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＜前へ 1 2 .... 234 235 236 237 238 239 240 241 242 .... 287 288 次へ＞- In this case, the refractive index of the scintillator crystal 2 is not less than 1.8 and the peak wavelength of the scintillation light 6 is not more than 400 nm, and the space between the scintillator crystal 2 and the photodetector 5 is filled with a first light wavelength conversion layer 4, having a refractive index of not less than 1.62.
ただし、シンチレータ結晶２は屈折率が１．８以上でシンチレーション光６のピーク波長が４００ｎｍ以下であり、このシンチレータ結晶２と光検出器５との間隙には屈折率が１．６２以上の第一光波長変換層４が充填されている。 - 特許庁 - The composite of porous carbon and the metal nano-fine particles is constituted by supporting the metal nano-fine particles on porous carbon having the sharp pore size distribution wherein the diameters of pores, which are 90% or above with respect to the total pore volume, belong to the range of a distribution width of 6 nm in the pore size distribution.
細孔径分布における分布幅６ｎｍの範囲に、全細孔容積の９０％以上の細孔の径が属する、シャープな細孔径分布を有する多孔質炭素に、金属ナノ微粒子が担持されていることを特徴とする多孔質炭素と金属ナノ微粒子の複合体とする。 - 特許庁 - In the container 1 for storing immersion exposure liquid, variation in absorbance of liquid at 193.4 nm is below 0.01/cm when the liquid is stored for 30 days, and the number of contaminants of 0.15 μm or more in the liquid is less than 100 pieces/10 ml.
容器１は、液浸露光用液体を貯蔵する容器であって、３０日間液体を貯蔵した場合の液体の１９３．４ｎｍにおける吸光度変化が０．０１／ｃｍ以下であり、液体に含まれる０．１５μｍ以上の異物の数が１００個／１０ｍｌ未満である容器である。 - 特許庁 - It is preferable that the aggregate 2 is crushed stone, that the aggregate 2 has single grain size distribution, that the grain diameter of the aggregate 2 is 10-50 nm, that the aggregate 2 is stored at 80-95 vol.% in the bag body 3 and that the bag body 3 is made of synthetic resin.
本発明においては、骨材２が砕石である態様、骨材２が単粒度分布を有する態様、骨材２の粒径が１０〜５０ｍｍである態様、骨材２が、袋体３に８０〜９５容量％収容される態様、袋体３が合成樹脂製である態様、などが好ましい。 - 特許庁 - The paint for forming the semiconductor film contains a porous titanium oxide particulate aggregate of which the average particle size is in the range 0.5-10 μm and the pore volume is in the range 0.1-0.8 ml/g and a non-aggregate titanium oxide particulate of which the average particle size is in the range 5-400 nm.
半導体膜形成用塗料は、平均粒子径が０．５〜１０μｍの範囲にあり、細孔容積が０．１〜０．８ｍｌ／ｇの範囲にある多孔質酸化チタン微粒子集合体と、平均粒子径が５〜４００ｎｍの範囲にある非集合体酸化チタン微粒子とを含んでいる。 - 特許庁 - The flash lamp whose supply energy per pulse of flash pulses with spectral characteristics including a wavelength region of 300 nm or less is set to 0.5-20 J and number of flash pulses per second is set to 10-400 is moved to approach to the object to be sterilized and irradiate the object to be sterilized with flash pulses.
３００nm以下の波長域を含む分光特性の閃光パルスの１パルス当たりの供給エネルギーを０．５〜２０Ｊとし、１秒当たりの閃光パルス数を１０〜４００箇とし、フラッシュランプを移動させて被殺菌対象物に近づけ閃光パルスを被殺菌対象物に照射する。 - 特許庁 - For this organic photoreceptor having at least a photosensitive layer on a conductive support, the surface layer of this organic photoreceptor has a hydrophobicity of 50 or higher, a hydrophobicity distribution of 25 or lower, and an average primary particle size of 3-150 nm.
導電性支持体上に少なくとも感光層を有する有機感光体において、該有機感光体の表面層が、疎水化度が５０以上、疎水化度分布値が２５以下であり且つ数平均一次粒径が３〜１５０ｎｍの無機粒子を含有することを特徴とする有機感光体。 - 特許庁 - When the material 1 is mixed with a coating film consisting essentially of zinc oxide (ZnO), the rate of blocking the ultraviolet rays of ≤400 nm wave length can be heightened to make it unnecessary that the thickness of the film is thickened unnecessarily to heighten the rate for blocking the ultraviolet rays, and to enable the production cost to be reduced.
