「nm」を含む例文一覧(14378)

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  • A light shielding pattern 2a composed of an organic film for transferring pattern is constituted of a laminated film which is formed by laminating a light absorbability organic film 3a, which shows a light shielding property or a light attenuating property to the exposure light of which wavelength is 200 nm or more, and a resist film 4a mainly to do patterning this.
    パターン転写用の有機膜からなる遮光パターン２ａを、波長２００ｎｍ以上の露光光に対しても遮光性または減光性を示す吸光性有機膜３ａと、主としてこれをパターニングするためのレジスト膜４ａとの積層膜で構成した。 - 特許庁
  • In the light emission element in which a layer including a luminescence domain is prepared between an anode and a negative pole, a visible light (wavelength of 380-780 nm) transmittance of the above-mentioned anode is specified at 35-75%, and the work function of the above anode is further specified at 3.0-7.0 eV.
    陽極と陰極との間に、発光領域を含む層が設けられた発光素子において、前記陽極の可視光（波長３８０〜７８０ｎｍ）透過率が３５〜７５％に規定され、更に前記陽極の仕事関数が３．０〜７．０ｅＶに規定された発光素子。 - 特許庁
  • The information recording medium is irradiated with a light beam of 780 nm in wavelength for CD through a 4th grating 34, a 3rd waveguide layer 22, and a 3rd grating 33 and its reflected light beam is inputted and coupled with a 2nd waveguide layer 19 by a 2nd grating 32 to reach a 3rd photodetection part 43.
    ＣＤ用の波長７８０ｎｍの光ビームは第４グレーティング３４、第３導波層２２、第３グレーティング３３を経て情報記録媒体に照射され、反射された光ビームが第２グレーティング３２により第２導波層１９に入力結合されて第３受光部４３に達する。 - 特許庁
  • The carbon black included in the ink used for the area 2a has a particle diameter of 30 nm or less and an oil absorption amount of 100 to 120 cm^3/100 g, and the difference in spectral reflection factors between the areas 2a and 2b is within 10% in a visible light area.
    第２ａの領域に使用するインキに含まれるカーボンブラックは、粒子径が３０ｎｍ以下で吸油量が１００〜１２０ｃｍ^3/１００ｇであり、第２ａの領域と第２ｂの領域とは、可視光領域での分光反射率の差が１０％以内であること。 - 特許庁
  • When a protective film 7 for protecting the magnetic film 6 of a magnetic recording medium is made of diamond-like carbon (DLC) mainly containing carbon, a multilayer stacked film structure is made in which the DLC layer of high hardness and the DLC layer of low hardness are stacked alternately at a film thickness cycle of 0.3 to 1.5 nm.
    磁気記録媒体の磁性膜６を保護する保護膜７を炭素を主成分とするダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）で形成する際に、硬度の高いＤＬＣ層と低いＤＬＣ層とを交互に膜厚周期０．３〜１．５ｎｍで積層した多層積層膜構造とする。 - 特許庁
  • To provide a crystallized glass holding the characteristic of high stiffness (>130 GPa) suitable as a substrate for an information recording medium such as a magnetic recording medium and having excellent characteristics such as high surface smoothness and high surface flatness having a surface roughness Ra suppressed to ≤0.5 nm.
    磁気記録媒体等の情報記録媒体用の基板として適した高剛性（＞130GＰa）の特性を維持する結晶化ガラスであって、高表面平滑性及び高平坦性など性能に優れた、即ち、表面粗さをRaで0.5nm以下に抑えられる結晶化ガラスを提供すること。 - 特許庁
  • To provide an optical recording device capable of controlling a recording condition according to an optical characteristic of an optical recording medium in which Low to High-recording is performed by using a DVD laser wavelength (640 to 680 nm) and to provide a preparing system of a write-once optical recording medium with a content recorded thereon.
    ＤＶＤレーザー波長（６４０〜６８０ｎｍ）でＬｏｗ ｔｏ Ｈｉｇｈ記録がなされる光記録媒体について、その光学特性に応じた記録条件の制御を可能とする光記録装置、及びコンテンツ記録済み追記型光記録媒体の作成システムの提供。 - 特許庁
  • Further, the hard coat layer has no adhesive layer between the base material film and the hard coat layer and is characterized in that the average undulation amplitude of the reflectivity on the hard coat layer side of the base material film is in the wavelength of 400-600 nm 1.0% or below and the haze on the hard coat layer side is 1.5% or below.
