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＜前へ 1 2 .... 87 88 89 90 91 92 93 94 95 .... 287 288 次へ＞- The dyeing of the polyamide-based fiber structure including a fibrous aggregate obtained by aggregating the polyamide-based fiber having a number-averaged single fiber diameter of ≥1 nm and ≤500 nm is carried out by dyeing the structure with a reactive dye, and carrying out a fixing treatment.
数平均による単繊維直径が１ｎｍ以上５００ｎｍ以下であるポリアミド系繊維が凝集した繊維状凝集体を含むポリアミド系繊維構造物を染色する際に、反応性染料を用いて染色を行い、次いでフィックス処理を行うことによって得ることができる。 - 特許庁 - The light-emitting diode 11 irradiates low-energy light near the hair root with 600-1,000 nm of wavelength except 870-910 nm range of the wavelength and controls the growth of hair by light absorption to the light absorbing component existing in a body around the area.
発光ダイオード１１は、８７０ｎｍ以上９１０ｎｍ以下の波長域を除く６００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の波長域の低エネルギーの光を毛根部付近に照射してその周囲に存在する体内既存の光吸収成分に光吸収させることで毛の成長を調節する。 - 特許庁 - A binder resin layer or an adhesive layer containing a visible light absorbing dye having an absorption maximum in a wavelength region from 580 nm to 600 nm is laminated on one surface of a transparent substrate so as to efficiently separate a green color and a red color to improve color reproducibility.
透明基材の一面に５８０ｎｍから６００ｎｍの間の波長領域に吸収極大値を有する可視光吸収色素を含有したバインダー樹脂層または粘着層を積層することにより、効率的に緑色と赤色を分離し色再現性を改善する。 - 特許庁 - To provide a fluorophor which has light-emitting characteristics having light-emitting peak wavelengths in a range of 580 to 680 nm and having a high light emission intensity and has excitation band characteristics having flat and highly efficient excitation bands for excitation light in a wide wavelength region of UV light to visible light (wavelengths 250 to 550 nm).
発光のピーク波長が580〜680nmの範囲にあり、高い発光強度を有するという発光特性を持ち、紫外〜可視光(波長250〜550nm)の広範囲な波長域の励起光に対し平坦で効率の高い励起帯を持つという励起帯特性を有する蛍光体を提供する。 - 特許庁 - The composition for optical recording contains a radical polymerizable monomer having a wavelength of λ_1 nm at which the molar extinction coefficient is not less than 5,000 mol l cm^-1 in an absorption spectrum ranging from 200 to 1,000 nm, a titanocene-based radical polymerization initiator, multifunctional isocyanate and multifunctional alcohol.
２００〜１０００ｎｍの範囲の吸収スペクトルにおいて、モル吸光係数が５，０００ｍｏｌ・ｌ・ｃｍ^-1以上となる波長λ_1ｎｍを有するラジカル重合性モノマー、チタノセン系ラジカル重合開始剤、多官能イソシアネートおよび多官能アルコールを含有する光記録用組成物。 - 特許庁 - The two-wavelength semiconductor laser 10 comprises a first semiconductor laser element 12A for emitting a laser beam of 780 nm, a second semiconductor laser element 12B for emitting a laser beam of 650 nm, and an optical detector 24 for controlling the output of the first laser element.
本２波長半導体レーザ装置１０は、７８０ｎｍのレーザ光を発光する第１の半導体レーザ素子１２Ａと、６５０ｎｍのレーザ光を発光する第２の半導体レーザ素子１２Ｂと、第１の半導体レーザ素子の出力制御用の光検出器１４とを備えている。 - 特許庁 - Seed light of pulse waveform output from the seed light generation unit 10 has a spectrum center wavelength in the range of 1054-1057 nm, and thereby a light beam LB of amplified pulse with which the surface of a workpiece W is irradiated also has a spectrum center wavelength in the range of 1054-1057 nm.
ここで、シード光発生部１０より出力されるパルス波形のシード光のスペクトル中心波長は１０５４〜１０５７ｎｍの範囲にあり、ひいては被加工物Ｗの表面に照射される増幅パルスの光ビームＬＢのスペクトル中心波長も１０５４〜１０５７ｎｍの範囲にある。 - 特許庁 - In the separator material for fuel cell, the Au plating layer 2-20 nm in thickness and 0.5-1.5 nm in arithmetic surface roughness (Ra) measured in a crystal grain of a metal substrate by an atomic force microscope is formed on a surface of the metal substrate.
