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編集処理部ＥＤは、各伴奏シーケンス情報に基づき、優先情報ＰＲが示す優先性に従って、原曲データＯＭａの主旋律に適した伴奏データＡＣに変換し、変換された伴奏データＡＣをもつ所望データサイズの新曲データＮＭを生成する。 - 特許庁 - The humidifier 1 comprises a large diameter mist generation part using a heating mechanism for generating large-diameter mist M_1 having particle sizes of several μm or larger and a small diameter mist generation part 31 using an electrostatic atomizing mechanism for generating small diameter mist M_2 having particle sizes of several ten nm or so.
加熱機構を用いて粒径が数μｍ以上の大径ミストＭ_１を発生させる大径ミスト発生部３０と、静電霧化機構を用いて粒径が数十ｎｍ程度の小径ミストＭ_１を発生させる小径ミスト発生部３１とを備えた加湿装置１とする。 - 特許庁 - The composite is characterized in that the charge-transporting matrix is a polymer compound comprising (a) a hole-transporting polymer or (b) a hole-transporting low molecular weight compound and that the particle of the transition metal compound has ≤100 nm mean particle diameter and the transition metal compound is titanium oxide.
電荷輸送性マトリックスが（ａ）正孔輸送性高分子または（ｂ）正孔輸送性低分子化合物を含有する高分子化合物であり遷移金属化合物粒子が平均粒径１００ｎｍ以下であること及び遷移金属化合物が酸化チタンであることを特徴とする複合体。 - 特許庁 - To provide an electrophotographic photoreceptor usable in image exposure by a single wavelength light source of ≥750 nm, whose potential after exposure can be set to low, and also having high sensitivity, a wide sensitivity selective range, high durability and high reliability, and to provide electrophotographic equipment and a process cartridge using the same.
７５０ｎｍ以上である単波長光源による画像露光において使用でき、露光後電位を低く設定でき、かつ高感度で、感度選択範囲が広く、高耐久で高信頼性の優れた電子写真感光体と、それを用いた電子写真装置、及びプロセスカートリッジを提供する - 特許庁 - The surface of the substrate 19 formed with the humps 23 has a thickness of ≥5 to ≤25 nm on the surface of the substrate and is held covered by a bump holding layer 25 reduced in the thickness by utilizing the progression of the crosslinking of the resin from a crosslinked synthetic rein layer 20.
バンプ２３が形成された基板１９の表面において、バンプ以外の基板の表面が、５ｎｍ以上２５ｎｍ以下の厚みを有し、かつ、架橋合成樹脂層２０から樹脂の架橋進行による収縮を利用して厚みが縮小されたバンプ保持層２５で覆われている。 - 特許庁 - To provide a light sensitive planographic printing plate material suitable for exposure with laser light of which the emission wavelength is 350-450 nm, having high sensitivity and excellent storage stability, less liable to generate sludge in development, therefore ensuring less ink stain of a non-image area, and having excellent printing durability, by using a polyfunctional heterocyclic mercapto compound.
多官能ヘテロ環メルカプト化合物にすることで、発光波長が３５０〜４５０ｎｍのレーザー光での露光に適し、高感度であり、保存性に優れ、現像時のスラッジが発生しにくく非画像部のインキ汚れが少なく、かつ耐刷性に優れた感光性平版印刷版材料の提供。 - 特許庁 - On a substrate 1, a lower mask 7 composed of an inorganic interlayer film 5, an organic interlayer film 6 and a silicon oxide film and an upper mask 8 composed of a silicon nitride film are formed and a cover mask 10 composed of a silicon oxide nitride film in a thickness of 20 to 100 nm is formed on the upper mask 8.
基板１上に無機層間膜５、有機層間膜６、シリコン酸化膜からなる下部マスク７、シリコン窒化膜からなる上部マスク８を形成し、上部マスク８上にシリコン酸化窒化膜からなり膜厚が２０乃至１００ｎｍであるカバーマスク１０を形成する。 - 特許庁 - The magnetic recording medium has a base layer and a magnetic recording layer formed in this order on a substrate, and has a thin-film layer essentially comprising an element having ≥1.4 and ≤1.7 for Pauling's electronegativity and ≤4.0 nm thickness between the substrate and the base layer and in contact with the base layer.
