「nm」を含む例文一覧(14378)

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  • A wavelength of light emitted in curing the material for the retardation plate is preferably a predetermined wavelength (for example, 300 nm) or longer.
    位相差板の材料を硬化させる際に照射する光の波長は、所定の波長(例えば、300nm)以上であるのが好ましい。 - 特許庁
  • In this toner for electrostatic image development, fine particles for coloration preferably have a median diameter on a volume basis of 10-100 nm.
    この静電荷像現像用トナーにおいては、着色用微粒子の体積基準のメジアン径が10〜100nmであることが好ましい。 - 特許庁
  • To enable further reducing the absorbance of bicyclohexyl suitable as a liquid for liquid-immersion exposure with high light transmittance at 193 nm wavelength.
    193nmにおける透過性に優れる液浸露光用液体として好適なビシクロヘキシルの吸光度をより低下させることができる。 - 特許庁
  • To inexpensively manufacture an optical fiber preform 1 used for manufacturing a single-mode optical fiber with a low loss at a wavelength of 1,385 nm.
    波長1385nm帯において低損失なシングルモード光ファイバを製造するための光ファイバ母材1を安価に製造する。 - 特許庁
  • To provide a fabric which contains an organic fiber having a single-fiber diameter of 50 to 1,500 nm and has excellent aesthetics, and to provide textile products.
    単繊維径50〜1500nmの有機繊維を含む布帛であって審美性に優れた布帛および繊維製品を提供する。 - 特許庁
  • All surfaces of case parts 10 and 11 are given transmissivity of 10% or lower, with respect to the lights of all the wavelengths between 600 and 700 nm.
    ケース部10,11の全面が600〜700nmの全波長の光に対して透過率10%以下となるようにする。 - 特許庁
  • The LED lamp is formed when the phosphor and a blue light-emitting diode having a light emission peak wavelength at 430-470 nm are combined together.
    この蛍光体と、発光ピーク波長が430〜470nmである青色発光ダイオードとを組合せてLEDランプが形成される。 - 特許庁
  • This enables the fabrication of the deep ultraviolet light-emitting element structure having high luminous efficiency and having a wavelength ranging from 220 to 280 nm.
    これにより、発光効率の高い、波長220−280nmの深紫外発光素子構造を作製することができるようになる。 - 特許庁
  • The polishing composition contains colloidal silicon dioxide having average primary particle size of 7-40 nm, malonic acid, hydroxide, iron nitrate and water.
    平均一次粒子径が、7〜40nmである二酸化ケイ素と、マロン酸と、水酸化物と、硝酸鉄と、水とを含んでなる研磨用組成物。 - 特許庁
  • The catalyst is composed of a carrier containing complex oxide powder comprising ceria and alumina, which are dispersed in a nanometer scale, and a noble metal supported on the carrier.
    セリアとアルミナが共にnmスケールで分散してなる複合酸化物粉末を含む担体と、この担体に担持された貴金属とよりなる。 - 特許庁
  • The mean particle diameter of the antibacterial metal oxide fine particle (A) and conductive metal oxide fine particle (B) is in the range of 3-300 nm.
    抗菌性金属酸化物微粒子(A)および導電性金属酸化物微粒子(B)の平均粒子径は3〜300nmの範囲にある。 - 特許庁
  • To provide a radiation sensitive resin composition which can form a curing resin pattern having a high transmission factor at a wavelength of 400 nm.
    波長400nmにおいて高い透過率を有する硬化樹脂パターンを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
  • The blue laser beam with a center wavelength of 445 nm among the incident laser beams makes the phosphor 48 excite and emit white light.
    入射するレーザ光のうち中心波長445nmの青色レーザ光は、蛍光体48において白色光を励起発光させる。 - 特許庁
  • A porous film contains cationic polymer nanofiber with an average fiber diameter of 100 nm or less, and protein, wherein the protein is crosslinked.
    平均繊維直径100nm以下のカチオン性高分子ナノファイバーと、タンパク質とを含有し、該タンパク質が架橋されている多孔膜。 - 特許庁
  • By setting a film thickness to 400 to 1,000 nm, the piezoelectric element 139 having further improved piezoelectric characteristics can be obtained.
    また、膜厚が400nm以上1000nm以下とされることで、さらに圧電特性に優れた圧電素子139を得ることができる。 - 特許庁
  • The part in which the organic group is left in the organic SOG film in this process is located only about 200 nm from the bottom surface within the trench.