この材料１を酸化亜鉛（ＺｎＯ）が主成分である被膜に混合すれば、波長４００ｎｍ以下の紫外線カット率を高くすることが可能となり、紫外線カット率を高めるために不必要に膜厚を大きくする必要が無いので製造コストを抑えることが可能となる。 - 特許庁 - To produce steel in which the generation of the change of the structure in which the size of crystal grains different from a mother phase whitely shown by an optical microscope is refined to several tens nm is suppressed in case hardening steel and having an excellent life, particularly, an excellent rolling life even under high vibration and high loads and to provide a method for producing it.
肌焼鋼において光学顕微鏡で白く見える母相と異なった結晶粒の大きさが数１０ｎｍに微細化した組織変化の発生を抑制し、高振動・高荷重下でも優れた寿命、特に転動寿命を有する鋼およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive-type resist composition which is usable for forming patterns by using a high-energy ray having a wave length of 300 nm or shorter or an electron beam and can solve a problem of the occurrence of pattern exfoliation or pattern falling-down due to the penetration of a developing solution into an interface between the resist film and a substrate.
３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成する際に使用できるレジスト組成物であって、レジスト膜と基板との界面に現像液が入り込み、パターンはがれやパターン倒れが生じるという問題を解決する。 - 特許庁 - This carbon black dispersion is one removed of electricity, wherein a spin-spin relaxation time (T_2) is ≤200 ms when measured at 35°C by CPMG method, and a number average particle size of the carbon black in the dispersion is ranged within 5-250 nm.
本発明のカーボンブラック分散液は、帯電除去したカーボンブラック分散液であって、ＣＰＭＧ法により温度３５℃で測定したスピン−スピン緩和時間（Ｔ_２）が２００ｍｓ以下、分散液中のカーボンブラックの数平均粒子径が５〜２５０ｎｍの範囲であることを特徴とする。 - 特許庁 - To make a protective layer 4 that is superior in durability, especially LUL resistance characteristics even when the film thickness of the protective layer 4 is ≤5 nm, in a method for manufacturing a magnetic disk 10, in which a magnetic layer 3 is formed on a nonmagnetic substrate 1 and the protective layer 4 is formed on the magnetic layer 3.
非磁性基板１上に磁性層３を有しこの磁性層３上に保護層４を有する磁気ディスク１０の製造方法において、保護層４の膜厚を５ｎｍ以下とした場合においても、この保護層４の耐久性、特に、耐ＬＵＬ特性を優れたものとする。 - 特許庁 - Moreover, the semiconductor epitaxial wafer is a semiconductor epitaxial wafer for light-receiving element for receiving electromagnetic waves of a wavelength of 1.8 μm or longer and 3.0 μm or shorter, and the centerline mean roughness Ra measured in the range of a length of 50 to 200 μm on the uppermost surface of the epitaxial layer of the semiconductor epitaxial wafer is 6 nm or lower.
また、半導体エピタキシャルウェハは、波長が１．８μｍ以上３．０μｍ以下の電磁波を受信する受光素子用の半導体エピタキシャルウェハであって、エピタキシャル層の最表面で、長さ５０〜２００μｍの範囲において測定した中心線平均粗さＲａが６ｎｍ以下である。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resist for making up a plate which does not generate an erroneous actuation in an autofocus mechanism based on double reflection between reflection from the surface of a photosensitive film and reflection passing and returning through the photosensitive film of a laser with a wave length of 670 nm for measuring a distance between a roll to be made up and a semiconductor laser head.
被製版ロールと半導体レーザヘッドとの間の距離測定用の６７０ｎｍの波長のレーザの、感光膜の表面での反射と感光膜内を通過し戻ってくる反射との二重反射によるオートフォーカス機構を誤作動が生じない製版用感光性レジスト。 - 特許庁 - The sanitary insect pest repellent is obtained by allowing crystalline fine particles of titanium oxide having an average particle diameter within the range of 2-500 nm to contain at least one element selected from group VIIA, VIII, IB and IIB elements and boron within the range of 0.1-20 wt.% expressed in terms of oxides as a repellent component.
