「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 83 84 85 86 87 88 89 90 91 .... 287 288 次へ＞- The diameter of the contact hole 4 is reduced by etching back the upper layer of the TEOS film 2, for example, by about 1,000 nm.
ＴＥＯＳ膜２の上層部分を例えば１０００ｎｍ程度エッチバックすることにより、コンタクトホール４のホール径を縮小させる。 - 特許庁 - The optical glass is characterized in that the transparency is high in the visible light region, the transition temperature (Tg) is low, and the spectral transmittance is ≥70% at a wavelength of 600 nm in a thickness of 10 mm.
波長が６００ｎｍで１０ｍｍ厚の分光透過率が７０％以上であること特徴とする光学ガラス。 - 特許庁 - To provide a method for exposing, in which the deterioration of a pellicle film is small in an exposure treatment using ultraviolet rays having a wavelength of 200 nm or shorter.
２００ｎｍ以下の紫外光を用いた露光処理において、ペリクル膜の劣化が少ない露光方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a light-emitting element, which has a peak of light emission near 620 nm being acknowledged as a nice red color, and ensures a high visual efficiency.
良好な赤色として知覚される６２０ｎｍ付近に発光のピークを有し、高視感効率な発光素子を提供する。 - 特許庁 - The zinc nanosheet is subsequently heated at 330-390°C in air for 3-5 hr to manufacture the white, hexagonal zinc oxide nanosheet which is 100-500 μm wide and 30-70 nm thick.
この酸化亜鉛ナノシートは幅が100〜500マイクロメートルで、厚さが30〜70ナノメートルの範囲の白色の六方晶系のナノシートである。 - 特許庁 - The glove is such that hollow nanosilica particles of primary particle diameter of 50-150 nm adhere to a member contacting the palm of the hand.
手のひらに接する部材に一次粒子径が５０〜１５０ｎｍの中空ナノシリカ粒子が付着していることを特徴とする手袋。 - 特許庁 - Diamond or silver fine particles of particle size of 100 nm or less are attached to at least one of the raceway surface and the rolling contact surface.
前記軌道面及び転動面の少なくとも一方に、粒径が１００ｎｍ以下のダイヤモンド又は銀の微粒子が付着している。 - 特許庁 - Aluminum composition of the AlGaN region 15 is 0.05 or larger, and its thickness D1 is 500 nm or larger.
ＡｌＧａＮ領域１３のアルミニウム組成は０．０５以上であり、またＡｌＧａＮ領域１５の厚さＤ１は５００ｎｍ以上である。 - 特許庁 - A third carbon black has a mean primary grain size of 24 nm, a specific surface of 125 m^2/g, and a DBP absorption of 165 ml/100 g.
第三カーボンブラックは、平均一次粒径２４ｎｍ、比表面積１２５ｍ^2 ／ｇ、ＤＢＰ吸収量１６５ｍｌ／１００ｇである。 - 特許庁 - In addition, silicides 61 and 71 are formed at intervals of 100-300 nm from an end of a depletion layer formed on the pn junction.
また、シリサイド６１，７１は、ＰＮ接合に形成される空乏層の端部から１００〜３００ｎｍ程度の間隔をおいて配設される。 - 特許庁 - As a result, the film 31 having a thickness of about 12 nm is formed by accelerating oxidation on the surface of a source diffused layer 13S.
この結果、ソース拡散層１３Ｓの表面には、増速酸化により厚さが１２ｎｍ程度のシリコン酸化膜３１が形成される。 - 特許庁 - To provide a resist pattern-forming method which forms a micro resist pattern of at most 100 nm which is excellent in intimate contactability to a substrate.
基板との密着性に優れた１００ｎｍ以下の微細なレジストパターンを形成し得るレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The backing rubber layer contains a fluorocarbon rubber having an average particle size of 90-210 nm and incorporating a carbon black manufactured in a FT method.
背ゴム層は平均粒子径が９０ｎｍ〜２１０ｎｍであるＦＴ法により製造されたカーボンブラックを配合したフッ素ゴムである。 - 特許庁 - In some examples, the mean outside diameter of the outside shell portion is less than 500 nm, and the core portion occupies 5-99% of the inner volume.
