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＜前へ 1 2 .... 172 173 174 175 176 177 178 179 180 .... 287 288 次へ＞- To provide a fluorescent lamp in which a stable action is possible without giving an adverse effect to a phosphor layer of a light emitting tube, and which has a layer (ultraviolet ray transmission suppressing layer) to suppress transmission of light of a wavelength 400 nm or less.
発光管の蛍光体層に悪影響を与えることなく、かつ安定動作が可能な、波長４００ｎｍ以下の光の透過を抑止する層（紫外線透過抑止層）を有する蛍光ランプを提供する。 - 特許庁 - The surface of the mold releasing layer 4 has 30-280 nm arithmetic average roughness Ra and ≤30 mN/m surface tension and the elastic layer 6 has 0.1-5 mm thickness and 0.5-20 MPa compressive elastic modulus Ec.
離型層４の表面は、算術平均粗さＲ_ａが３０〜２８０ｎｍ、表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下であり、弾性層６は、厚みが０．１〜５ｍｍ、圧縮弾性率Ｅ_ｃが０．５〜２０ＭＰａである。 - 特許庁 - (Form) total length: 0.01 to 0.4 μm; shape of the virus: spherical; particle size: 130 to 260 nm; the structure of a tail portion, and the structure of an outer membrane are absent; shape of capsid: regular icosahedron; genome: double-strand DNA.
（形態）全長が０．０１μｍ〜０．４μｍ、ウイルスの形状が球形、粒径が１３０ｎｍ〜２６０ｎｍ、尾部構造および外膜構造が無く、キャプシドの形状が正２０面体、ゲノムが２本鎖ＤＮＡである。 - 特許庁 - To provide a crystalline polymer microporous membrane with pores of a minute size which can efficiently catch fine particles of a size of tens nm and a method for manufacturing the same, and to provide a filter for filtering.
微小な孔径を有し、数十ｎｍサイズの微粒子を効率良く捕捉することができ、高流量である結晶性ポリマー微孔性膜及び結晶性ポリマー微孔性膜の製造方法、並びに、濾過用フィルタの提供。 - 特許庁 - To provide a surface smoothing method for a soft magnetic recording medium capable of easily and surely confining the surface roughness Ra of true contact surfaces on the surfaces of the soft magnetic recording medium, such as a floppy disk, to ≤0.5 nm.
フロッピーディスク等の軟質磁気記録媒体の表面における真実接触面の表面粗さＲａを０．５ｎｍ以下に容易且つ確実にし得る軟質磁気記録媒体の表面平滑化方法を提供する。 - 特許庁 - A suspension of particles essentially consisting of silicon dioxide (SiO_2) and having an average grain size (D_50) of ≤100 nm is used as a polishing agent at least in the final stage of polishing treatment.
当該研磨処理において、少なくとも最終段階の研磨処理では、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）を主成分とし、平均粒径（Ｄ_５０）が１００ｎｍ以下である粒子の懸濁液が研磨剤として使用される。 - 特許庁 - An etching stop layer 19A in which composition of aluminum is greater than that of a P-type first clad layer 18, whose thickness is almost 50 nm and which is composed of P-type Al0.10Ga0.90N is grown on the P-type first clad layer 18.
ｐ型第１クラッド層１８の上に、アルミニウムの組成がｐ型第１クラッド層１８よりも大きく且つ厚さが約５０ｎｍのｐ型Ａｌ_0.10Ｇａ_0.90Ｎからなるエッチング停止層１９Ａを成長する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a thin-film magnetic head having an MR element, whereby an MR element in which a track width is 200 nm or less, and a current in a direction perpendicular to surfaces of laminated layers, can be easily manufactured.
トラック幅が２００ｎｍ以下であり積層面に垂直方向に電流が流れるＭＲ素子を容易に製造することができる、ＭＲ素子を有する薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - Alternatively, the galvanized steel sheet has a galvanized layer on at least one side of a steel sheet and a coating film having an average bulk thickness of 20-500 nm and an average porosity of ≥50% on the surface of the galvanized layer.