平均粒子径が２〜５００ｎｍの範囲にある結晶性酸化チタン微粒子に、忌避成分として周期律表 VIIＡ、VIII、ＩＢ、IIＢ族およびホウ素から選ばれた少なくとも１種の元素成分を酸化物として０．１〜２０重量％の範囲で含有する。 - 特許庁 - In order to make a part of the 2 film (oxide film) 3 at the upper part of the drain regain be about 10 nm in thickness, it is etched by RIE(reactive ion etching, etc.), in a mixed gas of CS4, Ar, and CHF3, to form a tunnel gate oxide film 10.
次に、ドレイン領域の上部のＳｉＯ_2膜（酸化膜）３の一部を、約１０ｎｍ厚にするため、ＲＩＥ（反応性イオンエッチングなど）によりＣＦ_4、ＡｒおよびＣＨＦ_3の混合ガスをでＳｉＯ_2膜（酸化膜）３の一部をエッチングし、トンネルゲート酸化膜１０を形成する。 - 特許庁 - To enable the micronization of a sparingly water-soluble drug to a size of 100 nm or smaller and its noncrystallization, both of which have so far been regarded as being difficult to accomplish, in an extremely short time and easily at low cost, thus improving the absorbability of the drug into human body after administered and stabilizing the resultant noncrystalline drug.
従来困難とされてきた、難水溶性薬物の１００ｎｍ以下の微粒子化と非晶質化を、極めて短時間且つ容易に低コストで可能として、投与後の人体に対する薬物の吸収性を向上させると共に、非晶質薬物を安定化する。 - 特許庁 - An n-type TFT 34 to be turned on-off according to a picture data signal DAT written to a data holding node Nm, and an n-type TFT 35 to be turned on in response to activation of a set line 6 are connected in series across one driving potential supply line 10 and a pixel electrode Npx.
データ保持ノードＮｍに書込まれた画像データ信号ＤＡＴに応じてオン・オフするｎ型ＴＦＴ３４と、セット線６の活性化に応答してオンするｎ型ＴＦＴ３５とは、一方の駆動電位供給線１０および画素電極Ｎｐｘの間に直列に接続される。 - 特許庁 - In the magnetic recording medium in which a recording layer of high coercive force is formed on a non-magnetic substrate with a flat surface, the medium is rotated on a spindle at a constant speed, and the surface of the magnetic recording medium is irradiated with a laser of a spot size of ≤500 nm to be locally annealed.
表面が平坦な非磁性基板上に高保磁力の記録層を形成した磁気記録媒体において、スピンドル上で媒体を一定速度で回転させ、スポットサイズ５００nm以下のレーザーを前記磁気記録媒体の表面に照射し、局所的にアニールする。 - 特許庁 - To provide a photosensitive lithographic printing plate material suitable for exposure with laser light of which the emission wavelength is especially in a range of 350-450 nm, having high sensitivity and excellent storage stability, less liable to generate sludge in development, and giving a lithographic printing plate which ensures less ink stain of a non-image area in printing.
特に発光波長が３５０ｎｍから４５０ｎｍの範囲にあるレーザー光での露光に適し、高感度で保存性に優れ、現像時のスラッジが発生し難く、印刷時に非画像部のインキ汚れが少ない平版印刷版を与える感光性平版印刷版材料を提供する。 - 特許庁 - The light-accumulating phosphor emits a light with an emission intensity of 100-2,300 mcd/m^2 after irradiation for 1 min, gives perceptible after-glow for at least 10 hr, exhibits light-emitting characteristics of having a peak within the range of 440 to 510 nm and is neutral in water.
本蓄光性蛍光体は、１分間の照射後、発光強度１００ないし２３００ｍｃｄ／ｍ^２で発光し、１０時間以上残光が確認でき、４４０ｎｍないし５１０ｎｍにピークを有する発光特性を有し、水中においては、中性の性質を示した。 - 特許庁 - At least one of the lower clad layer 12 and upper clad layer 22 is made of a cured body of a photocuring resin composition containing (A) urethane (meth)acrylate oligomer, (B) a reactive diluted monomer, (C) elastomer particles of 1 to 100 nm in number average particle size, and (D) a photoinitiator.
