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＜前へ 1 2 .... 231 232 233 234 235 236 237 238 239 .... 287 288 次へ＞- The resin particle dispersion includes, as essential components, a resin particle (A) composed of a resin (a), a resin precursor (B) and a dispersion medium (U), the resin particle (A) having a volume average particle size of 1-300 μm and a center line average roughness on the particle surface of 5-300 nm.
樹脂（ａ）からなる樹脂粒子（Ａ）、熱可塑性樹脂（Ｂ）、及び分散媒体（Ｕ）を必須成分としてなり、樹脂粒子（Ａ）の体積平均粒径が１〜３００μｍ、かつ樹脂粒子（Ａ）の粒子表面の中心線平均粗さが５〜３００ｎｍであることを特徴とする樹脂粒子分散液。 - 特許庁 - The spherical microporous silica porous particle comprises a spherical particle having micropores with a pore size of ≤2 nm and a pore volume of ≥0.25 mL/g, a BET specific surface area of 600 m^2/g, a constant C of ≥450 obtained by BET analysis and a particle size of 20-500 μm.
この球状マイクロポアシリカ多孔質粒子は、細孔径２ｎｍ以下のマイクロポアを０．２５ｍｌ／ｇ以上の細孔容積で有し、ＢＥＴ比表面積が６００ｍ^２／ｇ以上、ＢＥＴ解析法によるＣ定数が４５０以上、且つ粒径が２０乃至５００μｍの球状粒子からなる。 - 特許庁 - In the tungsten oxide fine particles with a planar particle shape is characterized in that the average particle size is 1 to 500 nm, the relative standard deviation of a particle size distribution is ≤50.0%, crystal structure is composed of monoclinic crystals, and the value obtained by dividing the crystalline size by the average particle size is ≥0.40.
平均粒子径が１〜５００ｎｍ、粒子径分布の相対標準偏差が５０．０％以下、結晶構造が単斜晶であり、結晶子サイズを平均粒子径で除した値が０．４０以上であることを特徴とする板状の粒子形状をもつ酸化タングステン微粒子。 - 特許庁 - A cold rolled steel sheet, of which cementite amount in a grain (the number of existing cementite particles in a crystal grain) is less than five, and of which distribution of the oxide film thickness in a long transverse direction is made to be less than 50 nm by an acid cleaning before plating with an acid cleaning liquid including an acid cleaning accelerating agent, is galvanized electrolytically.
酸洗促進剤を含有する酸洗液を用いてめっき前酸洗することにより、粒内セメンタイト数 (結晶粒内に存在するセメンタイト粒子の個数) が５個以下であり、かつ、幅方向の酸化皮膜厚のバラツキが50nm以下とした冷延鋼板に電気亜鉛めっきを施す。 - 特許庁 - An upper stage (first supporting body) 101a and a lower stage (second supporting body) 101b are formed on the surface of a substrate 101, and a catalyst metal layer 111 which is made of a catalyst metal such as iron or cobalt, etc. and of which thickness is around 0.06-0.5 nm is formed in the upper stage 101a.
基板１０１の表面には、上段部（第１支持体）１０１ａと下段部（第２支持体）１０１ｂが形成され、上段部１０１ａには、例えば鉄やコバルトなどの触媒金属からなる膜厚０．０６〜０．５ｎｍ程度の触媒金属層１１１が形成されている。 - 特許庁 - In manufacturing alumina ceramics, γ-alumina ultrafine particles consisting of spherical single particles with an averaged particle size of 20-80 nm and a BET specific surface area of 20-90 m2 are compounded in 0.5-5.0 weight % into an alumina ceramic raw material with a main component of α-alumina particles, and then the compounded material is fired.
