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＜前へ 1 2 .... 90 91 92 93 94 95 96 97 98 .... 287 288 次へ＞- The heat generating resistor film 13 which generates heat energy by the current flowing from a wiring 14 at a heat working part 17 of the base for the recording head comprises noncrystalline silicon nitride tantalum having a sheet resistivity of 200 Ω/square or more to 400 Ω/square or less and its film thickness is 30 nm or more to 80 nm or less.
記録ヘッド用基体の熱作用部１７にて、配線１４から流れる電流により熱エネルギーを発生させる発熱抵抗体膜１３は、シート抵抗が２００Ω／□以上４００Ω／□以下の非晶質窒化珪素タンタルからなり、膜厚が３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下である。 - 特許庁 - The transmission loss P when dried and a transmission loss difference L between at the time of saturation water absorption and when dried are in a wavelength region that satisfies at least one of 0≤L/P1≤1, 0<L≤100, and 0<L+P1≤200 in the wavelength regions of 500 to 720 nm and 785 to 810 nm.
乾燥時の伝送損失Ｐと、飽和吸水時と乾燥時との伝送損失の差Ｌとが、５００〜７２０ｎｍ、７８５〜８１０ｎｍの波長領域では０≦Ｌ／Ｐ１≦１、０＜Ｌ≦１００、０＜Ｌ＋Ｐ１≦２００の少なくともいずれかひとつをみたす波長領域となる。 - 特許庁 - In a cathode luminescence that contains titanium oxide, and accelerating voltage is 1 to 30kV, preferably about 5kV, the intensity of a luminescent light with wavelength of 350 to 700 nm, preferably 400 to 650 nm is within the range of 30,000 cps (count per second) or less, more preferably 20,000 cps or less.
酸化チタンを含み、加速電圧１〜３０ｋＶ、好ましくは５ｋＶ程度のカソードルミネッセンスにおいて、波長３５０〜７００ｎｍ、好ましくは４００〜６５０ｎｍのルミネッセンス光の強度が３００００ｃｐｓ（count per secound ）以下、より好ましくは２００００ｃｐｓ以下の範囲である。 - 特許庁 - Relating to the multicolor image formed by an electrophotographic method by using the multicolor toner, the excellent color reproducibility is obtained because the reflectance of a magenta curve SM1 for 400-500 nm is set as about 40%, and excellent saturation is obtained because the inclination of a yellow curve SY1 near 500 nm is large, so that a color reproducibility width is large.
このような多色用トナーを用い電子写真法で形成した多色画像は、マゼンタ曲線ＳＭ１の４００〜５００ｎｍの反射率が４０％程度で色再現性が高く、イエロー曲線ＳＹ１の５００ｎｍ付近の傾きが鋭く彩度が高く、色再現幅が広い。 - 特許庁 - The first phase difference plate 13 is a uniaxial phase difference plate having negative refractive index anisotropy, has a thickness-directional phase difference value set to a range of 220 nm-1,320 nm, and has an optical axis perpendicular to the first and second glass substrates 4, 5 for sandwiching the liquid crystal layer 8.
該第１の位相差板１３は、負の屈折率異方性を有する一軸性位相差板であって、厚さ方向の位相差値が２２０ｎｍ〜１３２０ｎｍの範囲に設定され、液晶層８を挟持する第１，第２のガラス基板４，５に垂直な光軸を有する。 - 特許庁 - Carbon fibers having a crystal structure in which a surface separation d (002) is 0.343 nm or less, and the size of crystal unit Lc (002) is 4.0 nm or more are knitted in string or braid state to form the carbon wire exothermic body, and this is encapsulated into a gualtz glass member.
面間隔ｄ（００２）が０．３４３ｎｍ以下、かつ、結晶子の大きさＬｃ（００２）が４．０ｎｍ以上の結晶構造を有する炭素繊維を編紐あるいは組紐状に編み込んだカーボンワイヤーを発熱体とし、該発熱体を石英ガラス部材中に封入されている。 - 特許庁 - In a magnetic recording medium in which a magnetic layer 2 having a thickness of 50 nm or less is formed on a surface of one side of a non-magnetic support 1 by evaporating Co by electron beam heating, an average particle diameter of Co to be deposited is controlled to 10 nm or less by raising intensity of the electron beam.