亜鉛系めっき層を少なくとも鋼板の片面に有し、該亜鉛系めっき層の表面に平均かさ厚さ20nm以上、500nm以下、かつ平均の空隙率が50%以上の皮膜を有する亜鉛系めっき鋼板。 - 特許庁 - In the electric wire having a conductor and a covering material in the outer periphery of the conductor, a comparative abrasion quantity of the surface of the covering material is 500×10^-8 mm^3/Nm or less and a friction coefficient is 0.3 or more and 0.5 or less.
導体と、前記導体の外周に被覆材を有する電線において、前記被覆材表面の比摩耗量が５００×１０^-8ｍｍ^3／Ｎｍ以下であり、摩擦係数が０．３以上０．５以下とするものである。 - 特許庁 - In the hexagonal ferrite magnetic power, the average plate diameter is 15-28 nm, Hc is 2,000-5,000 Oe(160-400kA/m), SFD is 0.3-0.7, and D70/D50 is 1.05-1.25.
平均板径が１５〜２８ｎｍであり、Ｈｃが２０００〜５０００ Oe（１６０〜４００ｋＡ／ｍ）であり、ＳＦＤが０．３〜０．７であり、かつＤ７０／Ｄ５０が１．０５〜１．２５であることを特徴とする六方晶フェライト磁性粉末。 - 特許庁 - To solve the problem that, in optical components used in a short wavelength region of 300 nm or less, even in cases where almost no metallic impurities such as CeO_2 are detected and the surface roughness is less than 1ÅRMS, the transmittance may still be lower by 0.5% or more than a theoretical transmittance.
ＣｅＯ_2などの金属不純物がほとんど検出されず、かつ表面粗さも１ÅＲＭＳ以下であっても、理論透過率より０．５％以上も透過率が低いことがあり、問題となる。 - 特許庁 - In the upper-layer forming process, the thickness of the upper layer is 100 to 300 nm and in the developing process, development is carried out for 75 to 150 seconds by using a developer of 0.30 to 0.55 N in normality.
前記上層形成工程では、上層の厚さを１００ｎｍ〜３００ｎｍとし、前記現像工程では、現像液として規定度が０．３０Ｎ〜０．５５Ｎのものを用いて７５秒〜１５０秒間現像する。 - 特許庁 - Classification treatment is then carried out with a DMA 4 and copper oxide quantum dots having an average particle diameter D of ≤15 nm and a ratio σ/D of a standard deviation σ to the average particle diameter D of ≤0.2 are collected with a collector 5.
次いでＤＭＡ４で分級処理を行い、平均粒径Ｄが１５ｎｍ以下であって標準偏差σと平均粒径Ｄとの比σ／Ｄが０．２以下の銅酸化物量子ドットを捕集器５で捕集する。 - 特許庁 - A plurality of metal nano particles 2 that are made of, for example, gold and have a diameter of approximately 200 nm are provided on a surface 1a to be treated where light is incoming or outgoing in a body 1 to be treated for composing the optics.
光学部品を構成する被処理体１において光が入射又は出射する被処理面１ａ上に、例えば金からなる直径２００ｎｍ程度の金属ナノ粒子２を複数個設ける。 - 特許庁 - To provide a magneto-optical recording medium that performs record ing in a stable recording domain pattern, even if a magnetic domain is as very small as a magnetic domain length of 100 nm or smaller, and to provide a method for fabricating the medium.
磁区長１００ｎｍ以下という極めて微小な磁区であっても、記録磁区形状が安定した記録が可能な光磁気記録媒体及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The resin composite material with the high dielectric constant is obtained by adding insulated ultrafine powder comprising electroconductive ultrafine powder which is in the form of sphere, spheroid or acicular having a minor axis in the range of 1 to 100 nm and to which an insulating film is applied as the high dielectric constant filler.