下部クラッド層１２及び上部クラッド層２２のうち少なくとも１つは、（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、（Ｂ）反応性希釈モノマー、（Ｃ）数平均粒径が１〜１００ｎｍであるエラストマー粒子、及び（Ｄ）光重合開始剤を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。 - 特許庁 - Inorganic hollow particles of ≥100 nm in volume average grain size, the volume average grain size of the toner particles or below and 40 to 8% in void and/or organic hollow particles of 40 to 80% in void and ≥60 mass% in gel fraction are used as the additive.
外添剤として、体積平均粒径１００ｎｍ以上かつトナー粒子の体積平均粒径以下であり、空隙率４０％〜８０％の無機中空粒子および／または空隙率４０％〜８０％であり、かつゲル分率が６０質量％以上の有機中空粒子を使用する。 - 特許庁 - Though, before the autoclave treatment, a specific surface area of this glass was negligibly small, but almost, borate and sodium ingredients are eluted by the autoclave treatment, the specific surface area becomes 236 m2/g, thereby the mesopore porous compact is obtained having the distribution of 5-10 nm small pore diameters.
オートクレーブ処理を行なう前のガラスの比表面積は無視できる程度に小さいが、オートクレーブ処理により、大部分のホウ酸塩成分とナトリウム成分が溶出し、比表面積が２３６ｍ^2／ｇで、細孔径５〜１０ｎｍに分布を有するメソポア多孔質体が得られた。 - 特許庁 - The magnetite ultrafine particle is produced by oxidization of a solution containing a ferrous ion in the presence of an alkali with equivalent weight or more, and an ultrafine magnetite particle with a mean particle diameter of ≤10 nm is added to the ferrous ion at a ratio of 1/1000-1/3 expressed in terms of an iron atom.
第一鉄イオンを含有する溶液を、当量以上のアルカリ存在下に酸化してマグネタイト超微粒子を製造する方法において、平均粒径が１０ｎｍ以下のマグネタイト超微粒子を、第一鉄イオンに対して鉄原子の比率で１／１０００〜１／３量添加する。 - 特許庁 - The titanium oxide superfine particle photocatalyst is a superfine particle having ≤10 nm average particle diameter, the hydroxyl apatite fine particle adsorbent has ≤5 μm average particle diameter and the ratio by weight of the titanium oxide superfine particle photocatalyst to the hydroxyl apatite fine particle adsorbent is preferably 2:1 to 1:2.
酸化チタン超微粒子光触媒は、平均粒径１０ｎｍ以下の超微粒子であり、ヒドロキシアパタイト微粒子吸着剤は、平均粒径５μｍ以下の微粒子であり、酸化チタン超微粒子光触媒対ヒドロキシアパタイト微粒子の重量比が２：１〜１：２であることが好ましい。 - 特許庁 - A coating liquid for silver film formation in which the average particle diameter of particulate silver fine particles dispersed in a solvent is controlled to a range of 20-100 nm is applied at room temperature on a substrate and dried to obtain the objective silver film having a golden metallic luster.
溶剤中に分散している粒状の銀微粒子の平均粒径を２０〜１００ｎｍの範囲に制御した銀膜形成用塗布液を用い、この銀膜形成用塗布液を室温で基材上に塗布・乾燥することで、金色系金属光沢を有する銀膜が得られる。 - 特許庁 - The contact patterns 30 consist of a conductive film made by applying a conductive paste containing gold and/or copper and/or silver metal fine particles having the average grain diameter of 1-1,000 nm onto the flexible substrate 20 and then heating it to fuse the metal fine particles together.
接点パターン３０は、平均粒径が１〜１０００ｎｍの金及び／又は銅及び／又は銀の金属微粒子を含有する導電ペーストをフレキシブル基板２０に塗布して加熱することで金属微粒子を互いに融着してなる導電性被膜によって形成される。 - 特許庁 - The pressure-sensitive adhesive comprises a copolymer that is obtained by copolymerizing monomers containing a (meth)acrylic acid alkyl ester as a main component and a vinyl monomer having a hydroxy group and/or a carboxy group and has an average molecular radius of 70 nm or longer as measured by the multi angle laser light scattering method.
