of 10-30 nm using an electrostatic atomizer 2, are irradiated to perform the water repellent treatment for the surface of the treated object 1.
細孔を有する被処理物１の表面に、静電霧化装置２を用いて水を１０〜３０ｎｍサイズに分裂させて生成した液滴微粒子を照射して被処理物１の表面を撥水処理する。 - 特許庁 - The SnO_2 powder which is 4 to 15 m^2/g in the surface area measured by a BET method and is 50 to 200 nm in the average grain size measured by the BET method is used.
ＢＥＴ法で測定された表面積が４〜１５ｍ^2／ｇであり、ＢＥＴ法で測定された平均粒径が５０〜２００ｎｍであることを特徴とするＳｎＯ__2粉末によって上記課題は解決される。 - 特許庁 - The basic laser beam of 1000 to 1100 nm in wavelength radiated from an Nd:YAG laser beam source L1 is made incident on a nonlinear optical crystal C1 to generate second higher harmonic which is introduced to a nonlinear optical crystal C3 for first sum frequency generation.
Ｎｄ：ＹＡＧレーザ光源Ｌ１から放出される基本レーザ光を非線形光学結晶Ｃ１に入射して第２高調波を発生させ、第１の和周波発生用非線形光学結晶Ｃ３に導く。 - 特許庁 - The chain-shaped metal powder is produced by the above production method, and also, the length L of the chain is prescribed to 0.5 to 100 μm, the diameter D of the chain to 20 to 500 nm, and the aspect ratio L/D to the range of 10 to 1,000.
鎖状金属粉末は、上記の製造方法によって製造し、なおかつ鎖の長さＬを０．５〜１００μｍ、鎖の径Ｄを２０〜５００ｎｍ、アスペクト比Ｌ／Ｄを１０〜１０００の範囲に規定する。 - 特許庁 - To provide a magnetic thin film which has superior corrosion resistance and a superior magnetic characteristic of 5 nm or smaller for an arithmetic average roughness Ra on its surface, in a method for manufacturing the magnetic thin film, a magnetic thin film, and to provide a thin-film magnetic head.
磁性薄膜の製造方法、磁性薄膜、及び、薄膜磁気ヘッドに関し、耐食性に優れ、且つ、表面の算術平均粗さＲ_a が５ｎｍ以下で優れた磁気特性を有する磁性薄膜を提供する。 - 特許庁 - To provide a fluorescent material having a peak wave length of an excitation spectrum within a wave length region of 350-500 nm, and suitable for a white LED emitting yellow light, and to provide the white LED using the fluorescent material.
３５０〜５００ｎｍの波長範囲に励起スペクトルのピーク波長があり、黄色に発光する白色ＬＥＤ用として好適な蛍光体および該蛍光体を用いてなる白色ＬＥＤを提供する。 - 特許庁 - An average particle diameter of the first high dielectrics particle group is to be 150 nm or more and an average particle diameter of the second high dielectrics particle group is to be 1/2 or less of that of the first high dielectrics particle group.
第１の高誘電体粒子群の平均粒子径を１５０ｎｍ以上とし、第２の高誘電体粒子群の平均粒子径を第１の高誘電体粒子群の平均粒子径の１／２以下とする。 - 特許庁 - The middle layer 20 is, for example, formed of a coating composition including (1) an alkoxysilane compound, (2) the organic polymer type particles including the ultraviolet-absorbing group and having an average particle diameter of 1 to 200 nm, (3) a curing catalyst, (4) a solvent, (5) an aminosilane compound and (6) an epxoysilane compound.
（１）アルコキシシラン化合物、（２）紫外線吸収基を含有する平均粒子径が１〜２００ｎｍの有機高分子型微粒子、（３）硬化触媒、（４）溶剤、（５）アミノシラン化合物、（６）エポキシシラン化合物 - 特許庁 - In particular, the surface treating agent is preferable, in which the primary particles of the super-fine powder of titanium oxide is ≤50 nm in particle size, and 5-20 pts.wt. thereof is dispersed and suspended to the solid of 100 pts.wt. of the silica binder.
特に、酸化チタン超微粉末の一次粒子の平均粒径が５０ｎｍ以下であり、シリカ系結合剤の固形分１００重量部に対し５〜２０重量部分散、懸濁させてなる表面処理剤が好ましい。 - 特許庁 - In the gas barrier laminated film comprising a gas barrier layer laminated on at least one face of a substrate, an Ra value on the surface of the opposite side to the face to be laminated with the gas barrier layer of the substrate is made as 1-20 nm.