高誘電率フィラーとして、短径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の球状、長球状もしくは針状の導電性超微粉末を絶縁被覆した絶縁化超微粉末を樹脂に添加する。 - 特許庁 - In the compound-semiconductor laminated structure 30, the InP layer 36 having the film thickness of 1 μm is formed on the GaAs substrate 32 through a GaAs_0.95P_0.05 layer 34 having a uniform P composition and the film thickness of 60 nm.
本化合物半導体積層構造３０は、ＧａＡｓ基板３２上に、Ｐ組成が一様な膜厚６０ｎｍのＧａＡｓ_０．９５Ｐ_０．０５層３４を介して、膜厚１μｍのＩｎＰ層３６を備えている。 - 特許庁 - The phase difference film comprises the oriented film of the polymer film in which an absolute value (m^2/N) of the photoelastic coefficient measured with light of wavelength of 550 nm at 23°C is 50×10^-12 or less, and satisfies Re[450]<Re[550]<[650] and Rth[550]<Re[550].
２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した光弾性係数の絶対値（ｍ^2／Ｎ）が、５０×１０^-12以下である高分子フィルムの延伸フィルムからなり、Ｒｅ［４５０］＜Ｒｅ［５５０］＜Ｒｅ［６５０］およびＲｔｈ［５５０］＜Ｒｅ［５５０］を満足する、位相差フィルム。 - 特許庁 - The color filter is manufactured, by forming a coloring layer which contains at least inorganic fine particles with an average particle diameter in 10-20 nm range, a coloring material and a resin component and consists of a plurality of colors on a substrate with a prescribed pattern.
平均粒径が１０〜２０ｎｍの範囲内にある無機粉体、色材および樹脂成分を少なくとも含有した複数色からなる着色層を基板上に所定のパターンで形成してカラーフィルタとする。 - 特許庁 - To provide an optical imaging system having a spatial resolution in a level of 50 nm and an optical image data processing method, which enable easy and stable scanning optical microscopic observation of high spatial resolution.
高空間分解能の走査型光学顕微鏡観察が簡便かつ安定して実行可能な、５０ｎｍレベルの空間分解能を備える光イメージングシステム及び光イメージのデータ処理方法を提供すること。 - 特許庁 - In this constitution, since a process constant in a contraction projection optical system can be reduced to 0.3-0.4, resolution performance can be raised as compared with the prior art, and the fine pattern with a line width of 150 nm or less can be drawn.
この構成では、縮小投影光学系におけるプロセス定数を０．３〜０．４と小さくできるため、解像性能を従来よりも高めることができ、線幅１５０ｎｍ以下の微細なパターンを描画できる。 - 特許庁 - The composition for chemical mechaninical polishing contains 0.01 to 3 wt.% of fine fiber cellulose having a 0.5 μm to 1 mm length (major radius), a 2 nm to 60 μm width (minor radius) and a 5-400 ratio of length to width (major radius to minor radius).
長さ（長径）が０．５μｍ〜１ｍｍ、幅（短径）が２ｎｍ〜６０μｍ、長さと幅の比（長径／短径）が５〜４００の微細繊維状セルロースを０．０１〜３質量％を含有する化学機械研磨用組成物。 - 特許庁 - This magnetic meso crystal body is made of magnetic meso crystal having a range of particle size of 0.1-10 nm, and a magnetic interaction among the magnetic meso crystals is controlled depending on a distance thereamong.
粒径が０．１ｎｍから１０ｎｍの範囲の磁性メソ結晶で構成される磁性メソ結晶体であって、前記磁性メソ結晶間の磁気的相互作用が互いの距離により制御されている磁性メソ結晶体。 - 特許庁 - To provide a reflecting mirror capable of playing back and recording audio or image information with high quality and high image quality while suppressing a spectral characteristic change amount in a near-ultraviolet area, visible area or infrared area to 0.5%/nm or less.