    更には、基材フィルムとハードコート層に接着層が介在しないハードコートフィルム及び、波長４００〜６００ｎｍにおけるハードコート層側の反射率の平均うねり振幅が１．０％以下であり、かつヘイズが１．５％以下であるハードコートフィルムである。 - 特許庁
  • This resin composition for laser marking is obtained by including triiron tetraoxide having 1-100 nm mean particle diameter in an amount of 0.01-0.5 pt.wt. and other colorant in an amount of 0.5-10 pts.wt. based on the 100 pts.wt. of a thermoplastic resin containing a rubber-containing graft copolymer and a vinyl cyanide-based copolymer.
    ゴム含有グラフト共重合体、シアン化ビニル系共重合体を含む熱可塑性樹脂１００重量部に対し、平均粒子径が１〜１００ｎｍの四酸化三鉄０．０１〜０．５重量部、及び、その他の着色剤０．５〜１０重量部を含有させてなるレーザーマーキング用樹脂組成物。 - 特許庁
  • The unvulcanized rubber composition comprises 5-15 pts.wt. of a thermoplastic novolak type phenol resin, 1-10 pts.wt. of an amine-based anti-aging agent, 1-5 parts wt. of an amine-based vulcanization accelerator and 30-80 pts.wt. of carbon having 26-500 nm particle diameter based on 100 pts.wt. of diene-based rubber.
    ジエン系ゴム１００重量部に対して、熱可塑性ノボラック型フェノール樹脂５〜１５重量部、アミン系老化防止剤１〜１０重量部、アミン系加硫促進剤１〜５重量部、および、粒子径が２６〜５００ｎｍのカーボン３０〜８０重量部含むことを特徴とする未加硫ゴム組成物。 - 特許庁
  • The surface of the protective film on the mold is polished with chemical-mechanical polishing using abrasives containing abrasive grains having a particle size of 0.005 μm-0.3 μm to finish the surface of the protective film to a roughness (Ra) of 2 nm or less, thereby forming a mold with no defects and having a dead-smooth surface.
    金型上の保護膜の表面を、粒径０．００５μｍ〜０．３μｍの砥粒を含む研磨剤を使用した化学的機械研磨を用いて研磨し、保護膜の表面の粗さ（Ｒａ）を２ｎｍ以下に仕上げることにより、欠陥がなく、超平滑平面を有した金型を形成する。 - 特許庁
  • The light source part 3 of pseudo-sunlight irradiates the whole of the inside of a plastic greenhouse H1 with pseudo-sunlight not including a wavelength component of 400-500 nm in the action time zone and the attraction light source part 4 irradiates a part of the inside of the plastic greenhouse H1 with attraction light in the action time zone.
    擬似太陽光源部３は上記動作時間帯に、４００〜５００ｎｍの波長成分を含まない擬似太陽光をビニルハウスＨ１内全体に照射し、誘引光源部４は上記動作時間帯に誘引光をビニルハウスＨ１内の一部に照射する。 - 特許庁
  • By depositing a side wall material containing phosphor such as PSG by approximately 20% on the side surface of an opening by several 10-100 nm, and performing etchback, side walls 15a and 15b containing phosphor are formed while they are adjacent to the side walls 10a and 10b containing boron, respectively.
    開口部の側面に、ＰＳＧ等のリンを１〜２０％程度含むサイドウォール材料を数１０〜１００ｎｍの膜厚で堆積し、エッチバックを施すことにより、ボロン含有サイドウォール１０ａ，１０ｂそれぞれに隣接してリン含有サイドウォール１５ａ，１５ｂを形成する。 - 特許庁
  • An n-type silicon substrate is irradiated with nanosecond pulse lasers at the same time from two geometrically symmetric directions to cause the interference of beams and a cyclic groove structure of a submicron order (100 nm-1 μm) is formed on the surface of the substrate to adsorb surface modifying molecules on the surface of the substrate.