基板上に、下地層と磁気記録層とをこの順に設けてなる磁気記録媒体であって、基板と下地層のあいだに、下地層に接して、ポーリングの電気陰性度が１．４以上１．７以下の元素を主成分とし厚さが４．０ｎｍ以下の薄膜層を設けてなる磁気記録媒体。 - 特許庁 - An adhesive for a semiconductor contains 0.5 to 20 wt.% of a high purity high density aerosol silica, that is, an ultra fine silica manufactured by an incineration method having an average diameter of 5 to 100 nm, amount of water soluble chlorine of not more than 25 ppm and a bulk density of not less than 70 g/l.
本発明は、高純度高密度煙霧シリカ（平均粒径５〜１００ｎｍ、水溶性塩素量２５ｐｐｍ以下、嵩密度７０ｇ／リットル以上の特性を有する燃焼製法超微粒子シリカ）を０．５〜２０重量％含有する半導体用接着剤である。 - 特許庁 - The electrolyte membrane (1) for a fuel cell includes a polymer film (2) having a plurality of through holes (4) passing through in a thickness direction (3) with a hole diameter 10-500 nm and having a porosity of 30% or lower, and an inorganic electrolyte material (5) filled in the through holes (4).
本発明の燃料電池用電解質膜(1)は、膜厚方向(3)に貫通する複数の孔径10〜500nmの貫通孔(4)が形成された、空孔率が30％以下である高分子フィルム(2)と、貫通孔(4)に充填された無機系電解質材料(5)とを備えることを特徴とする。 - 特許庁 - The phase difference value along the thickness direction of the liquid crystal layer 8 is set within a range of 500-1,600 nm, in this vertically oriented liquid crystal display, and the first phase difference plate 13 is inserted between the first and second polarizing plates 9, 10 crossed orthogonally with absorption axes 9a, 10a.
垂直配向型液晶表示装置は、液晶層８の厚さ方向の位相差値を５００ｎｍ〜１６００ｎｍの範囲に設定するとともに、吸収軸９ａ，１０ａが直交する第１，第２の偏光板９，１０の間に第１の位相差板１３を挿入する。 - 特許庁 - The source part 10 for generating/outputting diagnosis light comprises an excitation pulse light source 11 and optical fiber 14, and outputs diagnosis light, having optical power of not less than 1 μW/nm, at least at a part of a waveband from 0.8 μm to 3.0 μm.
診断光光源部１０は、診断光を発生して出力するものであり、励起パルス光源１１および光ファイバ１４を含み、０.８μｍ〜３.０μｍの波長帯の少なくとも一部において１μＷ／ｎｍ以上の光パワーを有する診断光を出力する。 - 特許庁 - The transparent film has semi-IPN (semi-mutual penetration netting structure) polymer alloy of cellulose ester and crosslinking polymer, and a retardation value of the film thickness direction {where Rth_(590): Rth_(λ) is the retardation value (units of nm) of the film thickness direction in wavelength λnm} is in the range of -400 to -25.
セルロースエステルと架橋ポリマーとのセミＩＰＮ（半相互貫入型網目構造）型ポリマーアロイを有し、かつ膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈ_(５９０)：Ｒｔｈ_(λ)は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である）が−４００以上−２５以下である透明フィルム。 - 特許庁 - To provide a mirror capable not only of improving durability including water resistance, thermal resistance and light stability etc., but also improving a visible radiation region reflection factor (especially the reflection factor at a visible light band of 410 nm), not to mention protective layer stripping prevention.
耐水性や、耐熱性、耐光性等の耐久性の向上を図ることができるとともに、保護層の剥離を防止することができるのはもちろんのこと、可視光域の反射率（特に光の波長が４１０ｎｍであるときの反射率）の向上を図ることができる反射鏡を提供する。 - 特許庁 - Absorbance of visible light with the wavelength in the range of 380-780 nm is measured for treated water from the reaction vessel, and at least one of the introducing flow rate of water to be treated to the reaction vessel, the addition amount of nutrients and the addition amount of a polymeric flocculant is controlled on the basis of the measured value.
反応槽からの処理水について、波長３８０〜７８０ｎｍの範囲の可視光の吸光度を測定し、この測定値に基いて、反応槽への被処理水の導入流量、栄養剤の添加量、高分子凝集剤の添加量のいずれか１以上を制御する。 - 特許庁 - Moreover, prescribed musical symbols and musical characters EDp are allocated to the pack of data, and in the case of displaying the score, the packaged performance information string Nl-Nm-Nn is displayed to be easy to see by this single note data NDp provided with the musical marks and characters EDp.
