「nm」を含む例文一覧(14378)

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  • The polyester film for a brightness-enhancing sheet is composed of a polyester film and a coating layer formed on the film, wherein the coating layer is composed of an acrylic resin and fine particles having an average particle diameter of 1-20 nm and a refractive index of 1.30-1.40.
    ポリエステルフィルムおよびそのうえに設けられた塗布層からなり、塗布層がアクリル樹脂および平均粒子径1〜20nmかつ屈折率1.30〜1.40の微粒子からなることを特徴とする、輝度向上シート用ポリエステルフィルム。 - 特許庁
  • A 'confirmed-side' spectral colorimeter reads a color to be confirmed and computes spectral reflectance at 16 or 32 discrete points, for example, in the wavelength range (380 to 780 nm) of visible lights (step S101).
    「被確認側」の分光測色計は、確認する色である確認色を読み込み、例えば、可視光の波長域(380〜780nm)における離散的な16点ないし32点の分光反射率を算出する(ステップS101)。 - 特許庁
  • The electrode for the fuel cell comprises an electron conductor which uses as a substrate at least a carbon fiber having fiber diameter in the range of 50-200 nm and an aspect ratio in the range of 10-200, and which has a specific surface area of 50-1,000 m^2/g.
    繊維径が50〜200nmの範囲にあり、アスペクト比が10〜200の範囲にあるカーボン繊維を少なくとも基体とした比表面積が50〜1000m^2/gである電子伝導体を含有する燃料電池用電極。 - 特許庁
  • To provide a phosphor material having a broad emitted light spectrum in blue color range (a peak wavelength is 400 to 500 nm), also having a wide and flat exciting belt in a near ultraviolet and an ultraviolet range, and excellent in light-emitting efficiency, light-emitting intensity and brightness.
    青色の範囲(ピーク波長が400nm〜500nm)にブロードな発光スペクトルを持ち、また、近紫外・紫外の範囲に広く平坦な励起帯を持つ、発光効率及び発光強度・輝度に優れた蛍光体を提供する。 - 特許庁
  • A wiring board is created, which has a substrate 6, a wiring 4 disposed on the substrate 6 and having a predetermined pattern, and a layer disposed on one part or entire of the wiring 4 and containing silver nano-particles 3 having a particle size of 200 nm or less.
    基材6と、基材6に配置され、所定のパターンを有している配線4と、配線4の一部または全部に配置され、粒子径200nm以下の銀ナノ粒子3の層を有する配線基板を創作した。 - 特許庁
  • To realize an optical transmission in an optional wavelength band of a range of 1,300-1,650 nm by a single optical fiber, and to realize the optical transmission eithout needing a dispersion compensation device especially in the optical transmission of a comparatively short distance.
    1300nm〜1650nmの範囲の任意の波長帯域における光伝送を単一の光ファイバで実現し、特に比較的短距離の光伝送においては、分散補償装置を必要としない光伝送を実現すること。 - 特許庁
  • The core-shell fine particle has an average particle size of 100-950 nm with a CV value of at most 20% as a percentage of the standard deviation of the average particle size to the average particle size as measured by the dynamic light scattering method.
    このコア−シェル微粒子は、動的光散乱法により測定される平均粒子径が100〜950nmであり、かつ平均粒子径に対する粒子径標準偏差の百分率を表すCV値が20%以下である。 - 特許庁
  • A high quality wafer comprises Al_xGa_yIn_zN (wherein 0<y≤1 and x+y+z=1) and is characterized by a root mean square surface roughness of less than 1 nm in a 10×10 μm^2 area at its Ga-side.
    ウェーハのGa側における10×10μm^2面積内で1nm未満の根二乗平均表面粗さを特徴とする、Al_xGa_yIn_zN(式中、0<y≦1およびx+y+z=1)を含む高品質ウェーハ。 - 特許庁
  • When a polylactic acid undrawn yarn having a crystal size of less than 6 nm is drawn, the drawing temperature, the heat treatment temperature, the drawing ratio are set to higher than 110°C, higher than 120°C, and in a specific range, respectively.
    結晶サイズが6nm未満のポリ乳酸未延伸糸を延伸するに際し、延伸温度を110℃以上、熱処理温度を120℃以上、延伸倍率(DR)を特定の範囲とするポリ乳酸繊維の製造方法。 - 特許庁
  • Not less than 65% (measured on number basis) of the carbon fiber by the vapor phase method has 80-500 nm average fiber diameter, 100-200 aspect ratio and fiber diameters within ±20% of average fiber diameter, and preferably, the bulk density is about ≤0.02 g/cm^2.