α−アルミナ微粒子を主成分とし、平均粒径２０〜８０ｎｍ、ＢＥＴ比表面積２０〜９０ｍ^2 ／ｇである球状の単一粒子からなるγ−アルミナ超微粒子を０．５〜５．０重量％配合し、焼成してなることを特徴とするアルミナセラミックに関する。 - 特許庁 - The coating agent for forming a conductive film: consists of a solution with a titanium compound and a transition element compound dissolved in the solution or a dispersion liquid with particles of the titanium compound and the transition element compound which are dispersed in the liquid and have particle diameters of 100 nm or less measured by the dynamic light scattering method; and further, contains a surfactant.
導電膜形成用塗布剤は、チタン化合物及び遷移元素化合物が溶解した溶液又は動的光散乱法により測定される粒子径が１００ｎｍ以下である粒子として分散した分散液からなり、界面活性剤をさらに含有する。 - 特許庁 - A diamond wafer 13 is characterized in that a recess 17 formed by the irradiation of a gas cluster ion beam and having a bottom 17c with a surface roughness Rms of 0.1 to 10 nm is formed at a position where a absorber 16 for absorbing radiation light, etc., is arranged on the surface of a permeable membrane 12 facing a material to be transferred.
ダイヤモンドウェハ１３は、透過膜１２の被転写体側の面であって照射光等の吸収体１６を配設する部位にガスクラスターイオンビームの照射によって表面粗さがＲｍｓ＝０．１〜１０ｎｍの底面１７ｃを有する凹部１７が設けられたことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide an optical information recording medium capable of making a record with a laser beam having a wavelength of 390-430 nm and excellent in recording characteristics, such as sensitivity, a reflection coefficient, and a modulation factor, and to provide a method for recording information, capable of recording the information with a high density, by using the optical information recording medium.
波長３９０〜４３０ｎｍのレーザー光によって記録が可能であり、感度、反射率、変調度などの記録特性に優れた光情報記録媒体を用いることによって、情報の高密度記録が可能な情報記録方法を提供することである。 - 特許庁 - An SOI whose thickness is at most 200 nm is thermally treated in an inert atmosphere at a temperature which is at least the eutectic crystal temperature (e.g., 966°C) of a semiconductor metal compound (e.g., nickel silicide), which is composed of semiconductor material constituting the crystal semiconductor of the SOI and metal and at most the melting point of the semiconductor material.
厚さ２００nm以下のSOIを、不活性雰囲気中において、SOIの結晶半導体を構成する半導体材料と金属との半導体金属化合物（例えばニッケルシリサイド）の共晶温度（例えば９６６℃）以上であって半導体材料の融点以下の温度で熱処理する。 - 特許庁 - The surface roughness Ra of the non-magnetic substrate 1 is specified to be 1.5 to 20 nm and the soft magnetic underlayer 2 is formed on the non-magnetic substrate 1 having the surface roughness so that a soft magnetic film having 0.4 to 1.5 T saturation magnetic flux density is formed in 0.15 to 10 μm film thickness.
非磁性基体１の表面粗さＲａを１．５ｎｍ以上２０ｎｍ以下とし、軟磁性下地層２は、この表面粗さを有する非磁性基体１上に、飽和磁束密度が０．４Ｔ以上１．５Ｔ以下である軟磁性膜を０．１５μｍ以上１０μｍ以下の膜厚に形成してなる。 - 特許庁 - In this case, by emitting the auxiliary laser beam LB(G2) of 500 nm in addition to the conventional three-primary-color RGB laser beams LB(M), if necessarily, a color which is not developed in the conventional three primary colors RGB is developed, then, a color image more faithful to a natural color is displayed.
その際、従来のＲＧＢの３原色のレーザビームＬＢ（Ｍ）に加え、５００ｎｍの補助レーザビームＬＢ（Ｇ_２）を必要に応じて発光させることにより、従来のＲＧＢの３原色では発色が不可能であった色を発色でき、より自然の色に忠実なカラー画像を表示できる。 - 特許庁 - A doping dipole structure constituted of an N-type high density delta doped layer 132 and a P-type high density delta doped layer 131 which are adjacent to each other at most 20 nm is periodically formed in an undoped layer 133 which is to be irradiated with a light, thereby turning the band structure of a light absorbing layer into a sawtooth type.