幾つかの例では、外側のシェル部の平均外径は５００ｎｍ未満であり、コア部は上記の内部体積の５〜９９％を占める。 - 特許庁 - A Co composition ratio is adjusted within the range of 1 at% to 30 at%, and a mean particle diameter is formed at 20 nm or less.
Ｃｏ組成比を１ａｔ％〜３０ａｔ％の範囲内に調整し、また平均結晶粒径を２０ｎｍ以下にて形成する。 - 特許庁 - The layer (layer A) that includes the thermoplastic resin and the layer (layer B) consisting of the thermoplastic resin that has the property different from the resin that includes at least the layer A are layered alternately more than ten layers, wherein and retardation in the wavelength 590 nm is ≥1,700 nm, and the average transmittance in the range of wavelength 400-800 nm is ≥80%.
熱可塑性樹脂からなる層（Ａ層）と少なくともＡ層を構成する樹脂とは異なる性質を有する熱可塑性樹脂からなる層（Ｂ層）が交互にそれぞれ１０層以上積層されてなり、波長５９０ｎｍにおけるレタデーションが１７００ｎｍ以上であり、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲における平均透過率が８０％以上であることを特徴とする多層積層フィルム。 - 特許庁 - In the spectral distribution diagram of the toner with reflectance (%) as the y-axis and wavelength (nm) as the x-axis, a spectral curve obtd. for the toner in the powder state shows 2.0-10.0% reflectance in the wavelength range of 400-700 nm and 3.0-10.0% reflectance in the wavelength range of 580-640 nm.
電子写真法による出版印刷に用いるトナーであって、縦軸を反射率（％）、横軸を波長（ｎｍ）とした分光分布図において、粉体状態のトナーとして求めた分光曲線が、波長４００〜７００ｎｍの範囲で反射率が２．０〜１０．０％の範囲にあり、かつ波長５８０〜６４０ｎｍの範囲で反射率が３．０〜１０．０％の範囲にあることを特徴とする電子写真出版印刷用トナーを開示する。 - 特許庁 - Subsequently, the semiconductor layer 142 formed of Si-doped GaN is grown in the thickness of 50 nm under the temperature lowered to 850°C.
続いて、８５０℃まで降温して、ＳｉをドープしたＧａＮからなる添加半導体層１４２を５０ｎｍの膜厚で成長させる。 - 特許庁 - To provide a thin film coater attaining uniform coating of a thin film having a film thickness of approximately 50-200 nm.
膜厚が５０ｎｍ〜２００ｎｍ程度の薄膜を均一に塗工することを可能とする薄膜塗工装置の提供を目的とする。 - 特許庁 - Particularly the carrier has at least one projection in each 100 nm×100 nm region of the surfaces of the carrier particles or the horizontal distance between a projection on the surfaces of the carrier particles and a recess adjacent to the projection is ≥3 nm or the surface coating layers of the carrier particles contain a compound having a siloxane bond skeleton in the principal chain and/or a side chain.
特に、キャリア粒子表面の１００ｎｍ×１００ｎｍ領域内に少なくとも１個の凸部を有すること、またはキャリア粒子表面の凸部とこれに隣接する凹部の水平距離が３ｎｍ以上であること、或いはキャリア粒子表面のコート層が主鎖および／または側鎖にシロキサン結合骨格を有する化合物を含有することを特徴とする上記電子写真用キャリア。 - 特許庁 - The polarizing plate has a polarizing layer 5 of 20 to 1,500 nm thickness on the surface of a layer 3 having reflective characteristics.
反射特性を有する層３の表面に、厚み２０〜１,５００nm の偏光層５が形成されている偏光板が提供される。 - 特許庁 - The second and fourth retardation layers R2, R4 have 50 nm or smaller in-plane retardation Re and have negative refractive index anisotropy.
第２位相差層Ｒ２および第４位相差層Ｒ４は、面内リタデーションＲｅが５０ｎｍ以下で、負の屈折率異方性を有する。 - 特許庁 - To provide a circular fluorescent lamp, and a lighting fixture, endowed with an ability of restraining the transmission of light with a wavelength of 400 nm or less.
波長４００ｎｍ以下の光の透過を抑制する能力を具備する環形蛍光ランプおよび照明器具を提供する。 - 特許庁 - The optical information recording medium has a recording layer formed on a surface of a substrate having a pregroove with a track pitch of 50 to 500 nm on the surface.