    平均繊維径80〜500nm、アスペクト比100〜200で平均繊維径の±20%の範囲に全繊維の65%(本数基準)以上が含まれ、好ましくは嵩密度が約0.02g/cm^3以下である気相法炭素繊維。 - 特許庁
  • On the surface of the magnetic layer number of recessed parts having depth of ≥1/3 of a minimum recording bit length is ≤100 pieces/10,000 μm^2 and a central plane average roughness SRa is ≤6.0 nm.
    前記磁性層表面に存在する最小記録bit長の1/3以上の深さを有する凹みの数は100個/10000μm^2以下であり、かつ前記磁性層表面の中心面平均粗さSRaが6.0nm以下である。 - 特許庁
  • The Shore hardness (ASTM D 2240) is 2-80 at 10-40±3°C, the width or diameter of the convex or concave structure is from 100 nm to 5,000 μm and the aspect ratio of the convex or concave structure is 0.2-10.0.
    温度10℃〜40℃±3におけるショア硬度(ASTM D 2240)が、2〜80の範囲であり、凸、又は凹構造の幅または直径が100nm〜5000μmであり、前記凸、又は凹のアスペクト比が0.2〜10.0の範囲である。 - 特許庁
  • This method comprises irradiating a granular food of e.g. sesame, pepper or berry of cannabis with a light beam having a wavelength of 200 to 1,100 nm under the conditions that the time length of one irradiation is <0.002 sec. and the accumulated energy of irradiation is ≤12.0 J/cm2.
    胡麻、胡椒、麻の実などの粒状食品に、波長が200nmから1100nmの光線を、1回の照射が0.002秒未満で、累積照射エネルギーが12.0J/cm^2 以下となるように照射すること。 - 特許庁
  • In the thin film transistor substrate having a structure in which a transparent conductive film and an electrode wiring film are directly connected to each other in a thin film transistor, the maximum crystal particle size of the transparent conductive film is 200 nm or less.
    薄膜トランジスタにおいて透明導電膜と電極配線膜が直接接続する構造を有する薄膜トランジスタ基板であって、前記透明導電膜の結晶最大粒径が200nm以下である薄膜トランジスタ基板。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive lithographic printing plate material suitable for exposure with laser light of 350-450 nm wavelength, having high sensitivity and high printing durability, and so excellent in storage stability as to ensure less sensitivity variation in storage.
    本発明の目的は、波長350〜450nmのレーザ光での露光に適し、高感度であり、高耐刷性であり、かつ保存時の感度の変動が少なく保存性に優れた感光性平版印刷版材料を提供する。 - 特許庁
  • The electric storage device includes a negative electrode, a positive electrode which is equipped with a carbon material having a layer graphite structure where the surface separation is 0.340-0.354 nm, and an electrolyte interposed between the negative electrode and the positive electrode.
    本発明の蓄電デバイスは、負極と、面間隔が0.340nm以上0.354nm以下である層状グラファイト構造を有する炭素材料を備えた正極と、負極と正極との間に介在する電解質と、を備えている。 - 特許庁
  • The adsorbent is produced from a porous body in which the volume of fine pores having equivalent diameters of 0.6 to 1.6 nm is ≥0.2 cm^3/g, and silicon oxide (SiO_2) and titanium oxide (TiO_2) are compounded.
    相当直径が0.6nm以上、1.6nm以下の細孔が占める細孔容積が0.2cm^3/g以上であって、かつ、酸化ケイ素(SiO_2)及び酸化チタン(TiO_2)が複合化された多孔質体から吸着剤を生成する。 - 特許庁
  • This organic luminescent element is composed by stacking a transparent electrode, and an organic luminescent layer and a back electrode on a base material in this order, and is characterized in that the mean square of the unevenness on the surface of the transparent electrode is 50 nm or smaller.
    基材上に透明電極、有機発光層及び背面電極をこの順に積層してなり、該透明電極の表面における凹凸の2乗平均が50nm以下であることを特徴とする有機発光素子である。 - 特許庁
  • The skin is irradiated with IPL having a wavelength of 400 to 1,200 nm, and the intracellular section of the skin cell forming the cuticle, the corium and/or the tela subcutanea is instantly heated in such a manner that a thermal burn may not occur on the skin, especially on the cuticle.
    400〜1200nmの波長を有するIPLを皮膚に照射し、皮膚、特に表皮の熱傷が起きぬように表皮、真皮及び/又は皮下組織を形成する皮膚細胞の細胞内部を瞬間加熱する。 - 特許庁
  • The in-vacuum chamber contamination removing apparatus has a light source for irradiating the light toward the internal wall or to the membranes used in the vacuum chamber is provided, and wavelength of the light emitted from the light source is in the range of 120 to 360 nm.