また、パックデータＰＤには、自動的に或いはユーザにより、所定の音楽記号や音楽上の文字ＥＤｐを割り当て、楽譜表示上においては、この記号や文字ＥＤｐを付加した１つの音符データＮＤｐにより、パックされた演奏情報列Ｎｌ−Ｎｍ−Ｎｎを見やすく表示する。 - 特許庁 - This composition for coating paper, comprising a pigment and a copolymer latex, is characterized by containing 1 to 25 mass% of a solid organic pigment having a glass transition temperature (Tg) of ≥30°C and an average particle diameter of ≤150 nm by a dynamic light-scattering method in 100 mass% of the pigment.
顔料と、共重合体ラテックスとを含む紙塗工用組成物であって、顔料１００質量％中に、動的光散乱法による平均粒子径が１５０ｎｍ以下でガラス転移温度（Ｔｇ）が３０℃以上の密実有機顔料を１〜２５質量％含有する紙塗工用組成物。 - 特許庁 - In the method which obtains the information on a specimen, (a) a process in which the specimen is irradiated with continuous wavelength light in the region of 400 to 2,500 nm or in a part of it and (b) a process, in which a peak in the obtained spectrum is decomposed to an element peak by a spectroscopic technique are contained.
（ａ）被検体に、４００ｎｍから２５００ｎｍまでのまたはその一部の領域の連続波長光を照射して、被検体のスペクトルを得る工程、および、（ｂ）得られたスペクトル中のピークを、分光学的手法により要素ピークに分解する工程、を含む、被検体の情報を得る方法。 - 特許庁 - Since the magnetic recording medium consists of a thin film which is based on a noble metal based regular alloy having ≥106 J/m3 crystal magnetic anisotropy and has a nanogranular structure having ≤20 nm granular size, the magnetic recording medium is excellent in thermal stability and has high coercive force of ≥800 kA/m.
本発明は、１０^６Ｊ／ｍ^３以上の結晶磁気異方性を有する貴金属系規則合金をベースとし、グラニュラー粒径２０ｎｍ以下のナノグラニュラー構造を有する薄膜からなるため、熱的安定性に優れると同時に最大で８００ｋＡ／ｍ以上の高保磁力を示す。 - 特許庁 - The recording film 18 has 30 to 80% light transmittance to a laser beam and is formed by using a phase change material which consists essentially of Sb and Ge and is rewritable by an optical system of λ/NA≤650 nm when a numerical aperture of an objective lens and the wavelength of the laser beam are defined as NA and λ, respectively.
又、記録膜１８は、レーザービームに対する光透過率が３０〜８０％とされ、且つ、Ｓｂ、Ｇｅを主成分とし、対物レンズの開口数をＮＡ、レーザービームの波長をλとしたときλ／ＮＡ≦６５０ｎｍの光学系により書換え可能な相変化材料から形成されている。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the cellulose resin film, the cellulose resin has a molecular weight of 10,000-200,000 by the static light scattering method and a rotational radius of 10-40 nm by the static light scattering method, and the fine particles are added in a step for dissolving the cellulose resin in a solvent.
セルロース樹脂フィルムの製造方法において、セルロース樹脂は、静的光散乱法による分子量の値が１〜２０万であり、且つ前記静的光散乱法による回転半径の値が１０〜４０ｎｍであって、前記セルロース樹脂を溶媒に溶解する工程で微粒子を添加すること。 - 特許庁 - This transparent or translucent oil-in-water type emulsified composition comprises (A) the L-ascorbic acid glucoside and (B) 0.001-3 mass% of an oily ingredient selected from an ether compound and an ester compound having 200-500 molecular weight.The average particle diameter of oil droplets of the composition is ≤200 nm.
（Ａ）Ｌ−アスコルビン酸グルコシド、並びに（Ｂ）分子量２００〜５００のエーテル化合物及びエステル化合物から選ばれる油性成分０．００１〜３質量％を含有し、油滴の平均粒子径が２００nm以下である透明又は半透明の水中油型乳化組成物。 - 特許庁 - A vapor deposition material 34 composed of SiO is irradiated with an electron beam from an electron gun 36, this is heated and evaporated, and, further, in a state where rectangular current voltage having a negative polarity is applied to the substrate dome, an SiO_x film with a film thickness of ≥300 nm is deposited.