非磁性支持体１の一方の面に、電子ビーム加熱によってＣｏを蒸発させて、厚みが５０ｎｍ以下の磁性層２を形成する磁気記録媒体において、前記電子ビームの強度を上げて、前記蒸着されるＣｏの平均粒径を１０ｎｍ以下に制御する。 - 特許庁 - Acetylene black, and at least either one of low graphitized graphite, in which a spacing d_002 of the 002 inter-planar distance of carbon lattice is 0.337 nm or larger, and its length in the direction of the C axis is 12 nm or smaller, or amorphous carbon crushed to a prescribed particle size and classified are used for the conductive material.
導電材には、アセチレンブラックと、炭素結晶格子の００２面間距離ｄ_００２が０．３３７ｎｍ以上、Ｃ軸方向の長さＬｃが１２ｎｍ以下の黒鉛化の低い黒鉛及び所定の粒径に粉砕、分級した非晶質炭素のすくなくともいずれか一方とを用いた。 - 特許庁 - The protective film 32 has an SiN film of 20 nm thick for generating a compressive stress as a first protective film 32a and an SiO2 film of 20 nm thick for generating a tensile stress as a second protective film 32b in the form of a two-layer laminate structure.
保護膜３２は、第１の保護膜３２ａとして成膜され、圧縮応力を発生させる膜厚２０ｎｍのＳｉＮ膜と、第２の保護膜３２ｂとして成膜され、引っ張り応力を発生させる膜厚２０ｎｍのＳｉＯ_2 膜との２層の積層構造として形成されている。 - 特許庁 - A multilayer film made of a niobium oxide film with the film thickness of 5 nm and the refractive index of 2.30 and a silicon oxide film with the film thickness of 55 nm and the refractive index of 1.45 is formed on a lower layer side of the first light-transmitting electrode pattern 11 and the second light-transmitting electrode pattern 12.
また、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の下層側には、膜厚が５ｎｍで屈折率が２．３０のニオブ酸化膜、および膜厚が５５ｎｍで屈折率が１．４５のシリコン酸化膜からなる多層膜が形成されている。 - 特許庁 - The biaxially oriented polyester film has at least one layer that is a polymer layer having 1.2-1.6 refractive index, 3-30 nm central line average roughness Ra_A of one surface (side A) and 0.5-10 nm central line average roughness Ra_B of the other surface (side B).
または、屈折率が１．２〜１．６であるポリマー層を少なくとも１層有し、かつ一方の表面（Ａ面）の中心線平均粗さＲａ_Ａが３〜３０ｎｍであり、もう一方の表面（Ｂ面）の中心線平均粗さＲａ_Ｂが０．５〜１０ｎｍである二軸配向ポリエステルフィルムとする。 - 特許庁 - The surface of a wood-based filler such as wood flour, etc., is previously provided with a thin film composed of a metal or an inorganic compound, especially a metal or an inorganic compound having electroconductivity and about 2-50 nm, preferably about 5-50 nm thickness by a vacuum deposition method, a sputtering method, etc.
木粉等の木質系充填剤の表面に、予め真空蒸着法又はスパッタリング法等により、金属又は無機化合物、特に金属又は導電性の無機化合物からなる、厚さが２〜５００ｎｍ程度、好ましくは５〜５０ｎｍ程度の薄膜を形成しておく。 - 特許庁 - A hexagonal ferrite particle powder for a magnetic recording medium has an average plate surface diameter of 10 to 30 nm, and there is a relationship of following formula (1) between the average plate surface diameter (L) (nm) and a BET specific surface area value(SSA) (m^2/g) of the hexagonal ferrite particle powder.
六方晶フェライト粒子粉末の平均板面径が１０〜３０ｎｍであり、該六方晶フェライト粒子粉末の平均板面径（Ｌ）（ｎｍ）とＢＥＴ比表面積値（ＳＳＡ）（ｍ^２／ｇ）が下記式（１）の関係にある磁気記録媒体用六方晶フェライト粒子粉末である。 - 特許庁 - The substrate 2 is made by applying a yellow coating (ink) 8 on a base material 7, the LED chip 5 emits blue light with wavelengths of approximately 380 to 480 nm, and the phosphor of the sealing resin 6 emits light with a wavelength range of approximately 480 to 780 nm by being excited with the blue light.