金属基材の表面に、厚み２〜２０ｎｍで、かつ前記金属基材の結晶粒内において原子間力顕微鏡により測定した算術表面粗さ（Ｒａ）が０．５〜１．５ｎｍであるＡｕめっき層が形成されている燃料電池用セパレータ材料である。 - 特許庁 - To provide a silicate-based phosphor capable of emitting green-yellow-orange colored light good in color purity and having a single light-emitting band in the wavelength range of 520-600 nm when excited with light having a wavelength of 360-500 nm, being reduced in toxicity.
波長３６０ｎｍ乃至５００ｎｍの光で励起した際に、波長５２０ｎｍ乃至６００ｎｍに単一の発光バンドを有する色純度の良い緑−黄色−オレンジ光を放出可能であるとともに、毒性の低減されたケイ酸塩系蛍光体を提供する。 - 特許庁 - There is provided an epoxy resin composition which comprises a solid epoxy resin, a silica nanoparticle having an average particle diameter of ≥1 nm and ≤100 nm, and a silica particle having an average particle diameter larger than that of the silica nanoparticle and of ≥0.1 μm and ≤5.0 μm.
固形のエポキシ樹脂と、平均粒子径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であるシリカナノ粒子と、平均粒子径が前記シリカナノ粒子の平均粒子径よりも大きく、且つ０．１μｍ以上５．０μｍ以下であるシリカ粒子と、を含むことを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 - 特許庁 - There is provided the emulsion comprising dispersion particles containing at least an N-acylamino acid diester, dispersed in a water phase as an oil phase, and having a volume-average particle diameter of ≥1 nm and ≤100 nm, and at least one, aliphatic group-containing substituent-having polysaccharide.
Ｎ−アシルアミノ酸ジエステルを少なくとも含有し、油相として水相中に分散され且つ１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の体積平均粒子径を有する分散粒子と、少なくとも１種の、脂肪族基を含む置換基を有する多糖類と、を含む乳化物。 - 特許庁 - The active-carbon catalyst is characterized by having a nitrogen content in its carbon skeleton more than 0.4 wt.%, a pore volume of a micropore less than 1 nm in diameter less than 0.47 cm^3/g, and a pore volume of a micropore more than 1 nm in diameter less than 0.72 cm^3/g.
炭素骨格中の窒素含有量が０．４重量％より大きく、１ｎｍ未満のミクロ孔の細孔容積が０．４７ｃｍ３／ｇ未満であり、及び１ｎｍを超えるマクロ孔の細孔容積が０．７２ｃｍ３／ｇ未満であることを特徴とする活性炭触媒。 - 特許庁 - The calcium fluoride single crystal for vacuum ultraviolet optics, which contains lead in a concentration of ≤0.1 ppm and has transmission loss to light having the wave length of 153.4 nm of ≤0.5%/cm and transmission loss to light having the wave length of 157.6 nm of ≤0.3%/cm, is provided.
含有する鉛濃度が０．１ｐｐｍ以下、波長１５３．４ｎｍの光に対する透過損失が０．５％／ｃｍ以下、波長１５７．６ｎｍの光に対する透過損失を０．３％／ｃｍ以下である真空紫外光学用フッ化カルシウム単結晶を提供する - 特許庁 - An optical element 3, formed of a near infrared light cutting material, having a metal complex compound produced from a metal and an organic compound, and a synthetic resin material and which selectively does not passing light having a wavelength in the range of 650 nm-800 nm is interposed between an object 7 and an imaging means 4.
金属と有機化合物から生成される金属錯化合物を有する近赤外光カット材料と合成樹脂材料とで形成され、波長が概略６５０ｎｍ〜８００ｎｍの光を選択的に透過させない光学素子３を、被写体７と撮像手段４と間に配設する。 - 特許庁 - A column amplifier 20 is connected to an output of a photoelectric-conversion region 1, in which a plurality of unit pixels 1-nm respectively having a photodiode are arranged in a two-dimensional array shape, via a signal output line 9 so as to sequentially store a pixel signal of each read-out unit pixel 1-nm.