ＳｉＯからなる蒸着材料３４に電子銃３６から電子ビームを照射してこれを加熱し蒸発させると共に負極性の矩形直流電圧を基板ドームに印加した状態で３００ｎｍ以上の膜厚のＳｉＯ_Ｘ膜を形成する。 - 特許庁 - A gain combination DFB laser 20 is a laser of oscillation wavelength of about 1,550 nm, and comprises, on an n-InP substrate 1, an n-InP buffer layer 2, active layer 3, p-InP spacer layer 4, p-InP upper-part clad layer 6, and p-GaInAs contact layer 7.
本利得結合ＤＦＢレーザ２０は、発振波長約１５５０ｎｍのレーザであって、ｎ−ＩｎＰ基板１上に、ｎ−ＩｎＰバッファ層２、活性層３と、ｐ−ＩｎＰスペーサ層４、ｐ−ＩｎＰ上部クラッド層６、及びｐ−ＧａＩｎＡｓコンタクト層７の積層構造を有する。 - 特許庁 - Preferably, the graphite thin film is a thin film, which is composed of laminated 5-50 layers of graphene sheet structures and has a spacious thickness of 10-1,000 nm, and the carbon particle has a BET specific surface area of 50-3,000 m^2/g.
上記の炭素粒子の好ましい態様において、グラファイト薄膜はグラフェンシート構造が５〜５０層積層して形成された薄膜であり、グラファイト薄膜の占有する空間の厚さは１０〜１０００ｎｍであり、炭素粒子のＢＥＴ表面積は５０〜３０００ｍ^２／ｇである。 - 特許庁 - In the carbonaceous electrode material made of a porous carboneous material used for an electrode (12) of the electronic storage device 1 and having mesopores formed on its surface, the specific surface resistance of pores having pore sizes of ≥2 to 3 nm among the mesopopres is defined as ≥180 m^2/g.
蓄電装置１用の電極（１２）として用いられかつ表面にメソ細孔が形成された多孔性の炭素質材料からなる炭素質電極材において、上記メソ細孔のうち２ｎｍ以上３ｎｍ未満の孔径を有する細孔の比表面積を１８０ｍ^2／ｇ以上とする。 - 特許庁 - Further, a nitride film is deposited, the thickness is measured by forming an extremely thin lamination gate insulation film with a thickness of approximately 2 nm, and the etchback treatment of the nitride film is made by using an etching agent with a slow etching speed when the thickness of the lamination gate insulation film exceeds specifications, thus keeping the thickness within specifications.
さらに、窒化膜を堆積して、例えば２ｎｍ程度の極薄の積層ゲート絶縁膜を形成してその厚みを測定し、積層ゲート絶縁膜の厚みがスペックをオーバーしていると、エッチング速度の小さいエッチング剤を用いて窒化膜のエッチバック処理を施し、厚みをスペック内に収める。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a laminated wafer which can prevent a failure occurring in the thin film of the laminated wafer or in the interface of lamination when laminating a bond wafer composed of a silicon single crystal on a base wafer directly or through an extremely thin silicon oxide film of not larger than 100 nm.
シリコン単結晶からなるボンドウェーハを、直接あるいは１００ｎｍ以下と極めて薄いシリコン酸化膜を介してベースウェーハと貼り合わせる際に、貼り合わせウェーハの薄膜や貼り合わせ界面に発生する欠陥を防止できる貼り合わせウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁 - A bright line in the vicinity of 365 nm of a high pressure mercury lamp and a photo setting resin cured by the light are used, one end surface of the fiber 4 is dipped into the photo setting resin, light is made incident from the other end surface to cure the photo setting resin to form the light guide path 6.
高圧水銀ランプの３６５ｎｍ近傍の輝線とその光によって硬化する光硬化樹脂を用い、ファイバ４の一方の端面を光硬化樹脂に浸し、他方の端面から光を入射することにより、光硬化樹脂を硬化させて導光路６を形成する。 - 特許庁 - If the impurity concentration of the high impurity concentration region 6 is lower than 1/10 of the impurity concentration of source/drain regions at a position 30 nm inside the edge of the source/drain region, the perfect depletion type operation can be performed more efficiently and, further, the decline of the threshold voltage can be suppressed more effectively.