近紫外域、可視域、赤外域における分光特性変化量を０．５％／ｎｍ以下に抑え、高品質高画質の音声や画像などの情報の再生記録を可能にする反射ミラーを提供する。 - 特許庁 - The shape of the cross section in the direction parallel to the substrate of the columnar structure body is such that when the shape of each cross section is expressed in terms of a circle having the same area as that of the cross section, the average diameter of the circles is within the range of 50-500 nm.
柱状構造体の前記基板に対して平行な方向の断面の形状は、断面積が等しくなる円に換算したとき、その円の直径の平均が５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲にある。 - 特許庁 - In a substrate for the photoelectric conversion element that has a thin film with tin oxide as a main constituent, an average of at least 20 projections whose height is equal to or more than 100 nm exist per a surface of 1 μm(square) on the surface of the thin film.
酸化スズを主成分とする薄膜を備える基板であって、その薄膜の表面１μｍ□あたりに高さ１００nm以上の凸部が平均２０個以上存在する光電変換素子用基板。 - 特許庁 - When the thickness of the dielectric layer 14 is adjusted to a specified range, the surface roughness of the medium is reduced to ≤1.5 nm and a reflecting layer comprising a noble metal alloy is used, a magneto-optical recording medium having much superior characteristics is obtained.
誘電体層の膜厚を特定の範囲とし、媒体の表面粗さを１．５ｎｍ以下とし、貴金属合金反射層を用いる等によりさらに優れた特性を有する光磁気記録媒体が得られる。 - 特許庁 - Then, when an etching rate of the silicon wafer 52 is defined as R1, and the etching rate of the resist pattern 64 is defined as R2, a selection ratio (R1/R2) is 0. 5 to 1. 5, and etching is performed on condition that R1 is 5 to 40 nm/minute.
このとき、シリコンウエハ５２のエッチングレートをＲ１、レジストパターン６４のエッチングレートをＲ２としたとき、選択比（Ｒ１／Ｒ２）が０．５〜１．５であって、且つ、Ｒ１が５〜４０ｎｍ／分の条件でエッチングを行う。 - 特許庁 - To provide a device for producing metal powder with a mean particle diameter of ≤150 nm where the generation of delamination and cracks can be evaded even in the case sintering starting temperature shifts to the high temperature side, and it is laminated to dielectric substance, so as to be fired.
焼結開始温度が高温側にシフトし、誘電体と積層して焼成してもデラミネーション及びクラックの発生を回避できる平均粒径が１５０ｎｍ以下の金属粉末の製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a glass for an illumination lamp which contains CeO_2 and can block a UN ray having a wavelength of 313 nm effectively, and has high transparency, a jacket for a fluorescent lamp using the same and a method of manufacturing the jacket for a fluorescent lamp.
ＣｅＯ_2を含有して３１３ｎｍの紫外線を有効に遮蔽することが可能であり、しかも透明度の高い照明用ガラスと、それを用いた蛍光ランプ用外套容器を提供することである。 - 特許庁 - The hyperbolic drum type element, manufactured by the method has the advantage that diameter of the active layer, is uniform in a range of not more than several micrometers to several tens of nanometers, and thus is satisfactory in reproducibility, enabling mass production.
本発明による製造方法で製造された双曲面ドラム型素子は、活性層の直径が数μm以下から数十nmまでの範囲で均一で再演性が良く、大量生産が可能であるという長所がある。 - 特許庁 - The optical film used consists of a stretched noncrystalline cyclic olefin copolymer and has ≤20 nm phase difference.
本発明者らは、かかる課題を解決すべく鋭意検討した結果、延伸された非晶性環状オレフィン系共重合体からなり、位相差が２０ｎｍ以下である光学フィルムを用いることにより、かかる問題を解決できる。 - 特許庁 - To provide a structure and a method of manufacturing semiconductor device for reducing a parasitic resistance in FinFET, wherein a diffusing layer in the width of 30 nm or less is formed by digging down an insulating film in the STI region.