    この工程で前記有機SOG膜中に有機基が残留している部分は、トレンチ内部の底面から200nmだけになる。 - 特許庁
  • In the antibacterial ceramic product, metal nanoparticles with the average particle diameter of ≤200 nm at least including silver are made present in the surface.
    抗菌性窯業製品は、表面に、少なくとも銀を含む、平均粒子径200nm以下の金属ナノ粒子を存在させた。 - 特許庁
  • The fullerene of the thin film has a hollow section of 0.1-50 nm in size, and a paramagnetic material is included in the hollow section.
    フラーレンは、例えば大きさが0.1nm以上50nm以下の中空を有しており、この中空に常磁性材料が内包されている。 - 特許庁
  • To provide spherical polymer particles having diameters of 50 to 500 nm and specifically developing excellent chemical, thermal and physiological functions.
    直径50〜500nmの球状とし、化学的、熱的、物理的に優れた機能を特異的に発現するポリマー粒子を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a nanostructure, by which pores having diameters on the order of nanometers (nm) and having diameter decreasing in a tapered shape can be manufactured.
    ナノメートル(nm)の細孔で孔径が先細り形状の細孔を製造することができるナノ構造体の製造方法を得ること。 - 特許庁
  • The cutoff wavelength of the optical fiber is set to 990 to 1370 nm and then leaky mode loss is reduced to suppress clad mode loss.
    光ファイバのカットオフ波長を990nm〜1370nmとすることによりリーキーモードロスを抑制してクラッドモードロスを抑制する。 - 特許庁
  • The fluorescent particle 1 has 200 nm or more of a particle size, and a plurality of nano-spherical lenses 2 are stuck to the surface of the fluorescent particle 1.
    蛍光粒子1は、その粒径が200nm以上であり、その表面に複数のナノ球状レンズ2を付着させたものである。 - 特許庁
  • To manufacture superfine metallic particles of e.g. ≤10 nm in grain size with excellent reproducibility and with grain size made even.
    例えば粒径10nm以下というような超微細な金属超微粒子を再現性よくかつ粒径を揃えて作製することを可能にする。 - 特許庁
  • On a silicon carbide semiconductor substrate 2, an oxidation silicon 5 with a thickness of 0.5 to 2 nm is formed by a thermal oxidation method.
    炭化珪素半導体基板2上に、熱酸化法により、0.5nm〜2nmの範囲内の厚みを有する酸化珪素5を形成する。 - 特許庁
  • In a favorable embodiment, the grating is provided with a large cladding loss (larger than 20 dB) and a band width (larger than 20 nm).
    好ましい実施形態では、格子は大きなクラッディング損失(20dBより大きい)および帯域幅(20nmより大きい)を有する。 - 特許庁
  • The optical fiber 10 has a single mode and has an absolute value of wavelength dispersion of 5 ps/nm/km or less at a predetermined wavelength.
    光ファイバ10は、所定波長の光において単一モードであり、波長分散の絶対値が5ps/nm/km以下である。 - 特許庁
  • Since the depositing speed of the film is as low as 0.02-0.1 nm/pulse, the film thickness can be controlled in nanometer order by the integrated value of the laser pulse.
    膜の堆積速度は0.02〜0.1nm/pulseと低いため、レーザーパルスの積算数により、ナノメートルオーダーでの膜厚制御が可能である。 - 特許庁
  • The wavelength of the continuous wave laser beam 24 is 355-1,200 nm, and the intensity is 1 MW/cm^2-1 GW/cm^2.
    連続波レーザー光24の波長は355〜1200nmであり、かつ強度は1MW/cm^2〜1GW/cm^2である。 - 特許庁
  • Here, it is preferred that a diameter of a primary particle of this colloidal silica is 10-60 nm and that the content is 0.001-0.5 wt.%.
    ここで、該コロイダルシリカの1次粒子径が10〜60nmであること、含有量が0.001〜0.5重量%であることが好ましい。 - 特許庁
  • The method for decomposing hardly decomposable organic substances includes: mixing a liquid comprising hardly decomposable organic substances with fine bubbles in which the average bubble diameter lies in the range of 300 nm to 500 μm; and irradiating the mixture with ultraviolet rays having two wavelength peaks of 254 nm and 185 nm, and (1) the liquid comprises water and/or (2) the fine bubbles comprise oxygen.