    ｎ−型シリコン基板に幾何学的に対象な２方向からナノ秒パルスレーザーを同時に照射して、光の干渉を生じさせ、該基板表面にサブミクロンオーダ（１００ｎｍ〜１μｍ）の周期的溝構造を形成し、該表面上に、表面修飾分子を吸着させる。 - 特許庁
  • This ink composition for ink-jet recording is characterized by comprising at least a dispersion enabling the dispersing of a pigment in water, and two or more different kinds of polymer fine particles, wherein the particles of the dispersion have an average particle diameter of 50 to 300 nm.
    顔料を水に分散可能とした分散体と、異なる二種類以上の高分子微粒子とを少なくとも含んでなる、インクジェット記録用インク組成物であって、前記分散体の平均粒径の粒径が５０〜３００ｎｍであることを特徴とするインクジェット記録用インク組成物。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming material which has a nearly uniform sensitivity distribution to exposure light having a wavelength of 400-410 nm, excels in pattern reproducibility, suppresses variation in pattern profile, and can be handled in a daylight environment, and also to provide a pattern forming apparatus and a pattern forming method.
    ４００〜４１０ｎｍの波長の露光光に対する感度分布が略一定で、パターン再現性に優れ、パターン形状のバラツキが極めて抑制され、明室環境下の取り扱いが可能なパターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
  • In this method of fabricating a copper damascene structure, an organic insulation film in the thickness of 1 to 100 nm is provided between an inorganic system insulation film and copper diffusion preventing layer, at the time of chemically and mechanically grinding the inorganic system insulation film formed on the copper diffusion preventing layer.
    銅ダマシン構造の製造において、銅拡散防止層上に形成された無機系絶縁膜を化学的機械的研磨する際に、無機系絶縁膜と銅拡散防止層との間に厚さ１〜１００ｎｍの有機系絶縁膜を存在させることを特徴とする銅ダマシン構造の製造方法。 - 特許庁
  • The structure for clarifying diesel exhaust gas is provided with: a coagulation consisting of a silver particle to be used as a core and a ceria fine particle which is used for covering the silver particle and has 1-100 nm average primary particle diameter; a NOx absorbing material; and one or more noble metals containing rhodium at the least.
    核となる銀粒子、及び前記銀粒子の周囲を覆っている平均一次粒径が１〜１００ｎｍのセリア微粒子からなる凝集体と、ＮＯｘ吸収材と、少なくともロジウムを含む１種以上の貴金属とを備えることを特徴とするディーゼル排ガス浄化用構造体。 - 特許庁
  • To provide copper fine particles having a fine particle diameter of ≤100 nm in which uniformity is extremely high, and having excellent dispersibility and oxidation resistance, to provide a method for producing the same by applying a polyol process as a liquid phase method suitable for mass production, and to provide a dispersion liquid comprising the copper fine particles.
    大量生産に適した液相法であるポリオール法を応用し、粒径が１００ｎｍ以下と微細で且つその均一性が極めて高く、分散性及び耐酸化性に優れた銅微粒子とその製造方法、及びその銅微粒子を含む分散液を提供する。 - 特許庁
  • The flexible coating film comprises: at least one polymer selected from the group consisting of a cellulose-based resin, a polyolefin resin, a polyester resin, a polyvinyl chloride resin, a polystyrene-based resin, an acrylic resin, a polycarbonate resin, a polyurethane resin, and an ABS resin; and fine particles having a particle diameter of 1 to 300 nm.
    軟質塗膜は、セルロース系樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂及びＡＢＳ樹脂から成る群から選ばれる少なくとも１種のポリマーと粒径１〜３００ｎｍの微粒子とを含む。 - 特許庁
  • This oily-liquid lip cosmetic is prepared by blending (A) dextrin palmitate/2-ethylhexanoate having a substitution degree of <2.0, (B) an oily tetraester from pentaerythritol and a 14-22C branched fatty acid and (C) silicic acid anhydride having a mean particle diameter of <50 nm.
    次の成分（Ａ）〜（Ｃ） ； （Ａ）アシル置換度２．０未満のパルミチン酸／２−エチルヘキサン酸デキストリン、 （Ｂ）ペンタエリスリトールと炭素数１４〜２２の分岐脂肪酸とのテトラエステル油、 （Ｃ）平均粒子経が５０ｎｍ未満の無水珪酸、を配合することを特徴とする液状油性口唇化粧料。 - 特許庁
  • The inkjet aqueous ink composition comprises (a) a coloring material to be selected from dyes and (b) a water dispersion polyester resin having a weight average molecular weight of ≤30,000, a hydroxy number of ≤13, and an acid value of ≤20, and a particle diameter of ≤200 nm.