カラムアンプ部２０は、フォトダイオードを有する複数の単位画素１−ｎｍが二次元アレイ状に配置された光電変換領域部１の出力に、信号出力線９を介して接続され、読み出された各単位画素１−ｎｍの画素信号を順次蓄積する。 - 特許庁 - In the complex electrolyte membrane made of the metal oxide hydrate having proton conductivity and an organic polymer, the number of hydrated water of the metal oxide hydrate is set up to be 2.7 or more and 10 or less, and/or a particle size of the metal oxide hydrate is set up to be 1 nm or more and 10 nm or less.
プロトン導電性を有する金属酸化物水和物と有機高分子とで構成される複合電解質膜において、その金属酸化物水和物の水和水数を２．７以上１０以下及び／或いは金属酸化物水和物の粒径を１ｎｍ以上１０ｎｍ以下にする。 - 特許庁 - The conductive powder is made of a ruthenium oxide power covered with iridium oxide, the average particle diameter is 20-80 nm, the thickness of an iridium oxide coating film is 0.5-2 nm, and it contains 9-30 mass% of iridium oxide and 0.1-6 mass% of copper for the sum of ruthenium oxide and iridium oxide.
酸化イリジウムで被覆された酸化ルテニウム粉からなる導電粉であり、平均粒径が２０〜８０ｎｍ且つ酸化イリジウム被覆膜の厚さが０.５〜２ｎｍであり、酸化ルテニウムと酸化イリジウムの合計に対し酸化イリジウムを９〜３０質量％及び銅を０.１〜６質量％含有する。 - 特許庁 - The tungsten oxide fiber is a tungsten oxide fiber comprising a tungsten oxide and has an edge length of 1 nm to 500 μm, a long axis direction length of 5 nm to 10,000 μm, and an aspect ratio in the range of 5 to 300 and is characterized in that the constituent atoms are arranged regularly in the c axis direction.
タングステン酸化物からなり、一辺の長さが1nm〜500μｍであり、長軸方向の長さが5nm〜10000μｍであり、アスペクト比が5〜300の範囲にあるタングステン酸化物ファイバーであって、原子がｃ軸方向に規則正しく配列していることを特徴とする、タングステン酸化物ファイバー。 - 特許庁 - To detect irregularities in approximately 1 μm minute defects on the surface of a disk substrate by discrimination since spacing (amount of floatation) between a magnetic head and a magnetic disk is extremely narrow, namely, from several tens of nm to several nm, following improvement in the recording density in a hard disk device.
ハードディスク装置における記録密度の向上に伴い、磁気ヘッドと磁気ディスクとのスペーシング（浮上量）は数十ｎｍから数ｎｍと非常に狭くなってきており、ディスク基板表面の１μｍ程度の微小欠陥の凹凸を弁別して検出することは重要な解決課題である。 - 特許庁 - A multilayer dielectric film 72 consisting of four pairs of alternating SiO_2 film having a film thickness of 140 nm and TiO_2 film having a film thickness of 90 nm and constituting a high reflectivity film is formed on the upper surface and side face of the mesa post 70 and on the lower DBR resonator 54.
メサポスト７０の上面、側面及び両脇の下部ＤＢＲ共振器５４上には、高反射率膜を構成する、膜厚１４０ｎｍのＳｉＯ_２膜と膜厚９０ｎｍのＴｉＯ_２膜とが交互に４ペア積層した誘電体多層膜７２が成膜されている。 - 特許庁 - The electroconductive silicon nitride-based composite sintered body with ≤0.6 μm surface roughness (Ra) after electrical discharge machining and ≤200 nm average particle size can be obtained by grounding and mixing a silicon nitride powder and a metal powder until the average particle size of the silicon nitride powder becomes 30-60 nm, followed by forming and sintering.
窒化珪素粉末と金属粉末を、窒化珪素粉末の平均粒径が３０〜６０ｎｍになるまで粉砕混合し、成形、焼結すれば、放電加工後の面粗さ（Ｒａ）が０．６μｍ以下である平均粒径２００ｎｍ以下の導電性窒化珪素系複合焼結体を得られる。 - 特許庁 - The composite material comprises an elastomer, carbon nanofibers that are dispersed in the elastomer and have an average diameter of 0.7-15 nm and an average length of 0.5-100 μm, and carbon black having an average particle size of 10-100 nm and a DBP absorption of at least 100 ml/100 g.