    難分解性有機物質を含む液体に、平均気泡径が300nm〜500μmの範囲内の微細気泡を混合し、前記混合物に254nmと185nmの2つの波長ピークを持つ紫外線を照射する前記難分解性有機物質の分解方法であって、1)前記液体が水を含む及び/又は2)前記微細気泡が酸素を含む、前記難分解性有機物質の分解方法。 - 特許庁
  • This application provides this amorphous transparent conductive film characterized in that the value of Rmax being the maximum value of surface roughness is not smaller than 10 nm.
    表面粗さの最大値であるRmaxの値が、10nm以上であることを特徴とする非晶質透明導電膜を提供する。 - 特許庁
  • The metal structure is preferably dispersed with the deposited material or compound deposited material of Ti, Nb, V, Mo, and Zr of 3 to 200 nm in average grain size.
    金属組織は、平均粒径3〜200nmのTi,Nb,V,Mo,Zr系の析出物又は複合析出物が分散したものが好ましい。 - 特許庁
  • Then, the amount of Nb based precipitates is 20 to 500 mass ppm, the average grain size of the Nb based precipitates is 10 to 100 nm, and the average crystal grain size of ferrite is 6 to 10 μm.
    そして、Nb系析出物量が20〜500質量ppm 、Nb系析出物の平均粒径が10〜100nm、フェライト平均結晶粒径が6〜10μmである。 - 特許庁
  • At the surface treating process, a surface of the metal part 1 is made into a surface covered with recessed parts with number average inner diameter of 10 to 80 nm.
    まず、金属部品1の表面を、数平均内径10〜80nmの凹部で覆われた表面とする表面処理工程。 - 特許庁
  • The refractive index of the second layer 4 is within a range of 1.62-1.69 and thickness thereof is within a range of 65-89 nm.
    前記第二の層4の屈折率が1.62以上1.69以下の範囲、厚みが65nm以上89nm以下の範囲である。 - 特許庁
  • In the semiconductor device, an SiOC film 203 of 300 nm in thickness is formed by a plasma CVD method according to which the flow rate of a trimethylsilane gas is increased step by step.
    トリメチルシランガスの流量を段階的に増加させたプラズマCVD法によりSiOC膜203を300nm成膜する。 - 特許庁
  • The plurality of metal nanoparticles 36 are apart from a major surface of the first film 32 being a contact surface with the substrate by 5 to 80 nm.
    複数の金属ナノ粒子36は、基材との接触面となる第1の膜32の主表面から5〜80nmだけ離れている。 - 特許庁
  • A water-soluble dye having absorption maximum at 520-400 nm and a half-value width of absorbance of ≥100 nm is incorporated into a silver halide photosensitive material having at least silver halide emulsion layers capable of developing cyan, magenta and yellow on a reflective support and subjected to exposure with a multi-channel blue LED (light emitting diode) light source having a maximum wavelength of 500-400 nm.
    反射支持体上に少なくともシアン、マゼンタ、イエローを発色可能なハロゲン化銀乳剤層を有し、極大波長500nm〜400nmの多チャンネルBlueLED光源で露光するハロゲン化銀感光材料が、吸収極大520nm〜400nm、吸光度の半値巾が100nm以上の水溶性染料を含有することを特徴とするハロゲン化銀感光材料及び面積階調画像形成方法。 - 特許庁
  • Because of the high brightness of field-emission sources, they are preferred in scanning instruments which require electron probes of 0.5 nm diameter.
    電界放出源の高輝度のために、それら(電界放出源)は0.5nm径の電子プローブを必要とする走査装置に優先的に選ばれる。 - 科学技術論文動詞集
  • The action of anodes 1 and 2 behaves as an electrostatic lens to form a focused electron probe with a diameter of about 10 nm as an image of the source.
    陽極1と2の作用は静電レンズとして機能し、直径約10nmの集束された電子プローブを光源の像として形成する。 - 科学技術論文動詞集
  • The first carbon black has an average primary grain size of 55 nm, a specific surface of 29 m^2/g, and a DBP absorbing amount of 130 ml/100g.
    第一カーボンブラックは、平均一次粒径55nm、比表面積29m^2 /g、DBP吸収量130ml/100gである。 - 特許庁
  • Further, the molded product composed so as to block out the light having the wavelengths of ≤520 nm has, in combination, the antibacterial property and the characteristic of preventing insects from coming flying.