基板２は基材７に黄色の塗料（インク）８を塗布してなり、ＬＥＤチップ５は略３８０〜４８０ｎｍの波長の青色光を発光し、封止樹脂６の蛍光体は青色光により励起されて略４８０〜７８０ｎｍの波長域の光を発光する。 - 特許庁 - The sulfidation resistance of a silver-base material coating is further improved by making a concentration gradient of silver, oxygen and of one or more oxidizable alloying elements that may be present in the material, from the free surface of the coating up to a depth between 10 nm and 1 μm and more particularly between 100 nm and 1 μm.
銀系材料被覆の耐硫化性は、被覆の自由表面から１０ｎｍ〜１μｍ、特に１００ｎｍ〜１μｍの深さまで、銀、酸素および材料中に存在することがある一種以上の酸化し得る合金化元素の濃度勾配を形成することにより、さらに改良される。 - 特許庁 - The activated carbon for removing the siloxane characteristically has pores with a mean pore size of 2.4-3.5 nm and with pore volumes of 0.65-1.4 ml/g, or the maximum peak pore volume of the activated carbon for removing the siloxane is characteristically shown at pore diameters of 2.0 nm or larger.
平均細孔直径が２．４〜３．５ｎｍで、且つ細孔容積が０．６５〜１．４ｍｌ／ｇであることを特徴とするシロキサン除去用活性炭、又は細孔容積の最大ピークが２．０ｎｍ以上の細孔直径で示されることを特徴とするシロキサン除去用活性炭とする。 - 特許庁 - To provide an optical information recording medium, to and from which recording and regeneration can be possible with semiconductor laser beams, the wavelength of which is shorter than that used in CD-R and DVD-R, especially shorter than 450 nm and is near 405 nm having a high versatility, and, at the same time, which has excellent recording characteristics.
ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長のレーザー光、特に波長４５０ｎｍ以下、とりわけ汎用性の高い波長４０５ｎｍ近辺の半導体レーザー光によって記録再生が可能であり、かつ優れた記録特性を有する光情報記録媒体を提供する。 - 特許庁 - A conductive metal layer 2 having 2 to 15 nm film thickness is formed on one principal surface of a non-magnetic supporting body 1, a magnetic layer 3 having 15 to 75 nm film thickness and a protective layer 4 are sequentially formed on the metal layer 2 and the conductive metal layer 2 is oxidized after the protective layer 4 is formed.
非磁性支持体１の一方の主面上に膜厚２ｎｍ〜１５ｎｍの導電性の金属層２を形成し、該金属層２の上に膜厚１５ｎｍ〜７５ｎｍの磁性層３と保護層４を順次形成し、前記保護層４形成後に導電性の金属層２を酸化させる。 - 特許庁 - In the GaN semiconductor, a single-crystal c-GaN film 5 having a thickness of about 1-10 μm is formed on a single-crystal Si substrate 1 through a single-crystal c-BP layer 3 having a thickness of about 50 nm to 1 μm and a single-crystal GaP layer 4 having a thickness of about 1-10 nm in this order.
Ｓｉ単結晶基板１上に厚さ５０ｎｍ〜１μｍ程度のｃ−ＢＰ単結晶層３及び厚さ１〜１０ｎｍ程度のＧａＰ単結晶層４を順に介在して厚さ１〜１０μｍ程度のｃ−ＧａＮ単結晶膜５が形成されている。 - 特許庁 - A photocurrent multiplying layer 2 is formed of a coevaporation film (a film thickness of 500 nm) of Me-PTC and PhEt-PTC, its both sides are nipped in a sandwich form between an ITO electrode 4 and an Au electrode 6 with a film thickness of 20 nm to constitute a cell, and the cell is supported by a glass substrate.
光電流増倍層２はＭｅ−ＰＴＣとＰｈＥｔ−ＰＴＣの共蒸着薄膜（膜厚５００ｎｍ）からなリ、その両側をＩＴＯ電極４と膜厚２０ｎｍのＡｕ電極６とでサンドイッチ状に挟んでセルを構成しており、ガラス基板１０により支持している。 - 特許庁 - An excitation light L2 from GaN semiconductor laser 114 is irradiated on the biological measurement site 10 and the generated fluorescence L3 is received via an image fiber 103 by a CCD image sensor 125 with an on- chip mosaic filter 123 composed of filters with transmission wavelength band about 480 nm and about 500 nm respectively.