支持体の少なくとも一方の面上にガスバリア層を積層してなるガスバリア性積層フィルムにおいて、前記支持体のガスバリア層が積層される面とは反対側の表面のＲa値を１〜２０ｎｍとする。 - 特許庁 - The rubber composition is obtained by blending 1-50 pts.wt. of the vapor deposited carbon fiber having a fiber diameter of 20-120 nm, a fiber length of 2-20 μm and an aspect ratio of 20-1000, per 100 pts.wt. of a rubber component.
ゴム成分１００重量部に対し、繊維径２０ｎｍ〜１２０ｎｍ、繊維長２μｍ〜２０μｍ、アスペクト比２０〜１０００である気相成長炭素繊維が、１〜５０重量部配合されてなるゴム組成物である。 - 特許庁 - A main constituent of the back surface layer 13 is water-insoluble polymer with glass transition temperature (Tg) of ≥90°C, and the average reflectivity of the back surface layer 13 is ≤3.5% at wavelength in a range from 380-780 nm.
裏面層１３は、ガラス転移点温度（Ｔｇ）が９０℃以上の非水溶性ポリマーを主たる構成成分とし、波長が３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの光に対する平均反射率が３．５％以下である。 - 特許庁 - The pattern forming material has at least the cushion layer and the photosensitive layer on a support, wherein the absorbance of the photosensitive layer when the light of 405 nm is applied to the photosensitive layer is 0.05-1.
支持体上にクッション層と感光層とを少なくとも有し、該感光層に対して４０５ｎｍの光を照射する場合の該感光層の吸光度が、０．０５〜１であることを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁 - The steel showing high strength and high toughness has a ultrafine structure which is mainly formed of ferrite with a grain size of 3 μm or smaller and contains precipitated vanadium carbides (VC) with sizes of 50 nm or less.
粒径が３μｍ以下のフェライトを主体とする超微細組織鋼であって、組織内には５０ｎｍ以下のバナジウム炭化物（ＶＣ）が析出されていることを特徴とする高強度および高靭性を示す鋼とする。 - 特許庁 - This ultraviolet ray shielding film contains silicon oxide and microparticles of an organic compound (A) having a solid form at ambient temperature and having a molecular weight of 5,000 or less, wherein the microparticles have an average particle diameter of 150 nm or less.
本発明による紫外線遮蔽膜には、酸化ケイ素と共に、常温で固体であるとともに分子量が５０００以下である有機化合物Ａの平均粒径１５０ｎｍ以下の微粒子が含まれている。 - 特許庁 - The layer of the sandwich structure is formed of a lower Al_xGa_1-xN barrier layer 23, an intermediate AlN barrier layer 24 having ≥2 nm thickness and an upper Al_xGa_1-xN cap layer 25.
サンドイッチ構造の層は、下層のＡｌ_ｘＧａ_１ーｘＮバリア層２３と、厚さ２ｎｍ以上の中間のＡｌＮバリア層２４と、上層側のＡｌ_ｘＧａ_１ーｘＮキャップ層２５とにより形成されている。 - 特許庁 - The mold release film has the mold release layer provided by a coating and drawing method on one surface of the polyester film having 11-25 nm surface roughness (Ra) and ≥90% image clarity.
フィルムの表面粗さ（Ｒａ）が１１〜２５ｎｍであり、写像性値が９０％以上であるポリエステルフィルムの片面に、塗布延伸法により設けられた離型層を有することを特徴とする偏光板用離型フィルム。 - 特許庁 - The activated carbon fiber may have a BET specific surface area of 1,000-3,000 m^2/g, and a pore of a porous radius of 0.2-1.8 nm by an MP method and an integrated porous volume of 0.4-2 cm^3/g.
活性炭素繊維は、ＢＥＴ比表面積１，０００〜３，０００ｍ^２／ｇ程度、及びＭＰ法による細孔半径０．２〜１．８ｎｍの細孔の積算細孔容積０．４〜２ｃｍ^３／ｇ程度を有していてもよい。 - 特許庁 - The oxide layer is formed on an aluminum base material and includes a porous layer constituted of a barrier layer and a plurality of hollow columnar cells laminated on the barrier layer and the porous layer has 200-800 nm average cell diameter.
アルミニウム基材に形成される酸化被膜であって、バリヤー層と、バリヤー層に積層され、複数の中空柱状のセルから構成される多孔質層とを備え、多孔質層の平均セル径を２００〜８００ｎｍとする。 - 特許庁 - The substrate 1 is entered into a gas furnace, then, etching gas and carrier gas are supplied into the furnace to etch the exposed surface in the trench 4 by the degree of several nm-1 μm and obtain the exposed surface in the trench 4 as a clean surface.
この基板１をガス炉内に入れ、炉内にエッチングガスおよびキャリアガスを供給して、トレンチ４内の露出面を数ｎｍ〜１μｍ程度エッチングし、トレンチ４内の露出面を清浄表面とする。 - 特許庁
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