    真空チャンバー内の内壁部または使用部材に向けて光を照射する光源を有し、 前記光源より照射する光の波長が120〜360nmであることを特徴とする真空チャンバー内汚染除去装置。 - 特許庁
  • In the step of forming the silicon oxide film, it is desirable to set the temperature of the silicon substrate to be 100°C or higher, 350°C or lower, to set a total pressure to 10 Pa or higher, 10,000 Pa or lower, and to set the ozone concentration to 50 g/Nm^3 or higher.
    シリコン酸化膜を形成する工程は、シリコン基板の温度を100℃以上350℃以下とし、全圧を10Pa以上10,000Pa以下とし、オゾンの濃度を50g/Nm^3以上として行うことが好ましい。 - 特許庁
  • Projecting regions 101a having upper surfaces higher than light-receiving surfaces by 200 nm or higher are formed by forming light-receiving regions 130 (recessed regions), using the bottoms as the light-receiving surfaces by etching a part of a silicon substrate 101.
    シリコン基板101の一部をエッチングして底部が受光面となる受光領域130(凹領域)を形成することにより、その受光面よりも上部表面が200nm以上高い凸領域101aを形成する。 - 特許庁
  • This fiber structure is composed of a polyester-based fiber, wherein the polyester-based fiber structure contains a silicone-based compound and the silicone-based compound has a dispersion diameter in the range of 0.1-1,000 nm.
    ポリエステル系繊維からなる繊維構造物において、該繊維構造物にシリコーン系化合物が含有されてなり、該シリコーン系化合物の分散径が0.1nm〜1000nmの範囲であることを特徴とするポリエステル系繊維構造物。 - 特許庁
  • The laminate has a base material and a resin thin film layer with a surface roughness of 4 nm or less comprising an epoxy compound.
    上記目的を達成するために、本発明は、基材と、上記基材の少なくとも片面に積層され、表面平均粗さが4nm以下であるエポキシ化合物からなる樹脂薄膜層とを有することを特徴とする積層体を提供する。 - 特許庁
  • An MTJ cell is characterized by comprising a lower electrode and a lower magnetic film sequentially laminated on the lower electrode, a tunneling film, an upper magnetic film, and an upper electrode, wherein the upper magnetic film includes a free magnetic film having a thickness of ≤5 nm.
    下部電極及び下部電極上に順次に積層された下部磁性膜、トンネリング膜、上部磁性膜及び上部電極を含み、上部磁性膜は厚さが5nm以下のフリー磁性膜を含むことを特徴とするMTJセル。 - 特許庁
  • If an inorganic compound powder particle CP with an average grain diameter of 500 nm or less is contained, the baking contraction of a wiring pattern layer 6 can be delayed properly when the ceramic green sheet 5 is formed to a laminated body and baked.
    500nm以下の平均粒径を有する無機化合物粉末粒子CPを含有させると、該セラミックグリーンシート5を積層体となして焼成する際に、配線パターン層6の焼成収縮を適度に遅らせることができる。 - 特許庁
  • The inorganic nano particle dispersion liquid contains inorganic nano particles having an average primary particle diameter of 1-50 nm, a hydrolyzate of a silane coupling agent, and a dispersing agent having a salt structure in which an acid group is neutralized by a basic group, and a dispersion medium.
    平均一次粒子径が1〜50nmの無機ナノ粒子、シランカップリング剤の加水分解物、酸性基を塩基性基で中和した塩構造を有する分散剤、及び分散媒を含む無機ナノ粒子分散液である。 - 特許庁
  • The laminate includes: a base material; and a porous aluminum oxide film formed on the base material and having three-dimensional connecting pores with the average pore size of ≤500 nm.
    本発明は、基材と、上記基材上に形成され、平均細孔径500nm以下の三次元連結孔を有する多孔質アルミニウム酸化物膜と、を有することを特徴とする積層体を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁
  • In the thin film-laminated substrate, a thin film layer containing a fluorescent substance is laminated on one side of the substrate, and an average light transmittance in a wavelength domain of 400-700 nm is at least 60%.
    本発明の薄膜積層基板は、基板の片面に蛍光物質を含有する薄膜層が積層され、400nm〜700nmの波長領域における平均光線透過率が60%以上であることを特徴とするものである。 - 特許庁
  • To provide a coating composition for preventing insect attraction using pigments which absorb light with wavelength of ≤400 nm, excellent in dispersibility and aging stability of coating and imparting a coated film with excellent transparency in visible light region.