少なくとも２０ｎｍ以下に近接したｎ型高濃度デルタドープ層とｐ型高濃度デルタドープ層とからなるドーピングダイポール構造を、光照射を受けるアンドープ層に周期的に形成することにより光吸収層のバンド構造を鋸歯状にする。 - 特許庁 - This particulate agglomerate comprises a silica which has a highly frequent pore diameter (D_max) of smaller than 20 nm, a crushing strength of 100 N or lower and a chemical shift δ (ppm) of Q^4 peak in a solid Si-NMR satisfying the formula: -0.0705×(D_max)-110.36>δ.
細孔の最頻直径（Ｄ_max）が２０ｎｍ未満のシリカよりなる微粒子の凝集体であって、圧壊強度が１００Ｎ以下であり、且つ、固体Ｓｉ−ＮＭＲでのＱ^4ピークのケミカルシフトをδ（ｐｐｍ）とした場合に、δが下記式（Ｉ） −０．０７０５×（Ｄ_max）−１１０．３６＞δ ・・・（Ｉ） を満足するようにする。 - 特許庁 - A high-purity hexagonal boron nitride is used as a direct semiconductor solid-state light-emitting element, and electronic rays are irradiated on the crystal to excite it, whereby a light of deep-ultraviolet region 215 nm is generated, or deep-ultraviolet laser beams are generated by resonating it.
高純度六方晶窒化ホウ素単結晶を直接型半導体固体発光素子として使用し、該結晶に電子線を照射して励起することによって、深紫外領域２１５ｎｍの光を発生し、あるいはこれを共振して深紫外レーザ光を発生させる。 - 特許庁 - The blade for the electrophotographic device is equipped with an elastic member whose surface, at least, is formed of a polyurethane elastic body containing a filler, and besides the filler is dispersed in the polyurethane elastic body, in such a state that maximum particle size becomes 100 nm or smaller.
少なくとも表面がフィラーを含有するポリウレタン弾性体で形成された弾性部材が備えられており、しかも、前記フィラーが前記ポリウレタン弾性体中に最大粒径１００ｎｍ以下となる状態で分散されていることを特徴とする電子写真装置用ブレードを提供する。 - 特許庁 - After treating the group III-V semiconductor substrate by the method, the bulk metal contamination can be substantially completely removed from the substrate while the obtained surface roughness of the substrate after treatment is less than 0.5 nm RMS for a surface grid of 2 μm×2 μm.
本発明の実施形態に係る方法を用いてＩＩＩ−Ｖ族半導体基板を処理した後、バルク金属汚染は、基板からほぼ完全に除去できるとともに、処理後の基板の表面粗さは、２μｍ×２μｍの表面グリッドに関して０．５ｎｍＲＭＳ未満とすることができる。 - 特許庁 - The minute recording marks are formed and recording is performed by subjecting the silver oxide to thermolysis by irradiating such optical recording medium with light at output of 5mW using a pickup of, for example, a wavelength 405 nm and a numerical aperture NA 0.85 from the substrate 3 side thereof and oxidizing Cr by generated oxygen.
この光記録媒体の基板２側から、例えば波長４０５ｎｍ、開口数ＮＡ０．８５のピックアップを用いて５ｍＷの出力で光照射を行い酸化銀を加熱分解し、発生した酸素によりＣｒを酸化して微小記録マークを形成し記録を行う。 - 特許庁 - The optical information recording medium is characterized in that on the tracking-direction section of a pit center formed on a substrate, a difference between the height of a maximum projected part which is highest among projected parts formed on the bottom of the pit and the average height of the projected parts is 7 nm or less.