    （ａ）染料から選択される色材、および（ｂ）重量平均分子量が３００００以下であり、水酸基価が１３以下、酸価が２０以下、粒子径が２００ｎｍ以下である水分散ポリエステル樹脂を含むことを特徴とするインクジェット用水性インク組成物により、上記の課題を解決する。 - 特許庁
  • This agent is for the high-refractive index layer formable antireflection film containing 100 pts.wt. energy ray polymerizable material and an organic solvent dispersion type colloidal titanium oxide of 5 to 100 nm in average particle size at 5 to 300 pts.wt. in terms of TiO2 of the weight of this energy ray polymerizable material.
    エネルギー線重合性材料１００重量部、および該エネルギー線重合性材料に対してＴｉＯ_２換算で５〜３００重量部の平均粒子径５〜１００ｎｍの有機溶剤分散型コロイダル酸化チタンを含有する高屈折率層形成性の反射防止膜用剤である。 - 特許庁
  • To provide a carbon material comprising foil-shaped crystal pieces with a crystal thickness (Lc) of ≤10 nm capable of obtaining high electrical conductivity, packing properties, light shielding properties or the like when being used for an electroconductive coating material, an electric wave absorber, a light shielding material or the like, and to provide its production method.
    導電性の塗料、電波吸収材、遮光材料等に用いた際に、高い導電性、充填性や遮光性等が得られる結晶の厚さ（Ｌｃ）が１０ｎｍ以下の箔片状結晶片を含有する炭素材料及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The oxygen-containing copper film 2 has a film thickness of 5 nm or more and contains 5-20 at.% of oxygen and total 0.2-8 at.% of one or two kinds of elements selected from among a group consisting of Mo, Mn, Ca, Zn, Ni, Ti, Al, Mg and Fe, also balance copper with unavoidable impurities.
    酸素含有銅膜２は、酸素を５〜２０ａｔ％、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ａｌ、ＭｇおよびＦｅのうちの１種又は２種以上を合計で０．２〜８ａｔ％それぞれ含有するとともに、残部を銅および不可避不純物からなる膜厚５ｎｍ以上のものとした。 - 特許庁
  • The magnetic nanoparticles for use in a thermotherapy of tumor is such that the surface of magnetic nanoparticles 1-100 nm in average size is coated with a compound having aggregation-inhibitory effect, and an antibody bindable selectively to cancer cells is bound to the compound.
    平均粒子径１〜１００ｎｍの磁性体ナノ粒子の表面を、凝集抑制作用を有する化合物で被覆し、さらに癌細胞と選択的に結合する抗体が該化合物に結合していることを特徴とする、腫瘍の温熱療法に使用するための磁性体ナノ粒子。 - 特許庁
  • The carbon nanotube contains 1-10 wt.% hetero elements in average, has an outer diameter of 1-300 nm and has a composition wherein the hetero element concentration in its inner or outer wall is ≥1.2- or ≤0.8-fold larger than the average.
    カーボンナノチューブおいて、全体平均で１〜１０重量％のヘテロ元素を含み、外径が１〜３００ｎｍであり、該カーボンナノチューブの組成について、内壁または外壁のいずれかのヘテロ元素濃度が、前記平均値に対し１．２倍以上または０．８倍以下であることを特徴とするカーボンナノチューブ。 - 特許庁
  • The photochemical welding method where a material is joined, without heat, by bringing it into contact with a desired material to be joined in a step to photochemically convert a compound containing an Si-O-Si bond to silica glass using a vacuum ultraviolet F_2 laser (wavelength of 157 nm) is provided.
    本発明では、真空紫外Ｆ_２レーザー（波長１５７ｎｍ）により、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む化合物を光化学的にシリカガラスに改質する過程において、所望の被接合材料を接触させておくことにより、非熱的に材料を接合させる光化学的溶接を行う。 - 特許庁
  • In this insect catcher 1, the attracting light source device 3 is received in the case body 2 and insects are attracted with the light from the attracting light source device 3 wherein the attracting light source device is constituted with an ultraviolet luminescent diode 34 having the peak wavelength between 355 to 380 nm.