ＧａＮ系半導体レーザ114 から励起光L2を生体測定部10に照射し、発せられた蛍光L3は、イメージファイバ103 を介して、透過帯域４８０nm近傍のフィルタと透過帯域５００nm近傍のフィルタから成るモザイクフィルタ123がオンチップされたＣＣＤ撮像素子125 に受光される。 - 特許庁 - A semiconductor film 5 having a flat main surface (having an RMS value less than 10 nm as a surface roughness and a P-V value less than 70 nm) is formed by crystallizing a silicon film 3 containing (several % of or preferably 0.1-10 atoms of) germanium and irradiating the film with a laser beam.
ゲルマニウム（数％、好ましくは０．１〜１０原子）を含むシリコン膜３を結晶化させてレーザー光を照射することによって、平坦な主表面（表面粗さとしてｒｍｓが１０ｎｍ未満、且つ、Ｐ−Ｖ値が７０ｎｍ未満）を有する半導体膜５を形成する。 - 特許庁 - Compositions characterized by the presence of an aqueous base-soluble polymer having aromatic part and a refractive index value n of less than 1.5 with respect to a radiation wavelength of 193 nm have been found to be especially useful as top antireflective coatings in 193 nm dry lithographic processes.
芳香族部分及び１９３ｎｍの放射波長に対して１．５未満の屈折率値ｎを有する、塩基水溶液に可溶なポリマーの存在を特徴とする組成物は、１９３ｎｍドライ・リソグラフィ工程における上面反射防止コーティングとして特に有用であることを見出した。 - 特許庁 - The polyester film containing voids has an average spectral reflectance to an electromagnetic wave of 450 nm wave-length of 98.0% or more, and the difference of spectral reflectance to 450 nm electromagnetic wave for one side and the other side is less than 6.0% in absolute value.
波長４５０ｎｍの電磁波に対する平均分光反射率が９８．０％以上で、かつフィルムの片面とその反対面における波長４５０ｎｍの電磁波に対する分光反射率の差の絶対値が６．０％未満であることを特徴とする空洞含有ポリエステル系フィルム。 - 特許庁 - The garment comprises nano-porous polyamide fibers having minute holes with a diameter of ≤100 nm, and obtained by using nano-porous polyamide fiber where the area ratio of minute holes having a diameter of ≥200 nm is ≤1.5% on the basis of whole the cross sectional surface of the fiber.
上記目的は、直径１００ｎｍ以下の細孔を有するナノポーラスポリアミド繊維であって、繊維横断面全体に占める直径２００ｎｍ以上の細孔の面積比が１．５％以下であるナノポーラスポリアミド繊維を少なくとも一部に用いることにより達成される。 - 特許庁 - The hydrogen storage carbon material has a micro graphite structure 2 comprising crystallites each having an order La in the a-axis direction of ≤50 nm and an order in the c-axis direction of ≤10 nm and is produced by a method comprising mechanically pulverizing a powdery or scale-like carbon material with a ball mill.
ａ軸方向の秩序Ｌａが５０ｎｍ以下、かつｃ軸方向の秩序Ｌｃが１０ｎｍ以下の結晶子のマイクログラファイト構造２を有し、粉末またはリン片状の炭素材料をボウルミルで機械的粉砕を行い製造する水素貯蔵用材料およびその製造方法である。 - 特許庁 - The fabric has a woven fabric texture or a knitted fabric texture and comprises a polyester filament yarn A having a single filament diameter of 10-1,000 nm and a filament yarn B including a conductive substance and/or an antistatic substance and has a single filament diameter of more than 1,000 nm.
織物組織または編物組織を有する布帛であって、単繊維径１０〜１０００ｎｍのポリエステルフィラメント糸Ａと、導電性物質および／または制電性物質を含み単繊維径１０００ｎｍより大のフィラメント糸Ｂとを含むことを特徴とする布帛および繊維製品。 - 特許庁 - The laser light source device comprises nano-column laser diodes each having 100 or more columnar emitters oscillating laser light having a corresponding wavelength for each pitch, where the entire width of laser oscillation wavelength is controlled to 5-10 nm and 0.1-0.2 nm is one pitch in the range of the entire width of laser oscillation wavelength.