トラックピッチ５０〜５００ｎｍのプリグルーブを表面に有する基板の該表面上に記録層を有する光情報記録媒体。 - 特許庁 - The skutterudite compound is a compound having an average particle size ranging from 2 to 100 nm and has a CoSb_3 composition.
本発明のスクッテルダイト化合物は、２ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内の平均粒径を有する化合物であり、ＣｏＳｂ３の組成を有する。 - 特許庁 - It is preferable that the heterogeneous layer has a thickness of 10 nm to 30 μm, and has a SiO_2 content higher than that of the inner part of the substrate.
異質層は、厚みが１０ｎｍ〜３０μｍであり、またＳｉＯ_２含有量が、基板内部のそれよりも高いことが好ましい。 - 特許庁 - The optical information recording medium constituted by successively forming at least a light reflecting layer, the recording layer capable of recording information by a laser beam of ≤500 nm in wavelength and a cover layer on a substrate is characterized in that the cover layer described above contains a UV absorbent to cut the light of ≤400 nm in wavelength and/or dyestuffs to cut the light of ≥500 nm in wavelength.
基板上に、少なくとも、光反射層と、波長５００ｎｍ以下のレーザ光により情報の記録が可能な記録層と、カバー層と、が順次形成された光情報記録媒体であって、前記カバー層が、波長４００ｎｍ以下の光をカットするＵＶ吸収剤および／または波長５００ｎｍ以上の光をカットする色素、を含有することを特徴とする光情報記録媒体である。 - 特許庁 - The total thickness of the lower and upper layer protective films 13 and 14 is 6-15 nm.
下層カーボン保護膜１３と上層カーボン保護膜１４の厚さとを加えたカーボン保護膜の全厚は６ｎｍ以上１５ｎｍ以下である。 - 特許庁 - To obtain a polysilsesquioxane thin film which has ≤800 nm film thickness, excellent tensile strength and having excellent flexibility and crack resistance.
膜厚が８００ｎｍ以下で、且つ引張強度が優れ、また柔軟性および耐クラック性が優れているポリシルセスキオキサン薄膜を提供する。 - 特許庁 - Preferably, the diameter of the major axis of the planar precipitates is 2 to 30 nm, and the thickness thereof is 0.1 to 0.5 times to the diameter of the major axis.
板状析出物の長軸直径が２〜３０nmで、その厚みが長軸直径に対して０．１〜０．５倍であることが好ましい。 - 特許庁 - The nanoparticle-containing lubricating oil composition contains a base oil, a hydroxyl group-containing additive and nanoparticles having a particle diameter of 1-100 nm.
基油と、水酸基を有する添加剤と、粒径１〜１００ｎｍのナノ粒子を含有して成るナノ粒子含有潤滑油組成物。 - 特許庁 - Preferably, the anode 4 is made a transparent electrode and the transparent electrode is formed as a metal film layer having a thickness of 20 nm or less.
好ましくは、アノード４を透明電極とし、この透明電極の厚みを２０ｎｍ以下の金属薄膜層として形成する。 - 特許庁 - To provide an optical recording medium and a compound, which can favorably record and reproduce with a laser having a wavelength of 300-900 nm.
波長３００〜９００ｎｍのレーザーで良好な記録および再生が可能な光記録媒体および新規な化合物を提供する。 - 特許庁 - The metal porous membrane is formed of metal nano-particles with a diameter of 1 to 4 nm in which the skeleton is composed of a noble metal element.
金属多孔質膜は、貴金属元素によってその骨格が構成され、且つ直径１〜４ｎｍの金属ナノ粒子から形成する。 - 特許庁 - The carbon fiber is carbon nano fiber of a mean diameter of 0.7-500 nm and a mean length of 0.01-1,000 μm.
また前記炭素繊維は、平均直径が０．７〜５００ｎｍであって平均長さが０．０１〜１０００μｍであるカーボンナノファイバーである。 - 特許庁 - The objective lens 10 is formed of a lens material satisfying the condition of 1/(ν3.λ×10-6)<0.0045 by a relation with used wavelength λ nm.
対物レンズ１０は、使用波長λnmとの関係で、1／（ν^3・λ×10^-6）＜0.0045の条件を満たすレンズ材料により形成されている。 - 特許庁 - This ultraviolet ray insulating agent comprises particles having a band gap energy of 2.5-3.2 eV and an average particle diameter in the range of 1-500 nm.