    ケース体２に誘引光源装置３を収容し、前記誘引光源装置３の光によって昆虫を誘引し捕獲する昆虫捕獲器１であって、波長３５５ｎｍ〜３８０ｎｍの間にピーク波長を有する紫外線発光ダイオード３４で前記誘引光源装置を構成した。 - 特許庁
  • The fiber assembly has a polymer having anionic leaving groups as a constituent component of the fiber, and has the chitosan present on the surface of the fiber assembly by forming a polyion pair with the anionic leaving groups, and the average fiber diameter of 20 nm-2 μm.
    アニオン性解離基を有するポリマーを繊維の構成成分とする繊維集合体であって、キトサンがアニオン性解離基とポリイオン対を形成して該繊維集合体の表面に存在し、該繊維の平均繊維径が２０ｎｍ〜２μｍであることを特徴とするキトサン繊維集合体。 - 特許庁
  • An EOM (electro optic modulator) 15, a photodetector (PD) 16 and a light output control part (APC (auto power controller)) 17 make exposure per unit area of a laser beam emitted from a laser source 14 for oscillating a recording laser beam of quartic harmonic (λ=266 nm) of a YAG laser to be constant.
    ＹＡＧレーザの４次高調波（λ＝２６６ｎｍ）の記録用レーザ光を発振するレーザ源１４から出射されたレーザ光は、ＥＯＭ１５と光検出器（ＰＤ）１６と光出力制御部（ＡＰＣ)１７によって、単位面積あたりの露光量が一定とされる。 - 特許庁
  • The rubber composition contains with respect to 100 pts.wt. of a diene rubber 5-100 pts.wt. of a silica having a 50-300 m^2/g BET specific surface area, a 5-11 groups/nm^2 silanol group amount per unit surface area, and 4.5-6.0 pH measured by the JIS K6220 B method.
    ジエン系ゴム１００重量部に対し、ＢＥＴ比表面積が５０〜３００ｍ^２／ｇ、単位表面積当たりのシラノール基量が５〜１１個／ｎｍ^２であり、かつ、ＪＩＳ Ｋ６２２０のＢ法で測定されるｐＨが４．５〜６．０であるシリカを５〜１００重量部含有するゴム組成物である。 - 特許庁
  • A protective film comprising a resin composition containing an organic resin of which the elastic modulus at 100°C is 500-1,000 N/cm2 and 5-70 weight % of anatase type TiO2 particles with a particle size of 200 nm or less is formed on the surface of a metal panel in a thickness of 0.2-10 μm.
    １００℃における弾性率が５００〜１００００Ｎ／ｃｍ^2である有機樹脂および粒径が２００ｎｍ以下のアナタ−ゼ型ＴｉＯ_2粒子を含有し、ＴｉＯ_2粒子が５〜７０重量％である樹脂組成物の保護皮膜を金属板表面に０.２〜１０μｍ形成する。 - 特許庁
  • When at least one of a plurality of nitride semiconductor layers is grown epitaxially, a protruding and recessed surface having a level difference of 50 nm or larger is formed on the surface of the nitride semiconductor layer which is formed at the topmost part, while setting the mol ratio in supply of group-V material and group-III material to be 1,000 or smaller.
    複数の窒化物半導体層の少なくとも１層をエピタキシャル成長させる際に、Ｖ族原料とＩＩＩ族原料の供給量のモル比を１０００以下として、最上部に形成された窒化物半導体層の表面に段差が５０ｎｍ以上の凹凸面を形成する。 - 特許庁
  • In the magnetic recording medium having a non-magnetic layer containing non-magnetic powder and a binder and a magnetic layer containing ferromagnetic powder and a binder in this order on a non-magnetic substrate, the scratching depth of the surface of the magnetic layer by a diamond needle is specified to be 200 to 300 nm.
    非磁性支持体上に非磁性粉末及び結合剤を含む非磁性層と強磁性粉末及び結合剤を含む磁性層とをこの順に有する磁気記録媒体において、前記磁性層表面のダイヤモンド針による引っ掻き深さを２００〜３００ｎｍとする。 - 特許庁
  • In the method by which the SOI wafer is manufactured by forming an insulating layer on at least either one of two wafers which become raw wafers and sticking the wafers together without using any adhesive, the PV value of the surface of the insulating layer is adjusted to ≤1.5 nm.