全体のレーザ発振波長幅が５ｎｍ〜１０ｎｍに制御され、全体のレーザ発振波長幅の範囲内で０．１〜０．２ｎｍを１刻みとし、１刻み毎に対応する波長のレーザ光を発振する柱状のエミッタを少なくとも１００本以上ずつ有するナノコラムレーザダイオードを備える。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition showing sufficient transmittance when light of ≤200 nm, in particular F_2 excimer laser light (157 nm), is used, and having low line edge roughness and less development defects and scum.
２００ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及びスカムが少ないポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁 - The pigment dispersion is produced by dispersing pigment particles in an aqueous medium wherein the pigment particles have a resin being present in at least a part of the surface thereof with an average particle size of not more than 80 nm and a maximum particle size of not more than 220 nm.
顔料分散体は、顔料粒子が水性媒体中に分散してなる分散体であって、前記顔料粒子は、表面の少なくとも一部に樹脂が存在してなる粒子であり、その平均粒子径は８０ｎｍ以下、最大粒子径は２２０ｎｍ以下である。 - 特許庁 - To provide a half mirror, with which polarization plane control is facilitated, suitable for use as a beam splitter for splitting an emitted beam and a returned beam from light sources by making equal light transmission/ reflection characteristics due to laser beams having the wavelength of 650 nm and the wavelength of 780 nm.
波長６５０ｎｍおよび波長７８０ｎｍのレーザ光に対する光透過・反射特性を同一にすることで、これらの光源からの出射光と戻り光を分離するビームスプリッタとして用いるのに適した偏波面調整が容易なハーフミラーを提案すること。 - 特許庁 - The photosensitive lithographic printing plate has a photopolymerizable photosensitive layer on a supporting body and contains a compound expressed by general formula (1) and a sensitizing dye compound having the absorption maximum wavelength in the range from 350 nm to 450 nm.
支持体上に、光重合性感光層を有する感光性平版印刷版において、下記一般式（１）で表される化合物と、吸収極大波長が３５０ｎｍ〜４５０ｎｍである増感色素化合物とを含有することを特徴とする感光性平版印刷版。 - 特許庁 - The optical film comprises a polymer film produced by the melt extrusion film forming method and having a thickness of ≤95 μm, wherein the optical film contains a compound having an absorption maximum at a wavelength of ≤400 nm and has a spectral transmittance, at a wavelength of 380 nm, of ≤10%.
光学フィルムは、溶融押出し製膜法により作製されかつ膜厚９５μｍ以下を有するポリマーフィルムよりなるもので、波長４００ｎｍ以下に吸収極大を有する化合物を含有するものであり、波長３８０ｎｍでの分光透過率が１０％以下である。 - 特許庁 - The image-forming material comprise a near infrared light absorbing pigment which substantially does not absorb rays in the visible wavelength range of 400-750 nm and has an absorption band having a molar extinction coefficient of ≥108 cm2/mol in the near infrared wavelength range of 750-1,000 nm.
４００〜７５０ｎｍの可視光波長領域の光を実質的に吸収せず、７５０〜１０００ｎｍの近赤外光波長領域にモル吸光係数１０^8ｃｍ^2／ｍｏｌ以上の吸収帯を有する近赤外吸収色素を含有することを特徴とする画像形成材料。 - 特許庁 - The titanium dioxide dispersion liquid in which the transmittance is 80% or more is manufactured by dispersing titanium dioxide fine particles having an average primary particle diameter of 1 nm or more and 30 nm or less in a solution containing at least diglyme as a solvent and trimethoxypropylsilane as a surface treatment agent.
溶媒であるジグライムと表面処理剤であるトリメトキシプロピルシランとを少なくとも含む溶液に、平均一次粒子径が１ｎｍ以上３０ｎｍ以下の二酸化チタン微粒子を分散させ、透過率が８０％以上であることを特徴とする二酸化チタン分散液。 - 特許庁 - This printing plate material has at least one image forming function layer on one face of a polyester film support having at lease one layer containing a white pigment, in which the image forming function layer side has a surface roughness Ra of 200 nm to 800 nm.