ＳＴＩ領域の絶縁膜掘り下げにより形成される幅３０ｎｍ以下の拡散層が配されているＦｉｎＦＥＴにおいて、寄生抵抗を低減した構造及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - A provider NW 4 and an independent outband NW 5 are used as a NW for performing a discovery function, and the existing NM such as an MPLS IP-VPN, an MPLS (multiprotocol label switching) L2VPN, etc., is used as the outband NW 5.
ディスカバリ機能を実施するＮＷとして、プロバイダＮＷ４と独立のアウトバンドＮＷ５を用い、アウトバンドＮＷ５として、ＭＰＬＳ ＩＰ−ＶＰＮやＭＰＬＳ Ｌ２ＶＰＮなどの既存のＮＷを利用する。 - 特許庁 - An SiO_2 thin film 4 is deposited at 50 nm on an Si substrate 3 using EB deposition, and further, a rodhium (Rh) thin film 6 serving as a reflection member 5 is deposited at 1 μm using EB deposition (Fig.2(a)).
Ｓｉ基板３上にＥＢ蒸着によってＳｉＯ_２薄膜４を５０ｎｍ蒸着し、さらにＥＢ蒸着によって反射部材５となるロジウム（Ｒｈ）薄膜６を１μｍ蒸着する（図２（ａ））。 - 特許庁 - The agent for improving darkened pores contains an extract extracted by treating a Salmonidae fish ovarian membrane with a protease and the extract is grains having an average grain size of 200-1,400 nm.
本発明の毛穴の黒ずみ改善剤は、鮭類の卵巣膜をタンパク分解酵素で処理することにより抽出された抽出物を含み、前記抽出物は、平均粒子径が２００〜１４００ｎｍの範囲の粒子である。 - 特許庁 - To provide an optical information recording medium excellent in record and reproduce property of electronic information and light stability, specifically to provide the optical information recording medium capable of recording and reproducing by a blue beam of laser light with a wavelength of 440 nm or less.
電子情報の記録再生特性及び耐光性に優れた光情報記録媒体、特に、波長が４４０ｎｍ以下の青色レーザ光による記録再生が可能な光情報記録媒体を提供する。 - 特許庁 - In a holder for roller bearing capable of holding a rolling body in a rolling manner between inner and outer races, a base material is titanium or a titanium alloy, and an oxide layer of ≥20 nm thick is provided on the surface thereof.
内外の軌道輪間で転動体を転動自在に保持する転がり軸受用保持器において、基材がチタンあるいはチタン合金とされ、且つ、表面に厚さ２０ｎｍ以上の酸素化合物層を有する。 - 特許庁 - The gas barrier layer 19 made of an inorganic material such as SiNx and having 250 nm thickness is formed on cut end surfaces of flexible substrates each comprising a substrate supporting material 11 and gas barrier layers 18 formed on both surfaces thereof.
基板支持材１１とその両面に形成されたガスバリア層１８からなる可撓性基板の切断端面にＳｉＮｘ等の無機材料からなるガスバリア層１９を２５０ｎｍの厚さで形成する。 - 特許庁 - This composite material has the Cu layer formed on the resin substrate by a sputtering technique with the use of Ar gas, wherein the Cu layer comprises crystals with an average grain size of 37 nm or larger in the surface parallel to the resin substrate.
樹脂基材上に、Ａｒガスを用いたスパッタによってＣｕ層を設けた複合材料であり、Ｃｕ層の、樹脂基材に対して平行な面での平均結晶粒径を３７ｎｍ以上としたものである。 - 特許庁 - A sheet made from a cyclic olefin thermoplastic resin has a smooth surface with a surface roughness of 0.01 μm or smaller formed on at least one side, a thickness of 0.05 to 3 mm and a residual phase contrast of 20 nm or smaller.