基板上に形成されたピット中央部のトラッキング方向の断面において、前記ピットの底部に生成した突出部のうち、高さが最大である最大突出部の高さと前記突出部の平均高さとの差が７ｎｍ以下であることを特徴とする光情報記録媒体である。 - 特許庁 - Thus, a crystallographical rearrangement will not start locally, not only a macrocrystal up to several hundreds of nm but also to 'a local and crystallographical rearrangement' before arriving at the giant crystal are avoided, and a roughness can be more surely suppressed, in association with the no orientation of the crystal.
これにより、局所的にせよ結晶学的な再配列を生じ始めることがなく、結晶の無配向と相まって、数百ｎｍにも及ぶ巨大結晶はもちろんのこと、それに至る前の「局所的、且つ、結晶学的な再配列」も回避され、ラフネスのより確実な抑制が図られる。 - 特許庁 - The thickness of three layers of a 8N type (or 6P type) polycrystalline layer, a 7I type silicon polycrystalline layer and a 6P type (or 8N type) polycrystalline layer is set to the thickness that effectively absorbs infrared rays (λ= about 700 to 1,000 nm) to form the photoelectric cell unit having high sensitivity to the infrared rays.
８Ｎ型（又は６Ｐ型）の多結晶層と７Ｉ型シリコン多結晶層及び６Ｐ型（又は８Ｎ型）多結晶層３層の厚さは赤外線（λ＝約７００ｎｍ〜１，０００ｎｍ）を有効に吸収する厚さに設定されて、赤外線に高感度を有する光電池単体を形成する。 - 特許庁 - Vapor generated by making pulse current to flow through metal fine wire coated with organic matter for 0.1 to 50 μs is condensed in an inert gas, thus metal hyperfine particles with the average particle diameter of 5 to 100 nm in which an organic matter film is formed on each surface are produced.
有機物を塗布した金属細線に、０．１〜５０μｓの間パルス電流を通電することにより発生した蒸気を不活性気体中で凝結させることによって、平均粒径が５〜１００ｎｍで表面に有機物被膜を形成した金属超微粒子を製造する。 - 特許庁 - This toner contains as the external additive one or more sorts of inorganic particles of positive electrostatic property with the volume average particle size of 80-200 nm and one or more sorts of metatitanic acid particles of negative electrostatic property to which surface processing of 50 mass% or more is performed with a surface treatment agent.
トナーの外添剤として、少なくとも体積平均粒径８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の正帯電性の無機粒子を１種以上と、表面処理剤によって５０質量％以上の表面処理が施された負帯電性のメタチタン酸粒子を１種以上と、を含有する。 - 特許庁 - In the polyester film for a magnetic recording medium constituted by forming a film containing fine particles and an organic compound on one surface A of the polyester film, the number of fine surface projections of ≥15 nm in height on the surface of the film is ≤150,000/mm^2.
ポリエステルフイルムの一方の片側表面Ａに微細粒子と有機化合物を含有する被膜が形成されてなる磁気記録媒体用ポリエステルフィルムであって、被膜の表面における高さ１５ｎｍ以上の微細表面突起の個数を１５万個／ｍｍ^２ 以下とする。 - 特許庁 - The abrasive composition, used in rough polishing of wafer, comprises: (A) polishing particles whose average particle diameter is 5-150 nm; (B) pH stabilizer whose pKa value is 9-10 and whose content is 7-28 wt% with respect to the polishing particle; (C) polishing accelerator; and (D) water.
（Ａ）平均粒径が５〜１５０ｎｍである研磨粒子と、（Ｂ）ｐＫａ値が９〜１０であり、且つ含有量が前記研磨粒子に対して７〜２８ｗｔ％であるｐＨ安定剤と、（Ｃ）研磨促進剤と、（Ｄ）水とを含む、ウェハの粗研磨に用いられる研磨組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a magnetic disk capable of preventing fly stiction problems, corrosion problems, or the like, even if the floating height is extremely low such 10 nm or smaller, and forming a lubricant layer having a high adhesiveness which can suppress migration, even during high-speed rotation, and which is particularly suitable for loading/unloading methods.