高濃度領域６の不純物濃度が、ソース／ドレイン領域端より３０ｎｍの内側の位置で、ソース／ドレイン領域端の不純物濃度の１／１０より低ければ、完全空乏型の動作がより有効に実現し、且つ、閾値電圧の低下がより効果的に抑制される。 - 特許庁 - An adhesion layer, a reflection layer essentially comprising Ag and a protective layer made of light-transmissive dielectric layer are formed on the surface of a plastic base in the order from the plastic base side, wherein a mixture layer of aluminum oxide and lanthanum oxide is used as the adhesion layer and the layer thickness is in the range of 10 to 120 nm.
プラスチック基体の表面に、基体側から順に、密着層、Ａｇを主成分とする反射層、透光性誘電体層からなる保護層を形成し、密着層として酸化アルミニウムと酸化ランタンの混合物層を用い、その層厚を１０〜１２０ｎｍの範囲とする。 - 特許庁 - The electrocatalyst is made of a carbon material that shows a strength ratio R=I_D/I_G of 0.9 to 1.2 where I_D and I_G denote D-band peak strength and G-band strength measured by Raman spectroscopy, and that carries catalyst metal particles having an average crystal diameter of 1 to 4 nm.
平均結晶子径が１〜４ｎｍである触媒金属粒子が、ラマン分光により測定されたＤ−バンドピーク強度Ｉ_ＤおよびＧ−バンドピーク強度Ｉ_Ｇの強度比Ｒ＝Ｉ_Ｄ／Ｉ_Ｇが０．９〜１．２である炭素材料に担持されてなることを特徴とする電極触媒。 - 特許庁 - The agent of the water-repelling treatment is obtained by formulating 0.01-10 wt.% fine particles having <10 nm average particle diameter, 0.001-10 wt.% amino-modified silicone, 70-99.9 wt.% solvent, 0.0001-1 wt.% acid and 0.001-10 wt.% coupling agent.
撥水処理剤として、平均粒子径が１０ｎｍ未満の微粒子０．０１〜１０重量％、アミノ変性シリコーン０．００１〜１０重量％、溶媒７０〜９９．９重量％、酸０．０００１〜１重量％およびカップリング剤０．００１〜１０重量％を配合させる。 - 特許庁 - The top surfaces of the 2nd inter-layer insulating film 11 and 2nd metal wire 19 are polished and flattened, and a material containing alumina is deposited on the 2nd inter-layer insulating film 11 and 2nd metal wire 19 to form a 3rd inter-layer insulating film 12 of ≤200 nm in thickness.
第２の層間絶縁膜１１および第２のメタル配線１９の上面を研磨して平坦化し、第２の層間絶縁膜１１および第２のメタル配線１９の上に、アルミナを含む材料を堆積して２００ｎｍ以下の厚さの第３の層間絶縁膜１２を形成する。 - 特許庁 - The crystalline hafnia sol containing particles of an average particle diameter of 30-100 nm is produced by a method comprising retaining a slurry comprising hafnium hydroxide, an acid and water at a temperature of at least 80°C and, preferably, containing 0.01-2.0 g-equivalent amount of the acid, in a slurry, relative to 1 mole of hafnium.
水酸化ハフニウムと酸および水からなるスラリーを８０℃以上の温度で保持し、好ましくは、ハフニウム１モルに対して０．０１〜２．０グラム当量の酸をスラリー中に含むことにより、平均粒子径が３０〜１００ｎｍである結晶質ハフニアゾルを製造することを特徴とする。 - 特許庁 - The present invention provides a forming die having a mold releasing layer formed on a die surface of the forming die, the mold releasing layer containing a fluororesin and having a film thickness of 10 to 500 nm; a method for producing a microlens including forming a resin by using the forming die; and a microlens produced by the production method.
膜厚１０〜５００ｎｍのフッ素系樹脂を含む離型層が成形型の成形面に形成されてなることを特徴とする成形型、該成形型を用いて樹脂を成形してマイクロレンズを製造する、マイクロレンズの製造方法、及び該製造方法により製造されるマイクロレンズ。 - 特許庁 - The polyester fiber with the tapered end in the end direction is treated with plasma in a gas including at least either oxygen or argon to form the micropores having a size of 10 nm -10 μm in the surface of the fiber at the end and generate a hydroxy group and a carboxyl group on the surface of the fiber.