複合材料は、エラストマーと、該エラストマーに分散された平均直径が０．７〜１５ｎｍかつ平均長さが０．５〜１００μｍのカーボンナノファイバーと、平均粒径が１０〜１００ｎｍかつＤＢＰ吸収量が１００ｍｌ／１００ｇ以上のカーボンブラックと、を含む。 - 特許庁 - The insulation film is made of an resin which includes an inorganic filler and a laser-beam absorbing agent, and has its laser-beam absorbing factor not smaller than 20% for the laser beam of 150-500 nm in wavelength, and further, has its absorption peak in the wavelength region of ±50 nm around the wavelength of its irradiated laser.
有機樹脂中に無機フィラーとレーザ光吸収剤とを含み、波長150〜500ｎｍにおいて光吸収率が20％以上であり、かつこれに照射されるレーザの波長に対して±50ｎｍの波長領域に吸収ピークを有する絶縁フィルムおよびこれを用いた多層配線基板。 - 特許庁 - The optical film for the display is obtained by providing a near-infrared ray absorption layer whose surface has ≥10 nm average surface roughness and ≥500 nm maximum protrusion height and which has ≤2% haze value of the obtained optical film on at least one surface of a base material film.
基材フィルムの少なくとも片面に、表面の平均表面粗さが１０ｎｍ以上で最大突起高さが５００ｎｍ以上であり、かつ、得られる光学フィルムのヘイズ値が２％以下となる近赤外線吸収層を設けることにより、ディスプレイ用光学フィルムを得る。 - 特許庁 - A slurry contains moisture, colloidal silica with an average primary particle diameter from 5 to 60 nm, non-fired cerium oxide with an average primary particle diameter from 5 to 60 nm, bivalent or higher organic acid without nitrogen atom and heterocycle compound with nitrogen and its pH is pH8 or more, and pH12 or less.
水と、平均１次粒子径５ｎｍ以上６０ｎｍ以下のコロイダルシリカと、平均１次粒子径５ｎｍ以上６０ｎｍ以下の非焼成酸化セリウムと、窒素原子を含まない２価以上の有機酸と、窒素含有ヘテロ環化合物とを含有し、ｐＨ８以上１２以下であることを特徴とする。 - 特許庁 - The filter for a plasma display panel includes a layer having each one minimum of the transmittance in the wavelength region from 580 to 600 nm and in the wavelength region from 470 to 520 nm, a layer containing a UV absorbent if necessary, a near IR ray cut layer, an electromagnetic wave shield layer, an antireflection layer and a non-glare layer.
５８０〜６００ｎｍの波長域及び４７０〜５２０ｎｍの波長域に透過率の極小値を１つずつ持つ層と、必要に応じて紫外線吸収剤を含有する層、近赤外線カット層、電磁波シールド層、反射防止層、ノングレア層を設けたプラズマディスプレイパネル用フィルター。 - 特許庁 - The AlN semiconductor includes a c-AlN single crystal film 4 having a thickness of about 1-5 μm, and is formed sequentially via a c-TiC single crystal layer 2 having a thickness of about 5-50 nm and a c-TiN single crystal layer 3 having a thickness of about 1-20 nm, on a single crystal Si substrate 1.
単結晶Ｓｉ基板１上に厚さ５〜５０ｎｍ程度のｃ−ＴｉＣ単結晶層２及び厚さ１〜２０ｎｍ程度のｃ−ＴｉＮ単結晶層３を順に介在して厚さ１〜５μｍ程度のｃ−ＡｌＮ単結晶膜４が形成されている。 - 特許庁 - The GaN semiconductor includes a c-GaN single crystal film 5 having a thickness of about 1-10 μm, and is formed sequentially via a 3C-SiC single crystal layer 3 having a thickness of about 100 nm to 1 μm and a BGaN mixed crystal layer 4 having a thickness of about 1-20 nm, on a single crystal Si substrate 1.