本発明のシートは、環状オレフィン系熱可塑性樹脂よりなり、少なくとも一面に表面粗さが０．０１μｍ以下の平滑面が形成され、厚みが０．０５〜３ｍｍで、残留位相差が２０ｎｍ以下である。 - 特許庁 - The diamond coating structure is manufactured by growing the nanodiamond particles as the nucleus after sticking dispersion solution based on the nonodiamond particles whose primary particle diameters are 1-20 nm to the porous substrate.
本発明のダイヤモンド被覆構造体は、一次粒子径が１〜２０ｎｍのナノダイヤモンド粒子を主体とする分散溶液を多孔性基材に付着させた後、ナノダイヤモンド粒子を核として成長させて製造できる。 - 特許庁 - In the glass substrate for flat panel display, a spectral transmittance in a wavelength range of 700 to 1,500 nm is defined as 70 to<87% when its thickness is 0.5-2.4 mm.
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、ガラスの肉厚が０．５〜２．４ｍｍであるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板において、７００〜１５００ｎｍにおける分光透過率が７０〜８７％未満であることを特徴とする。 - 特許庁 - The glass substrate for a microchemical chip has a major surface smoothed by polishing to have a thickness difference of the inside plane of ≤3 μm and an undulation (ωa value) of ≤2 nm in the measured wavelength range of 0-5 mm.
ガラス板の主表面を研磨により、面内板厚み差を３μｍ以下、測定波長範囲０〜５ｍｍのうねり（ωａ値）を２ｎｍ以下に平滑化したことを特徴とするマイクロ化学チップ用ガラス基板である。 - 特許庁 - This nanostructure material has regularly arranged pores each having a 2 to 200 nm diameter in a regularly arranged domain structure formed on a substrate and includes nanoparticles filling the pores.
基板上に形成された規則配列したドメイン構造の中に、規則配列した直径２〜２００ｎｍの空孔が形成されており、かつ該空孔内にナノ粒子が充填されていることを特徴とするナノ構造材料。 - 特許庁 - To obtain a compound slight in absorption loss in the region of near infrared to infrared wavelengths (600 to 2,000 nm) and useful as a raw material or a modifier or the like for functional materials including optical resin materials of low refractive index.
近赤外〜赤外域（６００〜２０００ｎｍ）での吸収損失が少なく、低屈折率の光学樹脂材料等の機能性材料の原料および改質剤等に有用な化合物を提供すること。 - 特許庁 - The green preferably contains 60-99 wt.% raw material powder and 1-40 wt.% pore forming agent, and the average particle size of the pore forming agent is preferably 1 nm to 5 μm.
燃料極用グリーンは、６０〜９９重量％の原料粉末と、１〜４０重量％の気孔形成剤とを含むことが好ましく、気孔形成剤の平均粒径は１ｎｍ〜５μｍであることが好ましい。 - 特許庁 - To provide an insect-repellent and light-screening coating agent effectively screening light at 350-400 nm sensitized by the insects, easily and uniformly coating a plastic or a glass surface and having excellent light stability and water resistance.
３５０〜４００ｎｍの虫が感じる光線を効果的に遮蔽し、プラスチックやガラス面に均一に塗り易く、光安定性、及び耐水性にすぐれた虫除け用光線遮蔽コ−テング剤を提供すること。 - 特許庁 - In the range of 850-1800 nm, the refractive index of the DLC-Si film is lower than that of the DLC film as the silicon content increases within the range of 4-12 at%.
一方、波長８５０〜１８００ｎｍの範囲では、シリコン含有量が４ａｔ％〜１２ａｔ％の範囲で増加するのに応じて、ＤＬＣ−Ｓｉ膜の屈折率がＤＬＣ膜の屈折率よりも低下する。 - 特許庁
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