１０ｎｍ以下の極低浮上量においてもフライスティクション障害や腐食障害などが防止でき、高速回転においてもマイグレーションを抑制し得る付着性の高い潤滑層を形成でき、特にロードアンロード方式用に好適な磁気ディスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate material with a coating film on which the coating film with a low absorbance of a visible rays, at the same time, capable of cutting most ultraviolet ray in a wave length range of 300-405 nm, suppressing a generation of yellowish coloring and a bleeding out of an ultraviolet ray absorbing agent and further having a high durability/weatherability.
可視光の吸収率が低いと共に３００〜４０５ｎｍの波長域の紫外線の大部分をカットすることができ、また黄味の発生や紫外線吸収剤のブリードアウトが抑制され、更に耐久性・耐候性の高い塗膜を形成した塗膜付き基材を提供する。 - 特許庁 - The separator for the alkaline battery is manufactured by integrally laminating: nano-fibers including a polyvinyl alcohol-based polymer having a saponification number of 90.0-99.9 molar%, an average polymerization degree of 400-4,000, and a fiber diameter of 10-1,000 nm; and a base material made of a wet type nonwoven fabric comprising alkali-resistant fibers.
ケン化度９０．０〜９９．９モル％、平均重合度４００〜４０００、繊維直径が１０〜１０００ｎｍであるポリビニルアルコール系ポリマーを含むナノファイバーと、耐アルカリ性繊維で構成された湿式不織布よりなる基材とが積層一体化されているアルカリ電池用セパレータ。 - 特許庁 - (2) Alternatively, the composite yarn comprises the modified cross-section regenerated cellulose fibers having 1.1-10 degree of modified cross section of the fibers, 10-50 nm fiber surface roughness parameter Ra measured under the atomic force microscope and containing 0.2-5 wt.% of a fine powder having 0.05-10 μm 50% average particle diameter.
(2) 繊維の異型度が１．１〜１０で、原子間力顕微鏡で測定した繊維表面粗度パラメーターＲａが１０〜５０ｎｍであり、５０％平均粒径が０．０５〜１０μｍである微粉末を０．２〜５重量％含む異型断面再生セルロース繊維を含有する複合糸。 - 特許庁 - A polishing slurry containing colloidal silica having an average primary particle diameter of 60 nm or smaller, an acid and water, controlled into a pH range of 0.5 to 4 is used to polish the glass substrate with a polishing pad having a nap layer having a compressibility of 10% or higher and a compressive elastic modulus of 85% or higher.
平均一次粒子径が６０ｎｍ以下のコロイダルシリカ、酸および水を含み、ｐＨが０．５〜４の範囲になるように調整してなる研磨スラリーを用いて、ガラス基板をナップ層の圧縮率が１０％以上、圧縮弾性率が８５％以上である研磨パッドで研磨する。 - 特許庁 - It was found that it is preferable to apply the aliphatic polyester resin composition comprising, based on 100 pts.mass of the aliphatic polyester resin, 0.1 to 2 pts.mass of silica having a particle size ranging from 1 to 50 nm, and 0.1 to 5 pts.mass of an organic crystal nucleating agent to the aliphatic polyester resin molded article.
脂肪族ポリエステル樹脂成形体に、脂肪族ポリエステル樹脂１００質量部に対して、粒径が１〜５０ｎｍであるシリカを０．１〜２質量部、及び有機系結晶核剤を０．１〜５質量部含有して成る脂肪族ポリエステル樹脂組成物を用いることが好適であることを見出した。 - 特許庁 - To provide a method for producing Kaeshi (a seasoning for noodle) obtained from mixture produced by adding Mirin (a liquor for cooking), sweetener or the like to soy sauce, and favorable as Kaeshi even when increase ratio of absorbancy at its wavelength of 420 nm exceeds 1.5 based on that just after mixing raw materials.