（メタ）アクリル酸アルキルエステルを主成分とし、水酸基及び／又はカルボキシル基を有するビニル系単量体を含む単量体を共重合して得られ、かつ多角度光散乱法により測定される平均分子半径が７０ｎｍ以上である共重合体を含有してなる、粘着剤。 - 特許庁 - A reflected light detection signal of a wavelength band of 19 channels, which has been converted by an A/D converter 12 into digital data, is acquired into a control computer 20 to detect reflectivity of the wavelength bands, and spectral reflectivity at 5 nm intervals is further estimated by spline interpolation.
Ａ／Ｄコンバータ１２でデジタルデータに変換された、１９チャンネルの波長帯域の反射光検出信号を、制御用コンピュータ２０に取り込んで、１９チャンネルの波長帯域の反射率を検出し、さらにスプライン補間によって５ｎｍ間隔の分光反射率を推定する。 - 特許庁 - The mirror is an Si-SiC composite material which has an Si- layer on its surface and comprises of Si and an SiC powder whose filling degree is ≥50 vol.% and the smoothness and the center line average roughness of the surface of the Si-layer are ≤1 μm and ≤3 nm, respectively.
表面にＳｉ層を有するＳｉＣ粉末の充填率が５０ｖｏｌ％以上のＳｉとＳｉＣ粉末からなるＳｉ−ＳｉＣ複合材料であって、そのＳｉ層表面の平坦度が１μｍ以下で、かつ中心線平均粗さが３ｎｍ以下であることとしたミラー。 - 特許庁 - To provide a milling device and a milling method capable of highly reliable machining, and capable of attaining high reliability of a thin film magnetic head, particularly becoming problematic even with sediment having the microscopic height of several nm, by reducing generation of the sediment by milling machining using a beam of an ion and a neutral particle.
イオンや中性粒子のビームを用いたミリング加工による堆積物の発生を低減し、高信頼な加工を可能とし、特に数ｎｍの微小な高さの堆積物でも問題となるような薄膜磁気ヘッドの高信頼化を達成とするミリング装置及びミリング方法を提供する。 - 特許庁 - The multi-layer film reflecting mirror 1 provides a high reflectivity at peak wavelength 10.9 nm of laser plasma X-ray using Xe as a target when a cycle length is 56.3 Å, Γ value which is the ratio between the layer thickness of Ru layer 12 and cycle length is 0.4, and the number of layers is 80 layer pairs.
この多層膜反射鏡１は、周期長を５６．３Å、Ｒｕ層１２の層厚と周期長との比であるΓの値を０．４、積層数を８０層対としたときに、ターゲットにＸｅを用いたレーザープラズマＸ線のピーク波長10.9nmにおいて高い反射率を有する。 - 特許庁 - In the composition comprising (A) a polishing material, (B) quinolinecarboxylic acid, (C) organic acid, (D) hydrogen peroxide and (D) water where the average particle diameter of the polishing material is in the range of 5-100 nm, concentration in the polishing composition of the polishing material is 1-30 wt.%.
（Ａ）研磨材、（Ｂ）キノリンカルボン酸、（Ｃ）有機酸、（Ｄ）過酸化水素および（Ｄ）水からなり、研磨材が平均粒径５〜１００ｎｍの範囲にある有機高分子化合物からなる組成物であって研磨材の研磨用組成物中の濃度が１〜３０重量％である研磨用組成物である。 - 特許庁 - The Moustache fiber has a length of 1 μm to 1 mm, a diameter at the central part of 0.1 μm to 10 μm with bilateral symmetry and has a structure that the fiber diameter is narrowed uniformly from the central part toward the edge point and the diameter at the edge point is less than 100 nm.
長さが１μｍ〜１ｍｍ、中央部分の直径が０．１μｍ〜１０μｍの左右対称の繊維であり、中央から先端に向かって均一に径が減少する構造から成り、先端部分の直径が１００nm以下である炭素から主としてなり黒鉛構造を有するムスターシュ繊維。 - 特許庁 - This mold release film is a film having a mold release layer on one face of a polyester film having 11-25 nm of film surface roughness Ra, and 90% or more of image clarity value, and peeling force of a surface of the mold release layer is within a range of 10-100 mN/cm.