単結晶Ｓｉ基板１上に厚さ１００ｎｍ〜１μｍ程度の３Ｃ−ＳｉＣ単結晶層３及び厚さ１〜２０ｎｍ程度のＢＧａＮ混晶層４を順に介在して厚さ１〜１０μｍ程度のｃ−ＧａＮ単結晶膜５が形成されている。 - 特許庁 - Lights with respective wavelengths emitted from a 650 nm semiconductor laser 1 and a 780 nm semiconductor laser 3 are reflected in a synthesis mirror 2, transmitted sequentially through a 1st hologram 4 and a 2nd hologram 5, collimated through a collimate lens 6 and emitted to an optical recording medium 8 through an objective lens 7.
６５０ｎｍ半導体レーザ１と７８０ｎｍ半導体レーザ３から出射したそれぞれの波長の光は、合成ミラー２で反射し、第１ホログラム４及び第２ホログラム５を順に透過してコリメートレンズ６で平行光になって対物レンズ７により光記録媒体８に照射する。 - 特許庁 - Liquid crystal forming a liquid crystal layer 19 of the liquid crystal display panel contains first dichroic coloring matter which has the lowest absorbance in a wavelength range of 630 to 650 nm and second dichroic coloring matter having the lowest absorbance in a wavelength range of 660 to 680 nm.
本発明の液晶表示パネル１１の液晶層１９を構成する液晶は、波長が６３０〜６５０ｎｍの範囲で吸光度が最も低くなる第１の二色性色素と、波長が６６０〜６８０ｎｍの範囲で吸光度が最も低くなる第２の二色性色素とを含有している。 - 特許庁 - To provide an optical member which can be freely arranged to a UV light-emitting lamp or the periphery thereof, is highly resistant to light of shorter wavelength than 300 nm, and is not mixed with the emission by 185 nm excitation light.
紫外線発光ランプの発光強度の経時劣化を確認するため、当該紫外線発光ランプまたはその周辺に対して配置自在であり、３００ｎｍより短波長側の光に対する耐性が強く、しかも１８５ｎｍ励起光による発光と混ざり合うことのない光部材を提供する。 - 特許庁 - The copper insulation bonding wire is characterized in that an insulating film of a thermosetting resin containing a 50 to 200 nm thick thermosetting copolymer type polyimide resin as a main component is formed on the surface of a copper fine wire via a 10 to 100 nm thick palladium thin film layer.
銅極細線の表面に１０ｎｍ〜１００ｎｍ厚のパラジウム薄膜層を介して５０ｎｍ〜２００ｎｍ厚の熱硬化性共重合形ポリイミド樹脂を主成分とする熱硬化性樹脂からなる絶縁性被膜が形成されていることを特徴とする銅絶縁ボンディングワイヤ。 - 特許庁 - An electrophotographic photoreceptor includes a photosensitive layer containing a stilbene-based compound and a light-absorbing compound having absorbance (value in the case of using tetrahydrofuran solution) within a range of 420 nm to 520 nm reaching at least one maximum value.
感光層に、特定の構造を有するスチルベン系化合物と、４２０ｎｍ〜５２０ｎｍの範囲における吸光度（テトラヒドロフラン溶液とした時の値）が、少なくとも一つの極大値を有する光吸収性化合物とを含有する電子写真感光体を提供することにより解決する。 - 特許庁 - In the light-transmissive member of the polishing pad 1 thus obtained when the thickness is 2 mm, the transmissivity at one of wavelengths 400 to 800 nm is ≥0.1% or the integral transmissivity in some wavelength range between the wavelengths of 400 and 800 nm is ≥0.1%.
得られる研磨パッド１の透光性部材では、厚さを２ｍｍとした場合に、波長４００〜８００ｎｍの間のいずれかの波長における透過率が０．１％以上であるか、又は波長４００〜８００ｎｍの間のいずれかの波長域における積算透過率が０．１％以上である。 - 特許庁 - To provide a clathrate enclosing an organic compound larger than 1 nm in a size, which can not be enclosed by a conventional cyclodextrin, and smaller than 3 nm in a size, which can not be stably enclosed by a hollow fiber type organic nanotube, and a method for producing the same.