本発明は、醤油類にみりん、甘味糖類等が添加された混合物から得られるかえしの波長４２０ｎｍにおける吸光度の、原料調合直後と比較した増加率が１．５を超えた場合であってもかえしとして好適なものを製造できる条件を見出すことを目的とする。 - 特許庁 - This layered product is provided with: a plastic film substrate; and a transparent conductive thin film stacked on one surface or both surfaces of the plastic film substrate; and is characterized in that the transparent conductive thin film is formed by dispersing fine crystal particles each having a particle diameter below 100 nm in an amorphous body.
プラスチックフィルム基体と、このプラスチックフィルム基体の一方の面または両面に積層された透明導電性薄膜とを具備し、前記透明導電性薄膜は、非晶質体中に１００ｎｍ以下の粒径を有する微結晶粒子が分散してなることを特徴とする。 - 特許庁 - The method for producing the high brightness chemical pulp is provided, in which the chemical pulp subjected to a bleaching treatment is irradiated with light of UV light with a wavelength of 100-400 nm and/or visible light in the presence of hydrogen peroxide, wherein 0.1-5 wt.%. of the hydrogen peroxide per bone dry pulp weight is added.
漂白処理を行った化学パルプを、過酸化水素の存在下で波長100〜400ｎｍの紫外光及び／または可視光による光照射処理し、前記過酸化水素の添加率が絶乾パルプ重量当たり0.1〜5重量％である高白色度化学パルプの製造方法を提供する。 - 特許庁 - Transparent fluorescent ink 3 emitting fluorescent light upon being irradiated by light having a wavelength of 300-450 nm is printed on the key top 1, and the key top is irradiated with a black light ray 7 from a black light lamp 6A, so that the operability of the key top 1 can be improved in the dark.
キートップ１に対し３００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長の光で蛍光を発する透明蛍光インク３で印刷を行ない、これにブラックライト６Ａからブラックライト光７を照射することにより、暗所におけるキートップ１の操作性を向上させる。 - 特許庁 - In the wire grid type polarizing element 1, two or more rows of catalyst layers 21a are formed with film thickness of 3 to 10 nm on one substrate surface 15 of a light translucent substrate 10 such as quartz glass and heat-resistant glass and further a light shielding grid 25a is formed on a top layer of the catalyst layer 21a.
ワイヤーグリッド型偏光素子１は、石英ガラスや耐熱ガラスなどといった透光性基板１０の一方の基板面１５に複数列の触媒層２１ａが３〜１０ｎｍの膜厚で形成され、かかる触媒層２１ａの上層には遮光格子２５ａが形成されている。 - 特許庁 - This organic EL element and its manufacturing method are characterized in that the organic EL element has, on a substrate irradiated with a UV-ray of 200 nm or less, a layered product composed of at least one or more organic compound layers caught between a positive electrode and a negative electrode.
２００ｎｍ以下のＵＶ光が照射された基板上に、陽極および陰極に狭持された１層もしくは複数層の少なくとも有機化合物層により構成される積層体を有する有機ＥＬ素子ならびにその製造方法であることを特徴とする。 - 特許庁 - In the photonic crystal 1 having a laminated structure in which a plurality of pairs of an Si film 3 and an SiO_2 film 2 are cyclicly laminated, the Si film 3 has the extinction coefficient in visible rays range of which the wavelength is from 480 to 800 nm is smaller than the extinction coefficient of a bulk Si single crystal.