フィルムの表面粗さ（Ｒａ）が１１〜２５ｎｍであり、写像性値が９０％以上であるポリエステルフィルムの片面に離型層を有するフィルムであり、当該離型層表面の剥離力が１０〜１００ｍＮ／ｃｍの範囲であることを特徴とする離型フィルム。 - 特許庁 - This plaque detection system is provided with the plaque disclosing agent containing (a) Monascus yellow, (b) nonionic surfactant and (c) glycerin, and a light emitting device 10 emitting a light having a wavelength within 250-500 nm to an object in the oral cavity stuck with the plaque disclosing agent.
（a）紅麹黄色素、（b）非イオン界面活性剤、（c）グリセリンを含有する歯垢染色剤と、該歯垢染色剤を付着させた口腔内の対象物に２５０〜５００ｎｍの範囲内の波長を有する光を照射する発光装置１０を備えた歯垢検出システム。 - 特許庁 - A piezoelectric element 1 is equipped with a piezoelectric film 2 of PZT, a lower electrode 3 and an upper electrode 4 sandwiching the piezoelectric film 2 between them, and a base film 5 of PLT which is interposed between the piezoelectric film 2 and the lower electrode 3 and about 50 to 200 nm in thickness.
圧電素子１は、ＰＺＴからなる圧電体膜２と、圧電体膜２を挟む一対の電極である下部電極３および上部電極４と、圧電体膜２と下部電極３との間に介在する厚みが約５０ｎｍ〜２００ｎｍのＰＬＴからなる下地膜５とを有している。 - 特許庁 - An object by forming a thin film of metallic oxide on an arc tube inside surface is used as this discharge lamp to prevent adsorption of mercury oxide formed at discharge lamp lighting time to the arc tube inside surface as well as to restrain reduction in illuminance with the lapse of time of the ultraviolet ray of 254 nm.
この放電灯として、発光管内表面に金属酸化物の薄膜を形成してなるものを使用することで、放電灯の点灯中に生成される酸化水銀が発光管内表面に吸着するのを防止でき、２５４ｎｍの紫外線の経時的照度低下を抑制する。 - 特許庁 - In this method for producing metal compound-containing powder, a jet stream accompanied by a pulsing shock wave is allowed to collide with a metal ion-containing liquid or a metal hydroxide-containing liquid, to thereby generate metal compound-containing powder having primary particles whose particle size is ≤50 nm.
金属イオン含有液または金属水酸化物含有液にパルス衝撃波を伴うジェット噴流を衝突させることにより粒径５０ｎｍ以下の１次粒子をもつ前記金属の化合物含有粉末を生成させる、前記金属の化合物含有粉末の製造法により達成される。 - 特許庁 - This biaxially oriented polyester film for mold releasing includes the protrusions having a height of 1 μm or more and of less than one per 1 m^2 on at least one side surface in such a manner that a centerline mean roughness Ra on the front surface is 1 to less than 20 nm and a frictional coefficient between front and rear surfaces of the film is 0.5 or less.
少なくとも片面において、高さが１μｍ以上の突起が１ｍ^２あたり１個未満でありかつ、表面の中心線平均粗さＲａが１ｎｍ以上２０ｎｍ未満であり、かつフィルム表裏間の摩擦係数が０．５以下である、離型用二軸配向ポリエステルフィルム。 - 特許庁 - Light used in a crystal separation process is, e.g. light emitted from a Q-switched Nd:YAG laser apparatus or the like, and its irradiation conditions are, e.g. an emission wave length of 355 nm, irradiation intensity of 400-600 mJ/cm^2, and a temperature of the substrate of 1,150-600°C.
結晶分離工程で用いる光は、例えばＱスイッチドＮｄ：ＹＡＧレーザ装置からの出力光等が有用で、照射条件は、例えば、発光波長：３５５ｎｍ、照射強度：４００〜６００ｍＪ／ｃｍ^２ 、下地基板の温度：１１５０℃〜６００℃で行う。 - 特許庁 - In the magnetic recording medium using granular or elliptical magnetic powder having at least iron and nitrogen as constituent elements, including at least an Fe_16N_2 phase and having 5 to 50 nm average particle size, a silicon containing compound (preferably a siloxane containing compound) is contained in a magnetic layer.