先端方向にテーパー状の先端部を有するブラシまたは筆に用いるポリエステル系繊維において、該繊維を、該先端部の繊維表面に平均長さが１０ｎｍ〜１０μｍの微細孔が存在し、さらに該繊維表面に水酸基またはカルボキシル基を有するポリエステル系繊維とする。 - 特許庁 - The method comprises introducing optical pulses into one end of a nonlinear optical fiber and generating light with changed waveforms from the other end of the nonlinear optical fiber, in which the nonlinear optical fiber is composed of glass containing Bi_2O_3 at ≥40 mol%, and the group velocity dispersion thereof is ≤-10 ps/nm/km.
光パルスを非線形光ファイバの一端に入射して他の一端から波形が変化した光を発生させる方法であって、非線形光ファイバがＢｉ_２Ｏ_３を４０モル％以上含有するガラスからなり、その群速度分散が−１０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ以下である光スペクトル変化方法。 - 特許庁 - After a pulsed laser at a wavelength of 351 nm (an average output power is 0.43 W, a pulse repetition rate is 5 kHz, a pulse width is 400 ns) is irradiated to glass for an hour, a variation of an index of refraction (Δn is a difference of the index of refraction between before and after irradiation) is below 5 ppm.
ガラスに、波長＝３５１ｎｍのパルスレーザー光（平均出力（Average Output Power）＝０．４３Ｗ，パルス繰り返し数（Pulse Repetition Rate）＝５ｋＨｚ，パルス幅（Pulse Width）＝４００ｎｓ）を１時間照射した後の屈折率の変化量（Δｎ：照射前後の屈折率の差）が５ｐｐｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁 - In the thermoplastic resin composition comprising at least a carbon fiber and a thermoplastic resin, the size of the crystals of the carbon fiber measured by the broad-angle X-ray diffraction method is within a range of 1.4-4.5 nm and the diameter of the cross section of the fiber is within a range of 3-15 μm.
少なくとも炭素繊維と熱可塑性樹脂とを含む熱可塑性樹脂組成物において、広角Ｘ線回折法で測定した炭素繊維の結晶サイズが1.4〜4.5nmの範囲内であり、かつ繊維断面の直径が3〜15μmの範囲内であることを特徴とする熱可塑性樹脂組成物。 - 特許庁 - In the above smelting method, it is preferable to use an inert gas or carbon dioxide gas for a gas to be sprayed, to control a value of (sprayed gas volume/surface area of slag in ladle) into 0.5 to 1.5 (Nm^3/m^2/min), and to use four or more nozzles in order to blow the gas onto the slag surface.
前記溶製方法において、吹き付けガスが不活性ガスまたは二酸化炭素ガスであることが好ましく、また、（吹き付けガス量／取鍋内のスラグ表面積）の値を０．５〜１．５（Ｎｍ^3／ｍ^2／ｍｉｎ）とし、スラグ表面に吹き付けるガスの噴出ノズルを４個以上とすることが好ましい。 - 特許庁 - Disclosed is a magnesium hydroxide particulate in which the content of carbon is ≥0.9 wt.%, the content of chlorine is ≤0.05 wt.%, the weight reduction ratio from 200°C to a dehydration starting temperature by thermogravimetric analysis is ≤3.0%, specific surface area is 1.0 to 300 m^2/g, and the average particle diameter is 10 to 1,000 nm.
炭素量が0.9重量％以上、塩素含有量が0.05重量％以下、熱重量分析による200℃から脱水開始温度までの重量減少率が3.0％以下であり、比表面積が1.0〜300 ｍ^2／ｇ 、平均粒子径が 10〜1000 ｎｍである、水酸化マグネシウム微粒子。 - 特許庁 - The coercive force of the above magnetic film for recording information is larger than that of the magnetic film for recording the servo control signals by 7.98 kA/m (100 Oe) or more, and the surface roughness of a boundary between the magnetic film for recording the servo control signals and the magnetic film for recording the information is set in the range of 3 to 7 nm.