Ｓｉ膜３とＳｉＯ_２膜２とのペアを複数周期積層した積層構造を有するフォトニック結晶１において、Ｓｉ膜３は、波長４８０ｎｍ以上８００ｎｍ以下の可視光領域における消衰係数が、バルクＳｉ単結晶の消衰係数よりも小さくされる。 - 特許庁 - At least one surface of a rolled copper alloy that is not softened by heating for 1 hour at 300 °C is finished to a gloss surface, to which surface a dry-plating process is applied to yield Ni, Ni alloy, Cr, or Cr alloy of 10 nm or more.
３００℃で１時間加熱しても軟化しない圧延銅合金箔の少なくとも一方の面を光沢面に仕上げ、その面に１０ｎｍ以上のＮｉ、Ｎｉ合金、ＣｒもしくはＣｒ合金を、乾式めっき法を用いて施すことを特徴とするプリント配線基板用金属材料。 - 特許庁 - The nickel powder or the alloy powder composed mainly of nickel is characterized in having: a spherical shape; an average particle diameter D_50 ranging from 10 to 300 nm; and a ratio between the average particle diameter D_50 and the maximum value of particle diameter D_max, (D_max/D_50), not higher than 3.
本発明のニッケル粉末、またはニッケルを主成分とする合金粉末は、球形状を有するとともに、平均粒子径Ｄ_５０が１０〜３００ｎｍであり、かつ平均粒子径Ｄ_５０と粒子径の最大値Ｄ_ｍａｘとの比（Ｄ_ｍａｘ／Ｄ_５０）が３以下であることを特徴とする。 - 特許庁 - The porous ceramic spherical body characterized in that the volume of pores having a pore radius 1.8 nm to 100 μm is ≥0.25 cm^3/g, the mode of the fine radius exists in a range from 1 to 6 μm and the packing density is 0.7 to 1 g/cm^3.
細孔半径１．８ｎｍ〜１００μｍの細孔の容積が０．２５ｃｍ^3／ｇ以上であり、細孔半径の最頻値が１μｍ〜６μｍの範囲にあり、かつ充填密度が０．７ｇ／ｃｍ^3〜１ｇ／ｃｍ^3であることを特徴とするセラミックス球状多孔体。 - 特許庁 - This mold release film is a film having a mold release layer on one face of a polyester film having 65-77 of film L value measured by a reflection method, and 11-25 nm of film surface roughness Ra, and peeling force of a surface of the mold release layer is within a range of 10-100 mN/cm.
反射法で測定したＬ値が６５〜７７であり、フィルムの表面粗さ（Ｒａ）が１１〜２５ｎｍであるポリエステルフィルムの片面に離型層を有するフィルムであり、当該離型層表面の剥離力が１０〜１００ｍＮ／ｃｍの範囲であることを特徴とする離型フィルム。 - 特許庁 - A coating composition comprising an inorganic pigment (A) obtained from a phyllosilicate mineral, a hydroxy group-containing resin (B) and a curing agent (C) is provided, wherein the average particle diameter of the inorganic pigment (A) is <500 nm, and a method for forming a multilayer film, using the coating composition, is provided.
フィロケイ酸塩鉱物より得られる無機顔料（Ａ）、水酸基含有樹脂（Ｂ）及び硬化剤（Ｃ）を含有する塗料組成物であって、該無機顔料（Ａ）の平均粒子径が５００ｎｍ未満であることを特徴とする塗料組成物及び該塗料組成物を用いた複層塗膜形成方法。 - 特許庁 - The light emitting element has a light emitting layer (A) containing the polymer triplet light emitting material between electrodes consisting of a positive electrode and a negative electrode, and a layer (B) having a thickness of 5 nm or smaller and containing cesium or a cesium compound between the light emitting layer (A) and the negative electrode, as a part or the whole of the negative electrode.