鉄および窒素を少なくとも構成元素とし、かつＦｅ_16Ｎ_2 相を少なくとも含む平均粒子サイズが５〜５０ｎｍの粒状ないし楕円状の磁性粉を使用した磁気記録媒体において、磁性層に珪素含有化合物（好ましくはシロキサン含有化合物）を含有させる。 - 特許庁 - An oxide film for a bolometer having a big temperature coefficient of electric resistance is produced by crystallizing a perovskite-type Mn oxide film at a low temperature of 500°C or less through irradiating a laser rays of 400 nm or less of wavelength after application of an organometallic compound onto an insulating substrate and drying.
金属有機化合物を絶縁性基板上に塗布、乾燥させた後に波長４００ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより、５００℃以下の低温でペロブスカイト型Ｍｎ酸化物薄膜を結晶化して、電気抵抗の温度係数が大きいボロメータ用酸化物薄膜を製造する。 - 特許庁 - The light-emitting device has a plurality of red light-emitting LEDs 103, green light-emitting LEDs 104, LEDs 105 emitting blue light having a peak wavelength of 470 nm, and LEDs 106 emitting blue light having a peak wavelength shorter than that of the LED 105.
発光装置は、赤色光を発するＬＥＤ１０３、緑色光を発するＬＥＤ１０４、発光ピーク波長が４７０ｎｍである青色光を発するＬＥＤ１０５、及び１０５よりピーク波長が短波長である青色光を発するＬＥＤ１０６をそれぞれ複数有している。 - 特許庁 - Disclosed are cell-permeable platinum microparticles prepared by binding a cell-permeable peptide to each of nano-sized platinum microparticles having an average particle diameter of 10 nm or less through a platinum-specific binding protein and cell-permeable platinum microparticles prepared by further binding an intracellular organelle-targeting peptide to the binding protein.
細胞透過性ペプチドを白金特異的結合タンパク質を介して結合させた平均粒径10nm以下のナノサイズの白金微粒子からなる細胞透過性白金微粒子、及び該結合蛋白質に細胞内オルガネラ標的ペプチドを更に結合させてなる細胞透過性白金微粒子に関する。 - 特許庁 - The compound capable of producing the functional group reactive with the epoxy compound by irradiation with light at 150-750 nm is preferably a compound capable of producing the group reactive with the epoxy group, i.e., phenolic hydroxyl group, primary amino group or secondary amino group or mercapto group by irradiation with light.
１５０〜７５０ｎｍの光照射によってエポキシ化合物と反応する官能基を発生する化合物は、エポキシ基と反応する基、すなわちフェノール性水酸基、１級アミノ基または２級アミノ基、メルカプト基を光照射によって生成する化合物であると好ましい。 - 特許庁 - The method for forming a silicon oxide thin film on which macropores are formed includes: a step of coating a silicate solution to which a water-soluble polymer is added to a support; and a step of removing the water-soluble polymer from the obtained coated film for forming a plurality of macropores having a pore diameter of 50 nm to 30 μm.
水溶性ポリマーを添加したケイ酸塩溶液を支持体に塗布する工程、５０ｎｍ〜３０μｍの複数のマクロ孔を形成するために得られた塗布膜から水溶性ポリマーを除去する工程を含む、マクロ孔が形成されたケイ素酸化物薄膜の形成方法。 - 特許庁 - The surface of an object of which the surface, at least, is constituted of resin or a material containing resin, e.g. a developing roll 1 prepared by forming a magnetic layer 3 on a base 2, is smoothed by casting thereon one or two or more kinds of lights having wavelengths of 100-370 nm.
少なくとも表面が樹脂又は樹脂を含む材料によって構成されるもの、例えば基体２上に磁性層３が形成されてなる現像ロール１の表面を、波長１００〜３７０ｎｍの光の１種又は２種以上を照射することによって平滑化する。 - 特許庁 - The wiring substrate having a conductive layer within which inorganic particles having an average diameter of 2 μm or less are scattered is obtained by the application of the copper paste, containing copper powder, an organic vehicle and ceramic particles having a diameter of 100 nm or less and which are not made to be vitrified by sintering, to a ceramic green sheet and by the baking thereof.
銅粉末と、有機ビヒクルと、平均粒径１００ｎｍ以下であって焼結によってガラス化しないセラミック粒子とを含有する銅ペーストをセラミックグリーンシートに塗布して焼成し、平均粒径２μｍ以下の無機物が厚み内に分散された導体層を有する配線基板を得る。 - 特許庁
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