    400nm以下の光を吸収する顔料を用いた、塗料の分散性および経時安定性が良好、且つ塗膜にした時の可視光領域での透明性に優れる防誘虫コーティング組成物を提供することにある。 - 特許庁
  • This quartz glass added with the fluorine is ≤1%/cm in the quantity of the deterioration of the transmittance to an F_2 excimer laser beam of a wavelength 157 nm after irradiation with the laser beam of 1×10^6 mJ/cm^2 as the total quantity of irradiation.
    照射総量として1×10^6 mJ/cm^2 のレーザ光を照射された後の、波長157nmのF_2 エキシマレーザ光に対する透過率劣化量が1%/cm以下であるフッ素添加石英ガラス。 - 特許庁
  • To provide a light emitting thyristor that emits light of about 680 to 770 nm in wavelength and is improved in controllability of light emission, to provide a light emitting element array having the light emitting thyristor, and to provide an image forming apparatus.
    680nm〜770nm程度の波長の光を出射可能であって、発光の制御性を向上することができる発光サイリスタ、この発光サイリスタを備える発光素子アレイ、ならびに画像形成装置を提供する。 - 特許庁
  • The proton conductive solid electrolyte, consisting of porous inorganic solid with pores with an average diameter of ≤100 nm, includes a functional group having active hydrogen on the inner faces of the pores and on the surface of the porous inorganic solid.
    プロトン伝導性固体電解質は、平均孔径が100nm以下である細孔を有する多孔質無機固体からなり、前記細孔内面および前記多孔質無機固体表面に活性水素を有する官能基を備えている。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a magnetic recording medium employing alumina nano holes (ANHs) to fill magnetic metal uniformly and selectively even for ANHs with a diameter not larger than 25 nm.
    アルミナナノホール(ANH)の半径を25nm以下にした場合であっても、ANHに磁性体金属を均一かつ選択的に充填することが可能なANHを用いた磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
  • The ink contains a pigment, a film-forming resin, and a solvent comprising ethylcyclohexane, wherein the cluster consisting of the pigment and the resin has a particle diameter distribution substantially within a range of from 100 to 10,000 nm.
    顔料と、被膜形成樹脂と、溶剤としてのエチルシクロヘキサンとを含むインキにおいて、上記顔料と上記樹脂とからなるクラスターの粒度分布が、実質的に100〜10,000nmの範囲にあることを特徴とする印刷インキ。 - 特許庁
  • The fine particle dispersion liquid includes organic fine particles having an average particle size of 100-1,000 nm and a particle size distribution (CV value) of 10-50%; and a hydrophobic dispersion medium having a dielectric constant of 0-10.
    平均粒径が100nm〜1000nmであり、粒度分布(CV値)が10%〜50%である有機微粒子を含み、かつ、誘電率が0〜10である疎水性分散媒を含むことを特徴とする微粒子分散液。 - 特許庁
  • The positive photoresist composition contains (A) an alkali- soluble resin in which part of all phenolic hydroxyl groups have been protected with acid dissociable groups, (B) a quinonediazido-ester compound and (C) a compound which generates an acid under light of 365 nm wavelength.
    (A)全フェノール性水酸基の一部が酸解離性基で保護されているアルカリ可溶性樹脂、(B)キノンジアジドエステル化物、および(C)365nmの波長の光に対して酸を発生する化合物を含有してなるポジ型ホトレジスト組成物。 - 特許庁
  • This polymer composition for the carbon fiber precursor fiber is characterized by containing the polyacrylonitrile-based polymer and carbon-based fine particles having ≤200 nm mean particle diameter measured by a dynamic light-scattering type particle size distribution-measuring method.
    ポリアクリロニトリル系重合体と、動的光散乱式粒度分布測定法による平均粒径が200nm以下となる炭素系微粒子とを含むことを特徴とする炭素繊維前駆体繊維用重合体組成物。 - 特許庁
  • To provide an apparatus for manufacturing a sensing element, on producing the sensing element including a microarray arranged via gaps at micro-intervals, capable of producing gaps at intervals narrower than 10 nm with excellent accuracy and reproducibility.
    微小間隔のギャップを介して配列された微小配列体を備えたセンサ素子を作製するに際し、 それらのギャップを10nmよりも狭い間隔に、精度良く、再現性良く作製するセンサ素子の作製装置を提供する。 - 特許庁
  • The negative type image recording material capable of recording by irradiation with IR contains (A) an IR absorbent having the absorption maximum in the wavelength range of 900-1,200 nm, (B) a radical generating agent and (C) a radical polymerizable compound.