陽極及び陰極からなる電極間に、高分子三重項発光材料を含む発光層（Ａ）を有し、該発光層（Ａ）と該陰極との間に、または該陰極の一部または全部として、セシウムもしくはセシウム化合物を含む膜厚５ｎｍ以下の層（Ｂ）を有する発光素子。 - 特許庁 - The pellicle film consists of an organic polymer having units (A) of tetrafluoroethylene and units (B) of cyclic perfluoro-ether and satisfying the relation of 0.7≤n/(m+n)≤1 between the number (m) of moles of the unit A and the number (n) of moles of the unit B and has ≥90% transmittance at 157 nm wavelength.
テトラフルオロエチレンの単位（Ａ）と、環状パーフルオロエーテルの単位（Ｂ）を有し、（Ａ）の単位のモル数（ｍ）と、（Ｂ）の単位のモル数（ｎ）として、ｎ／（ｍ＋ｎ）が０．７ないし１である有機ポリマーであって、波長１５７ｎｍでの透過率が９０パーセント（％）以上であることを特徴とするペリクル膜。 - 特許庁 - A metal structure 11 having an acute point as an STM chip and an AFM chip is made to approach the surface of a semiconductor substrate 10, and when an electrical pulse 12 is applied to this structure 11, fine projected matters 13 which are several tens to several nm in their diameter and height are formed on the surface of the substrate 10.
半導体基板（10）の表面に、ＳＴＭチップやＡＦＭチップのような、先端が先鋭な金属構造物（11）を近接せしめ、これに電気的パルス（12）を印加すると、前記基板（10）の表面に直径・高さが数１０〜数ｎｍの微細突起物（13）が形成される。 - 特許庁 - The method for purifying the primary cooling water is composed by bringing the primary cooling water in the nuclear power plant with the pressurized water reactor into contact with the porous anion exchange resin whose pore volume is 0.05 to 0.50 mL/g of dry resin (Cl type) and also whose average pore radius is 2 to 50 nm (Cl type).
本発明の一次冷却水の浄化方法は、細孔容積が０．０５〜０．５０ｍＬ／ｇ−乾燥樹脂（Ｃｌ形）、かつ、平均細孔半径が２〜５０ｎｍ（Ｃｌ形）の多孔形陰イオン交換樹脂に、加圧水型原子力発電所の一次冷却水を接触させることよりなる。 - 特許庁 - A variable-particle-size reactor formed by fixing on the surface of a particulate substrate a catcher having a 810 nm or shorter rod, a structurally variable body which changes its structure when stimulated, and a catching structure that specifically catches the objective to be caught.
長さが８１０ｎｍ以下である棒状体と、刺激により構造が可変である構造可変体と、捕捉対象を特異的に捕捉する捕捉構造体とを有してなる捕捉体を粒状基材の表面に固定してなることを特徴とする粒度可変反応器である。 - 特許庁 - This composite material composition includes (A) 0.0001-0.25 pt.mass of carbon nanotube having an aspect ratio of ≥10 and ≤1,000, and an average outside diameter of ≥1 and ≤100 nm, and (B) 100 pts.mass of a thermoplastic resin, wherein surface resistance is 10^2-10^13 Ω.
（Ａ）アスペクト比１０以上１０００以下、平均外径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下のカーボンナノチューブ：０．０００１〜０．２５質量部と、（Ｂ）熱可塑性樹脂：１００質量部とを含む複合材料組成物であって、表面抵抗が、１０^2Ω〜１０^13Ωである複合材料組成物を提供する。 - 特許庁 - When the irradiation optical system 20 is equipped with a short-wavelength cutoff filter 27, the light emitting from an ultrahigh-pressure mercury lamp 21 passes through the short-wavelength cutoff filter 27, in which rays in a deep ultraviolet region ranging from 270 to 333 nm are cut while leaving g-line, h-line and i-line rays.
このとき、照射光学系２０に短波長カットフィルター２７が装着されている場合には、超高圧水銀灯２１から出射された光は、短波長カットフィルター２７を通過し、ｇ線、ｈ線及びｉ線を残して、２７０〜３３３ｎｍの範囲にある深紫外線域の光がカットされる。 - 特許庁
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