従来のシクロデキストリンが包接することの出来ない１ｎｍより大きなサイズであって、中空繊維状有機ナノチューブが安定に包接することの出来ない３ｎｍより小さいサイズの有機化合物を包接できる包接体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - Such a dyestuff is used as the organic dyestuff, as has the light absorbing characteristic to satisfy 1.1≤B/A≤2.2 (wherein A is an absorptance of the light having 650 nm wavelength; B is an absorptance of the light having 630 nm wavelength).
記録層に含まれる有機色素として、波長６５０ｎｍの光に対する光吸収率をＡ、波長６３０ｎｍの光に対する光吸収率をＢとしたときに、それらの比率Ｂ／Ａが１．１≦Ｂ／Ａ≦２．２を満足するような光吸収特性を有する色素を用いる。 - 特許庁 - To provide an ophthalmologic lens including a dye which is more flexibly usable and absorbs at least the majority of purple light within a wavelength range not higher than about 430 nm, while is almost transparent against blue light within a wavelength range of about 450-460 nm.
より柔軟に使用することができ、約４３０ｎｍ以下の波長範囲の紫色光を少なくとも大部分吸収し、また一方、約４５０〜４６０ｎｍの波長範囲の青色光に対しては少なくともほとんど透明である染料を含む眼科用レンズを提供する。 - 特許庁 - The resin ultraviolet curing device 100 with a dry-cleaning function radiates ultraviolet rays having the wavelength of about 185 nm and 254 nm from the ultraviolet ray source 30 through the ultraviolet ray transmission window 20 while supplying oxygen from an oxygen cylinder 50 to the inside of a case body 10 for curing.
乾式洗浄機能付き紫外線樹脂硬化装置１００は、硬化用筐体１０内部に酸素ボンベ５０から酸素を供給しながら、紫外線透過窓２０を介して紫外線源３０から波長約１８５ｎｍ及び２５４ｎｍの紫外線を照射する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition to be used for laser beam in a vacuum UV region of 1 nm to 190 nm, the positive resist composition containing an acid generating agent and an acrylic resin which undergoes a change in solubility to an alkaline aqueous solution by the effect of an acid.
酸の作用によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が変化するアクリル系樹脂および酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、１ｎｍ〜１９０ｎｍの真空紫外領域のレーザー光に使用するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - The metal fine line catalyst is provided with a porous body having a pore of which a center pore is formed in the pore and of which an average diameter is 1 nm to 50 nm and an average aspect ratio is 3 or more.
中心細孔直径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である細孔を有する多孔体と、細孔内に形成された、平均直径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり且つ平均アスペクト比が３以上である金属細線と、を備えることを特徴とする金属細線触媒。 - 特許庁 - The optical device includes base materials (36 and 53) having a circumferential surface (40) outside a light transmission region through which light can pass and transparent films (32 and 54) of which the reflectance of light with a wavelength of 1,000 nm or longer and shorter than 1,700 nm is 10% or more and which are provided on the above circumferential surface.
光が通過可能な光通過領域の外側に外周面（４０）を有する基材（３６，５３）と、波長１０００ｎｍ以上１７００ｎｍ未満の光の反射率が１０％以上であり、前記外周面に備えられた透明膜（３２，５４）とを含む光学装置。 - 特許庁 - An electrode side insulating film 25 having a film thickness of not less than 4 nm, a charge storage film 26, and a semiconductor side insulating film 27 having a film thickness of not less than 4 nm are laminated in this order on an inner surface of the through-hole 17, and a silicon pillar SP is embedded inside the through-hole 17.
貫通ホール１７の内面上には、膜厚が４ｎｍ以上である電極側絶縁膜２５と、電荷蓄積膜２６と、膜厚が４ｎｍ以上である半導体側絶縁膜２７とがこの順に積層されており、貫通ホール１７の内部にはシリコンピラーＳＰが埋設されている。 - 特許庁 - Then, an inner wall of the arc tube 11 is coated under a condition of N/S=2<(N/S)<7 when the phosphor amount having a peak of conversion efficiency between 300-340 nm after a mercury spectrum 253.7 nm is converted is N(mg) and an inner surface area to be coated is S(cm^2).