白色顔料を含有する層を少なくとも１層有するポリエステルフィルム支持体の一方の面に少なくとも１層の画像形成機能層を有し、画像形成機能層側の表面粗さＲａが２００ｎｍ以上８００ｎｍ以下であることを特徴とする印刷版材料。 - 特許庁 - Nano-particles of strongly-correlated substances 6 are synthesized, which comprise a compound in which a point symmetry property of a unit cell forms a lattice translation structure of a perovskite-type crystal structure, and an average maximum size (typically particle diameter size) is within a range of 0.1 nm to 100 nm.
単位胞の点対称性がペロブスカイト型結晶構造の格子並進構造を構成する化合物からなり、その平均最大寸法（一般的には粒子径寸法）が０．１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲にある強相関物質ナノ粒子６を合成する。 - 特許庁 - A pellicle film is bonded to at least the top of a pellicle frame with, an adhesive having ≥90%/μm light transmittance in the wavelength region of 190-800 nm and ≥93%/μm light transmittance in the wavelength region of 240-600 nm to obtain the objective pellicle for lithography.
少なくともペリクルフレームの上面に、ペリクル膜を接着したリソグラフィ用ペリクルであって、該ペリクル膜とペリクルフレームを接着する接着剤の光線透過率が、１９０ｎｍ〜８００ｎｍの光線波長領域において、９０％／μｍ以上であることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル。 - 特許庁 - A gear (second gear) higher than the selected gear (first gear) is set as a target EV gear and an upshift is performed into the target EV gear as represented by an arrow ε such that the motor speed Nm is reduced to Nm1 until ensuring an excess motor torque Tmovr1 solving the torque shortage.
このトルク不足が解消される余剰モータトルクTmovr1となるまでモータ回転数NmがNm1に低下するよう、現在の選択変速段（第1速）よりもハイ側の変速段（第2速）をEV時目標変速段と定め、矢εにより示すごとくこのEV時目標変速段へのアップシフトを行わせる。 - 特許庁 - A plant disease damage preventive lighting device 1 includes a first light source 2 that irradiates light including UV-C and UV-B (ultraviolet) of which a wavelength component of 250 nm or less is assumed as 0, and a second light source 3 that irradiates visible light having the peak wavelength in a wavelength region of 380-500 nm.
植物病害防除用照明装置１は、２５０ｎｍ以下の波長成分をゼロとしたＵＶ−ＣとＵＶ−Ｂ（紫外線）とを含む光を照射する第１の光源２と、波長域３８０〜５００ｎｍにピーク波長を有する可視光を照射する第２の光源３と、を備える。 - 特許庁 - The adhesive sheet for manufacturing a semiconductor device is an adhesive sheet for manufacturing a semiconductor device which is intended to adhere a semiconductor device to an adhesion-target body and is characterized in that it contains pigment which absorbs or reflects light in a wavelength region ranging from 290 nm to 450 nm.
本発明の半導体装置製造用の接着シートは、半導体素子を被着体に接着させる半導体装置製造用の接着シートであって、波長域が２９０〜４５０ｎｍの範囲内にある光を吸収又は反射させる顔料を含有することを特徴とする。 - 特許庁 - In TFT 10 having an active region formed of a crystalline silicon film 4 on a substrate 2, irregularities 41a and 42a which are in a similar degree as a wavelength of an ion beam or in a degree of 100 nm to 500 nm are formed on respective surfaces of a source region 41 and a drain region 42.
基板２上に結晶性シリコン膜４からなる活性領域を有するＴＦＴ１０において、ソース領域４１とドレイン領域４２の各表面にイオンビームの波長と同程度または１００ｎｍ〜５００ｎｍ程度の凹凸部４１ａ，４２ａを形成する。 - 特許庁 - In the photocatalyst coated metal panel, a coating film, wherein primary particles being titanium oxide fine particles having a mean particle size of 10 nm or less are flocculated so that a mean particle size becomes 500 nm or more to be dispersed and silica is sued as a binder, is formed on the surface of a metal panel.
平均粒径が１０ｎｍ以下の酸化チタン微粒子を一次粒子とし、当該一次粒子を平均粒径で５００ｎｍ以上に凝集させた二次粒子として分散させ、シリカをバインダーとする塗膜が金属板の表面に形成されていることを特徴とする。 - 特許庁 - A thermal oxidation process is carried out in a dry atmosphere, whereby a silicon oxide film 161 of thickness 3 nm is formed on the surface of the first region 11a of the silicon board 11, and a silicon oxide film 171 of thickness 6 nm is formed on the surface of a second region 11b of the silicon board 11 where no nitrogen ions are implanted.