バンドギャップエネルギーが２．５〜３．２ｅＶであり、かつその平均粒子径が１〜５００ｎｍの範囲にある微粒子からなる紫外線遮断剤。 - 特許庁 - In the carbon power, it is preferable to have <3370 nm distance between surface (d002) of the graphite layers measured by the X-ray diffraction method.
炭素粉末は、Ｘ線回折法による黒鉛層間の面間隔（ｄ００２）が０．３３７０ｎｍ未満であることがより好ましい。 - 特許庁 - The irradiation with light of 180-200 nm wavelength may be carried out immediately after or immediately before the pattern forming exposure.
前記波長１８０〜２００ｎｍの光照射は、パターン形成露光直後、または、パターン形成露光直前に行うことができる。 - 特許庁 - To provide a synthesized quartz glass with a superior optical transparency at wavelength of 157 nm and an extremely superior uniformity of the optical transparency.
波長１５７ｎｍにおける光透過性に優れ、かつ、その光透過性の均一性に極めて優れる合成石英ガラスの提供。 - 特許庁 - A sheet-forming body containing a composition including glass particles with a particle diameter of 8-300 nm and a polyamide resin is used for a diaphragm.
粒径８〜３００ｎｍのガラス粒子とポリアミド樹脂とを含んだ複合体を含有する抄造体を振動板として用いる。 - 特許庁 - The twisted yarn of the nanofiber aggregate has a single fiber diameter obtained by number average of 1-200 nm, and a twist of 500-1,200 t/m.
また数平均による単糸直径が１〜２００ｎｍ、５００〜１２００ｔ／ｍの撚りがされているナノファイバー集合体撚り糸。 - 特許庁 - When the thickness of the undercoat layer 4 is 20 μm, transmittance of the underlayer 4 to light of 950 nm wavelength is ≥85%.
下引層４の膜厚を２０μｍとしたときに、波長９５０ｎｍの光に対する下引層４の透過率は８５％以上である。 - 特許庁 - When the oxidation and nitriding of the SiOxNy film 3 are performed, the temperature and time of heating treatment are controlled so as to satisfy the relation of B-A≥1 nm.
このＳｉＯ_x Ｎ_y 膜３の酸窒化の際に、Ｂ−Ａ≧１ｎｍの関係を満たすように加熱処理の温度及び時間を制御する。 - 特許庁 - An object lens for an optical pickup device using a light source having a wavelength range from 400 to 410 nm is disclosed as an exemplary optical element.
光学素子の一例として、波長４００〜４１０ｎｍの光源を用いた光ピックアップ装置用の対物レンズが開示されている。 - 特許庁 - An ink receiving layer 15 obtained by mixing pigment fine particles having a secondary particle size of 400 nm with a transparent hydrophilic resin is used.
また、二次粒子径が４００ｎｍ以下の顔料微粒子を透明な親水性樹脂に混入したインク受容層１５を用いた。 - 特許庁 - To provide a method capable of producing a fibrous porous silica particle having a pore size of ≥8 nm without using an additive such as a fluoride.
フッ化物等の添加物を用いることなく、８ｎｍ以上の細孔径の繊維状多孔質シリカ粒子の製造をも可能とする。 - 特許庁 - The acrylic or methacrylic ester-based compound for the energy ray-curable type resin is represented by general formula (1) and has ≥1.56 refractive index (N_D^25) at 589 nm.
下記一般式(1)で表される589nmでの屈折率（N_D^25）が1.56以上であるエネルギー線硬化型樹脂用（メタ）アクリル酸エステル系化合物。 - 特許庁 - This antistatic film has a structure in which conductor particles each having a particle diameter of 0.5-10 nm are dispersed in a medium containing a nitride.
帯電防止膜は、０．５〜１０ｎｍの粒径を有する導体粒子が、窒化物を含む媒質中に分散配置された構造を有する。 - 特許庁 - With the dispersion compensating fiber, a wide-band transmission system can be manufactured together with a signal of wavelength up to 1,675 nm.
分散補償ファイバによって、１６７５ｎｍに達するまでの波長の信号とともに、広帯域型伝送システムの製作が可能になる。 - 特許庁
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