    520nm以下の波長を実質的に遮断するようにした成形体は、抗菌性と昆虫飛来防止性とを兼備する。 - 特許庁
  • The waveguide has a dielectric layer, and a metal nanoparticle group dispersed into the dielectric layer, wherein each particle size of the metal nanoparticles is in the range of 4 nm-100 nm, and the ratio between a distance between centers of each metal nanoparticle and the diameter of each metal nanoparticle is in the range of 1.1-3.8.
    誘電体層と、誘電体層内に分散された金属ナノ粒子群を有し、金属ナノ粒子の粒径が4nmから100nmの範囲にありかつ金属ナノ粒子の中心間の距離と金属ナノ粒子の直径との比が1.1から3.8の範囲にある。 - 特許庁
  • This filter for a plasma display panel includes a layer having one minimal value of transmittivity in each of wavelength regions of 580-600 nm and 470-520 nm, and a layer containing ultraviolet absorber , a near infrared ray cut layer, an electromagnetic wave shield layer, a reflection preventing layer and a non-glare layer as the need arises.
    580〜600nmの波長域及び470〜520nmの波長域に透過率の極小値を1つずつ持つ層と、必要に応じて紫外線吸収剤を含有する層、近赤外線カット層、電磁波シールド層、反射防止層、ノングレア層を設けたプラズマディスプレイパネル用フィルター。 - 特許庁
  • In a method in which the photocurable composition is applied on the surface and cured by being irradiated with light the wavelength of which is at least 300 nm, a radiation apparatus fitted with a heat ray cutting filter in the radiation direction of the lamp having an emission spectrum of at least 300 nm wavelength is used.
    被塗面に光硬化型組成物を塗布後に300nm以上の波長の光を照射して硬化せしめる方法において、該光照射に300nm以上の波長に発光スペクトルを有するランプの照射方向に熱線カットフィルターを装着してなる照射装置を用いる。 - 特許庁
  • The planographic print master has a photosensitive layer containing zinc oxide and at least two kinds of dyes layered on a base material, wherein the two kinds of dyes have absorption wavelength ranges of 620 to 660 nm (dye A) and 380 to 570 nm (dye B).
    本発明の平版印刷マスターは、基材上に、酸化亜鉛および少なくとも2種類の色素を含有する感光層を積層してなる平版印刷マスタ−であって、該2種類の色素が620〜660nm(色素A)と380〜570nm(色素B)に吸収波長域を有することを特徴とする。 - 特許庁
  • The high-hardness, electrically conductive polycrystalline diamond is a polycrystal substantially comprising only diamond, wherein the diamond has a maximum grain size of ≤5,000 nm and an average grain size of ≤2,500 nm and the diamond particles contain ≥10 and ≤10,000 ppm phosphorus.
    実質的にダイヤモンドのみからなる多結晶体であって、ダイヤモンドの最大粒径が5000nm以下、平均粒径が2500nm以下で、ダイヤモンド粒子内にリンを10ppm以上10000ppm以下含むことを特徴とする、高硬度導電性ダイヤモンド多結晶体。 - 特許庁
  • To provide a method for producing a bulky gallium oxide single crystal having excellent light transmittance, in which the wavelength at the fundamental absorption end is the range of 250 to 260 nm and the internal transmittance is ≥80% in the wavelength region (ultraviolet region and visible light region) of 310-620 nm in the thickness of 0.4 mm.
    基礎吸収端が250〜260nmの範囲にあり、厚さ0.4mmにおける310〜620nmの波長領域(紫外光領域及び可視光領域)での内部透過率が80%以上の光透過率に優れたバルクの酸化ガリウム単結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a magnetic wall movement type magneto-optical recording medium which needs annealing processing for obtaining good recording/reproducing characteristics in a simple step when reproduction is carried out by using a blue purple laser with a wavelength of about 350 nm to 450 nm.
    以上のように、波長が350nmから450nm程度の青紫色レーザを用いて再生を行う場合、簡単な工程で良好な記録再生特性を得ることが可能なアニール処理を必要とする磁壁移動型光磁気記録媒体を提供することにある。 - 特許庁
  • A semiconductor light emitting element is provided whose light emitting wavelength is from 390 nm to 420 nm, having a luminescent color of near-ultraviolet to purple blue to which human visibility is low, and the wavelength of the light of the semiconductor light emitting device is transformed by a luminescent material having a monochromatic light emitting peak.
    発光波長が390nm乃至420nmで、人間の視感度が低い近紫外から紫青色の発光色を有する半導体発光素子を備え、この半導体発光素子の光の波長を、単色の発光ピークを有する蛍光体で変換する。 - 特許庁
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