乾燥雰囲気中で熱酸化を行い、第１の領域１１ａのシリコン基板１１の表面には厚さ３ｎｍのシリコン酸化膜１６_1 が形成され、窒素イオンが注入されていない第２の領域１１ｂには厚さ６ｎｍのシリコン酸化膜１７_1 が形成される。 - 特許庁 - For the combination of color filters for satisfying improved color reproduction precision in spectral color reproduction for estimating the spectral reflection factor of an object using the color filters, the number of filters is not less than 6, standard deviation σ ranges from 10 to 30 nm, and the deviation of a peak wavelength is not more than 15 nm.
カラーフィルタを用いて被写体の分光反射率を推定する分光的色再現では、良好な色再現精度を満たすカラーフィルタの組み合わせは、フィルタ枚数が６種類以上、標準偏差σが１０ｎｍから３０ｎｍまでの範囲、およびピーク波長のずれが１５ｎｍ以下である。 - 特許庁 - The optical polyamideimide film, having a glass transition temperature of 150°C or higher, an average light transmittance, in terms of a thickness of 100 μm in a wavelength range of 400-500 nm, of 80% or higher, and a retardation of 160 nm or lower, is obtained by using e.g. an alcohol solution of polyamideimide.
例えば、ポリアミドイミドのアルコール系溶液を用いることで、ガラス転移温度が１５０℃以上であり、波長領域４００から５００ｎｍにおける１００μｍ厚み換算平均光線透過率が８０％以上、かつレタデーションが１６０ｎｍ以下である光学用ポリアミドイミドフイルムを得る。 - 特許庁 - The ceramic particle 10 has a plurality of open pores 20 on the outer surface 10a thereof, an average pore size of the open pores 20 is 500 nm or more and 50 μm or less, a diameter of opening parts on the outer surface 10a of the open pores 20 is 300 nm or more and 20 μm or less.
本発明に係わるセラミックス粒子１０は、外表面１０ａに開気孔２０が複数設けられ、開気孔２０は、平均気孔径が５００ｎｍ以上５０μｍ以下であり、開気孔２０の外表面１０ａの開口部の口径は、３００ｎｍ以上２０μｍ以下である。 - 特許庁 - This ultraviolet light absorber characterized by comprising crystalline ceric oxide whose surface has been treated with a surfactant in an amount of 2 to 20 wt.% based on the ceric oxide, does substantially not contain particles having diameters of ≥200 nm, and has an average particle diameter of 30 to 100 nm and a specific surface area of ≤70 m2/g.
酸化第二セリウムに対して2〜20重量％の界面活性剤で表面処理され、実質的に200nm以上の粒子を含まない、平均粒子径30〜100nmであり、比表面積が70m^2/g以下であることを特徴とする結晶質酸化第二セリウムからなる紫外線吸収剤である。 - 特許庁 - To provide a heat-insulation paint, a heat-insulation film or a three-layered heat-insulation film and a heat-insulating fiber using a hollow nanoparticle made of a silica shell, by utilizing the heat-insulating property and transparency of the hollow particle made of the silica shell having an outside diameter ranging from about 10 nm to about 300 nm.
約１０ｎｍから約３００ｎｍまでの範囲の外径を有するシリカ殻からなる中空粒子の断熱性及び透明性を利用したシリカ殻からなるナノ中空粒子を用いた断熱塗料、断熱フィルム若しくは三層断熱フィルム及び断熱繊維を提供する。 - 特許庁 - The functional paper is obtained by compounding photocatalyst-carrying porous bodies which are obtained by coating the surfaces and insides of the fine pores of the porous bodies having a fine pore diameter distribution in the range of 20-30 nm in terms of radius with a photocatalyst under controlling so that the fine pore diameters after coating distributes in the range of 2-10 nm in terms of radius.
半径２０〜３０ｎｍの細孔径分布を有する多孔体の表面および細孔内に光触媒をコーティングした後の細孔径分布が半径２〜１０ｎｍである細孔径を制御した光触媒担持多孔体を配合したことを特徴とする機能紙。 - 特許庁
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