前記情報記録用磁性層の抗磁力は、前記サーボコントロール信号記録用磁性層の抗磁力よりも７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以上大きく、かつ前記サーボコントロール信号記録用磁性層と情報記録用磁性層との界面における界面粗さは、３〜７ｎｍの範囲である。 - 特許庁 - As the average pore diameter of the mesoporous silica is 1.5 nm or more and is large, a reagent for chemical modification enters into the pore easily, a modification rate of the chemical modification with a hydrophobic functional group becomes high and it contributes to the effect lowering dielectric constant at the inside of the pore.
メソポーラスシリカの平均細孔径は１．５ｎｍ以上と大きいため、化学修飾するための試薬が細孔内部まで入り易く、疎水性の官能基で化学修飾される修飾率が高くなり、細孔内部においても、誘電率を下げる効果に寄与する。 - 特許庁 - A textile containing ≥30% of cotton is immersed and treated in a liquid with a fiber processing agent that is obtained by supporting silver nanocolloid having a particle diameter of ≤200 nm on a silk protein having a molecular weight of 20-2,000 and comprises an aminosilicon at 10-40°C.
分子量２０〜２０００のシルクプロテインに粒子径２００ｎｍ以下の銀ナノ・コロイドを担持せしめ、更にアミノシリコンからなる繊維用加工剤で、木綿を３０％以上含有する繊維類を１０〜４０℃にて液中、浸漬処理することを特徴とする繊維の提供を可能とする。 - 特許庁 - The film is made from a thermoplastic resin having a glass transition point of 150°C or higher, and has a thickness of at least 100 μm, a retardation of at most 20 nm, an enthalpy relaxation temperature of 140 to 200°C, and an enthalpy relaxation of 0.01-2.0 kJ/mol.
ガラス転移点が１５０℃以上の熱可塑性樹脂Ａからなるフィルムであって、そのフィルム厚さが１００μｍ以上、レターデーションが２０ｎｍ以下であり、エンタルピー緩和温度が１４０〜２００℃、エンタルピー緩和量が０．０１〜２．０ｋＪ／ｍｏｌであることを特徴とする熱可塑性樹脂フィルムである。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a phase shift mask which has a binary pattern region and a plurality of phase shift pattern regions on one mask and also has superior size precision and positioning precision and high quality using photolithography of ≤65 nm in half pitch on a wafer, and the phase shift mask obtained by the manufacturing method.
ウェハ上のハーフピッチ６５ｎｍ以下のフォトリソグラフィにおいて、１枚のマスク上にバイナリパターン領域と、複数の位相シフトパターン領域とを有し、寸法精度、位置合わせ精度に優れた高品質の位相シフトマスクの製造方法とその製造方法による位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁 - (3) haze is ≤4%; and (4) average surface roughness (SRa) of a three-dimensional center plane on a surface of the film is 10-50 nm.
（１）フィルム長手方向に分子配向主軸を有すること、（２）フィルム長手方向の屈折率とフィルム幅方向の屈折率との差が０．０３以上、かつ０．１０以下であること、（３）ヘーズが４．０％以下であること、（４）フィルム表面の三次元中心面平均表面粗さ（ＳＲａ）が１０〜５０ｎｍであること - 特許庁 - This emulsion is formed by emulsion-polymerizing a radical polymerizable acrylic monomer(s) essentially containing an acrylamide type monomer(s) in an aqueous medium in the presence of a nonionic surfactant and an anionic surfactant in a nonionic/anionic surfactants weight ratio of 2/8 to 8/2 and has particle sizes of dispersed particles of 100-500 nm.
アクリルアマイド系モノマーを必須とするラジカル重合性アクリル系モノマーを、ノニオン性界面活性剤／アニオン性界面活性剤＝２／８〜８／２（重量比）の存在下に水性媒体中で乳化重合してなる、分散粒子の粒子径が１００〜５００ｎｍの水性アクリル系エマルジョン。 - 特許庁 - The reflection type color liquid crystal display device using a cholesteric liquid crystal color filter layer is provided with a light-absorbing body 10 having 5 to 50% reflectance for visible rays (400 to 700 nm) in the proximity of the cholesteric liquid crystal color filter layer.
コレステリック液晶カラーフィルター層を用いた反射型カラー液晶表示素子において、前記コレステリック液晶カラーフィルター層に近接して可視光（４００〜７００ｎｍ）の反射率が５〜５０％の光吸収体１０を設けた反射型カラー液晶表示素子である。 - 特許庁
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