    原料ウエーハとなる２枚のウエーハのうち、少なくとも一方のウエーハに絶縁層を形成し、該一方のウエーハと他方のウエーハとを接着剤を用いずに貼り合わせるＳＯＩウエーハの製造方法において、該絶縁層の表面のＰＶ値が１．５ｎｍ以下であるようにした。 - 特許庁
  • The adhesion layer and the seed layer comprise at least one element selected from the group consisting of Fe, Ni, Co, Cr, Ti, W, and Mo and further comprise at least one element selected from the group consisting of B, Si, P, C, Zr, Nb, and Ta and respectively have 3 to 50 nm film thickness.
    密着層およびシード層はＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｏからなる群から選択される少なくとも一元素を含み、さらに、Ｂ、Ｓｉ、Ｐ、Ｃ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａからなる群から選択される少なくとも一元素を含んで構成し、各々３ｎｍ〜５０ｎｍの膜厚とする。 - 特許庁
  • The image recording medium has on a substrate an image recording layer which contains a compound producing the change in the density in an absorption zone of 360-900 nm under the action of heat or an acid and contains no silver salt and a protective layer which has a coating amount of binder of 3 g or more per 1 m2.
    支持体上に、熱または酸の作用により３６０〜９００ｎｍの吸収域に濃度変化を生じる化合物を含有し、かつ銀塩を含まない画像記録層と、バインダー塗布量が１m^2あたり３ｇ以上保護層とを有する画像記録媒体。 - 特許庁
  • In the inkjet recording medium having one or more ink receiving layers on at least one surface of a substrate, at least the top-most surface layer of the ink receiving layer contains silica having the average particle size of primary particles of 100 nm or less, and the surface pH of the top-most layer is adjusted to 8 or more.
    基材の少なくとも片面に１層以上のインク受容層を有する構成のインクジェット記録媒体において、該インク受容層の少なくとも最表層に、一次粒子の平均粒子径１００ｎｍ以下のシリカを含有させ、且つ該最表層の表面ｐＨを８以上に調整する。 - 特許庁
  • A substrate with a surface roughness Ra of 0.3 nm or less is used as a non-magnetic glass substrate for the magnetic recording medium 1, a magnetic recording layer 5 of granular structure formed on the substrate uses Ta_2O_5 having a Gibbs free energy value of -800 kj/mol or more is used as an oxide material for CoCrPt alloy.
    磁気記録媒体１の非磁性ガラス基板として表面粗さＲａが０．３ｎｍ以下のものを用い、その上に形成されるグラニュラー構造の磁気記録層５を、ＣｏＣｒＰｔ合金に、酸化物材料としてギブス自由エネルギーの値が−８００ｋＪ／ｍｏｌより大きなＴａ_2Ｏ_5を用いた。 - 特許庁
  • Ni-P alloy plating 16 in which a P content is 6.80-8.50 mass%, a surface roughness Rz is ≤4.6 μm, and preferably a thickness of an oxide layer on a surface thereof is ≤10 nm, is formed on a surface of a metal plate 12 joined to a ceramic substrate 10.
    セラミックス基板１０に接合した金属板１２の表面に、Ｐ含有量が６．８０〜８．５０質量％であるとともに表面粗さＲｚが４．６μｍ以下であり、好ましくは表面の酸化物層の厚さが１０ｎｍ以下のＮｉ−Ｐ合金めっき１６を形成する。 - 特許庁
  • In the rubber latex, the main component (designated as component A) has a particle size of ≥500 nm and a glass transition temperature of ≤-20°C and accounts for 70 to 95(%) of the total rubber latex, and the secondary component (designated as component B) has a glass transition temperature of ≥20°C.
    ゴム系ラテックスは、その主成分（成分Ａと呼ぶ）の粒子径が５００ナノメーター以上で且つそのガラス転移温度が−２０℃以下であり、そして、その副成分（成分Ｂと呼ぶ）のガラス転移温度が２０℃以上であり、また、全ゴムラテックス中に占める主成分の割合は７０〜９５（％）である。 - 特許庁
  • The heteropoly acid salt catalyst is one consisting mainly of heteropoly acid salt crystals having an average particle diameter of 300 nm or smaller and is used in the alkylation of an aromatic compound and the transalkylation, disproportionation, or isomerization of an alkylaromatic compound.