    赤外線の照射により記録可能であり、(A)吸収極大波長が900〜1200nmの範囲にある赤外線吸収剤と、(B)ラジカル発生剤と、(C)ラジカル重合性化合物とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
  • To provide an image forming method with high sensitivity and excellent image preservability by combination of a heat developable photosensitive material with a fluorescence intensifying screen in a wavelength range of 350-420 nm.
    本発明の課題は、350nm以上420nm以下の波長領域で熱現像感光材料と蛍光増感スクリーンとの組み合わせによる高感度で優れた画像保存性を有する画像形成方法を提供することである。 - 特許庁
  • In addition, the optical low-pass fiber of the phase grating type is ≤0.1 in the minimal value of the MTF measured at a wavelength 550 nm.
    (1)位相格子型の光学的ローパスフィルターであって、波長550nmで測定されるMTF特性において、第1カットオフ周波数と第2カットオフ周波数との間の空間周波数におけるMTFの極大値が0.1以下である。 - 特許庁
  • To provide an electrophotographic photoreceptor which hardly causes the deterioration of sensitivity for exposure light of short wavelength such as oscillation wavelength of 350 to 500 nm and, even upon repeated exposure, hardly causes potential fluctuations of dark part and bright part on the photoreceptor.
    発振波長が350〜500nmという短波長の露光光に対し、感度低下を起こさず、また、繰り返し露光しても感光体上の暗部及び明部の電位変動がほとんどない電子写真感光体を提供をする。 - 特許庁
  • In the method for evaluating the electrophotographic photoreceptor, generation of filming is evaluated by irradiating the electrophotographic photoreceptor, with ultraviolet rays having a wavelength in the range of 200 to 420 nm and measuring fluorescence emitted from the electrophotographic photoreceptor.
    電子写真感光体に対し、波長が200nm以上420nm以下の紫外線を照射し、該感光体から発する蛍光を測定することによって、フィルミングの発生を評価する電子写真感光体の評価方法である。 - 特許庁
  • A silicon oxide film of 10-50 nm thick is deposited on the entire surface of a semiconductor substrate 11 and subjected to anisotropic etching to form an ion implantation regulating film 18 of silicon oxide on the side face of a gate structure 17.
    半導体基板11の全面に膜厚が10〜50nmのシリコン酸化膜を堆積し、異方性エッチングを行なうことにより、ゲート構造体17の側面上に酸化シリコンからなるイオン注入調整膜18を形成する。 - 特許庁
  • Electrogalvanizing is performed after cleaning a steel sheet in a pretreatment step using a pickling agent containing sulfuric acid of 5 to 25 mass% concentration and colloidal silica of 1 to 10 mass% concentration and 4 to 200 nm average particle size.
    前処理工程で、濃度が5〜25質量%の硫酸と、濃度が1〜10質量%で、平均粒子径が4〜200nmのコロイダルシリカを含む酸洗剤で鋼板を洗浄した後に、電気亜鉛めっきを行うようにしたのである。 - 特許庁
  • To provide an optical recording medium which shows high superresolution characteristics for light at 350 to 450 nm wavelength and which can improve the recording density.
    本発明は上記問題点に鑑みてなされたもので、波長が350nmから450nmの光に対しても高い超解像特性を示し、記録密度を向上させることのできる光記録媒体を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The resin fine particles have ≥5 to ≤30 ratio (Mw/Mn) of weight-average molecular weight Mw to number-average molecular weight Mn and ≥10 to ≤300 nm D_50 (median diameter) based on the volume.
    重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnの比(Mw/Mn)が5以上30以下であり、且つ、体積基準におけるメディアン径(D_50)が10nm以上300nm以下であることを特徴とする樹脂微粒子。 - 特許庁
  • The container body 2 is formed of a container member composed of an elution retardant material where impairment in transmittance of liquid at 193.4 nm due to elution from the container member (container body 2) to the liquid is not recognized.
    容器本体2は、難溶出性材料からなる容器部材によって形成され、容器部材(容器本体2)から液体への溶出による液体の193.4nmの透過率劣化のない容器部材により構成される。 - 特許庁
  • In the insulated gate transistor, desorption gas observed as a water molecule by a temperature rising desorption analysis (TDS measurement)is less than 1.4 molecules/nm^3 if an oxide containing at least one element of In, Ga, and Zn is used in an active layer 5.
    活性層にIn、Ga、Znの内、少なくとも1つを含む酸化物を用いる場合において、昇温脱離分析(TDS測定)により水分子として観測される脱離ガスを1.4個/nm^3未満とする。 - 特許庁
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