そして、発光管１１の内壁に、水銀スペクトルである２５３．７ｎｍを変換し、３００〜３４０ｎｍの間に変換効率のピークを持つ蛍光体量をＮ（ｍｇ）とし、塗布する内表面積をＳ（ｃｍ^２）としたときに、Ｎ／Ｓが、２＜（Ｎ／Ｓ）＜７での条件で塗布した。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition which is highly sensitive with respect to light having wavelength of 350 nm to 410 nm and excellent in terms of resolution, adhesion and developing property after exposure and has a good solubility with respect to solution and with which a stable throughput can be obtained and deposit on resist hardly occurs.
波長３５０ｎｍ〜４１０ｎｍの光線に対して非常に高感度であり、解像性、密着性、露光後の焼き出し性に優れるとともに、安定したスループットが得られ、更に溶剤に対する溶解性が良好で、レジストに析出物が発生し難い感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁 - The transparent laminated film 10 has a transparent titanium oxide layer 12 formed on at least one face of a transparent base material 11, has a thickness of the transparent titanium oxide layer 12 of 80-120 nm, an average particle size of 10-17 nm, and the brightness of 42-56 cd/m^2.
透明基材１１の少なくとも一方の面に形成された透明な酸化チタン層１２を有する透明積層フィルム１０において、透明酸化チタン層１２の厚みが８０〜１２０ｎｍであり、平均粒径が１０〜１７ｎｍであり、輝度が４２〜５６ｃｄ／ｍ^２である。 - 特許庁 - An analysis chip composed of a substrate and a cover member bonded to the substrate and having a space between the substrate and the cover member has fine particles enclosed in the space, and a surface of each fine particle has a central average roughness (Ra value) of 40 nm or greater to 300 nm or less.
基板と該基板と接着されたカバー部材からなり、該基板と該カバー部材との間に空隙を有する分析チップであって、該空隙に微粒子が封入されており、該微粒子の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ値）が４０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である分析チップを提供する。 - 特許庁 - The biological tissue extract holding substrate includes a first layer provided with pores having an average pore diameter of 5 nm or above and below 100 nm, and a thickness of below 1 μm; and a second layer provided with pores having an average pore diameter of 0.1-1 μm, and a thickness of 0.5 mm or more.
本発明の生体組織抽出物保持基板は、平均孔径が５ｎｍ以上１００ｎｍ未満の細孔を有し、厚さが１μｍ未満である第１層と、平均孔径が０．１μｍ以上１μｍ以下の細孔を有し、厚さが０．５ｍｍ以上である第２層を有する。 - 特許庁 - The substrate for interlayer insulation is composed of a polyester film specified by the followings: a centerline average roughness Ra at either surface of the film is in the range of 20-60 nm; the maximum height Rt is at most 500 nm; the thickness of the film is in the range of 20-100 μm.
一方のフィルム表面の中心線平均粗さＲａが２０〜６０ｎｍの範囲であり、かつ最大高さＲｔが５００ｎｍ以下であり、フィルムの厚さが２０〜１００μｍの範囲であるポリエステルフィルムからなることを特徴とする層間絶縁用支持体。 - 特許庁 - The average diameter of holes 10 and holes 11 inside an interlayer insulation film IL2 in a second fine layer 2 composed of porous Low-k film is adjusted to 1.0 nm or more but less than 1.45 nm in order to prevent an altered layer CL from being formed on the surface of the interlayer insulation film IL2 by process damage.
ポーラスＬｏｗ−ｋ膜からなる第２ファイン層の層間絶縁膜ＩＬ２内の空孔１０および空孔１１の平均径を１．０ｎｍ以上１．４５ｎｍ未満とすることで、プロセスダメージによって層間絶縁膜ＩＬ２の表面に変質層ＣＬが形成されることを防ぐ。 - 特許庁 - The liquid crystal display utilizes an optical compensation sheet composed of a polymer film with an in-plane retardation value in 20-70 nm range, with a retardation value in the thickness direction in 70-400 nm range and with ≥1 g scratch hardness of at least one surface thereof.
面内レターデーションの値が２０乃至７０ｎｍの範囲にあって、かつ厚み方向のレターデーションの値が７０乃至４００ｎｍの範囲にあるポリマーフイルムからなり、該ポリマーフイルムの少なくとも一方の表面の引掻き強度が１ｇ以上である光学補償シートを液晶表示装置に利用する。 - 特許庁
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