    下式（１）で表され、平均粒子径が３００ｎｍ以下であるヘテロポリ酸塩結晶を主成分とするヘテロポリ酸塩触媒であって、芳香族化合物のアルキル化又はアルキル芳香族化合物のトランスアルキル化、不均化若しくは異性化反応に用いるヘテロポリ酸塩触媒。 - 特許庁
  • The method of forming the resist patterns includes selectively exposing resist films formed on a substrate and having a film thickness of ≤50 nm and developing the resist film by using a developing agent for forming the resist patterns being tetra-methyl ammonium hydroxide aqueous solution having concentration of ≤1.2 mass%.
    基板上に形成された、その膜厚が５０ｎｍ以下であるレジスト膜を選択的に露光するとともに、その濃度が１．２質量％以下のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液であるレジストパターン形成用現像液を用いて現像することを含むレジストパターン形成方法である。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing an inorganic carrier which is used as the carrier of a hydrocarbon oil hydrogenating catalyst having high hydrogenating activity and has 7-100 nm characteristic micropores and to provide a method for manufacturing the hydrocarbon oil hydrogenating catalyst by using the inorganic carrier.
    高い水素化処理活性を有する炭化水素油水素化処理触媒用担体として用いられる、７〜１００ｎｍの特徴的な細孔を有する無機担体の製造方法、及びこれを担体に用いた炭化水素油水素化処理用触媒の製造方法の提供を課題とする。 - 特許庁
  • There is provided an ITO application liquid including ITO particulates and an organic solvent, which is characterized in that the organic solvent of ≥50% by mass is ethylene glycol or diethylene glycol, or mixture of them, and an average particle diameter of the ITO particulates is ≤200 nm.
    ＩＴＯ微粒子と、有機溶媒とを含むＩＴＯ塗布液であって、前記有機溶媒の５０質量％以上が、エチレングリコール、または、ジエチレングリコール、またはそれらの混合物であり、前記ＩＴＯ微粒子の平均粒径が２００ｎｍ以下であることを特徴とするＩＴＯ塗布液を提供する。 - 特許庁
  • The particulate for catalysts having metal particulate carried on crystalline carbon particles is characterized in that the average particle size of the particulate for catalysts is in a range of 5 nm-10 μm and the amount to be carried of the metal particulate in the particulate for catalysts is in a range of 1-50 wt.%.
    結晶性炭素粒子に金属微粒子が担持された触媒用微粒子であって、該触媒用微粒子の平均粒子径が５ｎｍ〜１０μｍの範囲にあり、触媒用微粒子中の金属微粒子の担持量が金属として１〜５０重量％の範囲にある。 - 特許庁
  • The photosetting composition contains a coloring agent, an alkali-soluble resin, a photosensitive polymer component and a photopolymerization initiator, wherein the photopolymerization initiator has ≥25,000 molar extinction coefficient (ε) in the wavelength region of 280 to 310 nm.
    着色剤、アルカリ可溶性樹脂、感光性重合成分、光重合開始剤を含む光硬化性組成物において、２８０〜３１０ｎｍの波長領域のいずれかでのモル吸光係数（ε）が２５０００以上である該光重合開始剤を含有することを特徴とする光硬化性組成物。 - 特許庁
  • To provide an aqueous composition of polymer nanoparticles (PNP) with a average diameter of 1-50 nanometer (nm) including an aqueous dispersion containing at least one polyethylenic unsaturated monomer and at least one water-soluble monomer as polymerizing units.
    １〜５０ナノメートル（ｎｍ）の平均直径を有するポリマーナノ粒子（ＰＮＰ）であって、この粒子が少なくとも１つの多エチレン性不飽和モノマーと少なくとも１つの水溶性モノマーを重合単位として包含する水性分散液を包含する水性組成物を提供する。 - 特許庁
  • The polyester composition is obtained by dispersing polyhedral origometric silsesquioxane (POSS) having ≤500 nm average disperse diameter into a polyester composed of a bifunctional acid component consisting mainly of a dicarboxylic acid and at least one kind of glycol component.
    ジカルボン酸を主とする二官能性酸成分と少なくとも一種のグリコール成分よりなるポリエステルに、ポリヘドラルオリゴメトリックシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）が分散してなり、かつポリヘドラルオリゴメトリックシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）の平均分散径が５００ｎｍ以下であることを特徴とするポリエステル組成物。 - 特許庁
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