「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 94 95 96 97 98 99 100 101 102 .... 287 288 次へ＞- The metal is separated from the obtained metal vapor deposition film to obtain a plate-shaped metal particle having a thickness of 20 to 50 nm and an average particle size of 4 to 6 μm.
得られた金属蒸着フィルムから金属を分離させ、厚さ２０〜５０ｎｍ、平均粒径が４〜６μｍの板状金属粒子を得る。 - 特許庁 - The substrate layer contains no particles substantially and the coating layer contains inert particles with a mean particle size of 10-150 nm.
基材層には実質的に粒子を含有せず、被膜層には平均粒径１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の不活性粒子を含有する。 - 特許庁 - For a more rapid operation, it would be possible to select and output only the shorter wavelength side (515 nm) of the center of the emission spectrum.
さらに高速化を図る場合には、発光スペクトルの波長中心よりも短波長側のみ（５１５ｎｍ）を選択して出力してもよい。 - 特許庁 - The fixing light source 22 has, with LEDs 25 for Y having an emission peak wavelength of 435 nm arranged in matrix and mounted on the substrate 21.
定着光源２２は、発光ピーク波長が４３５ｎｍであるＹ用ＬＥＤ２５がマトリックス状に配列され、基板２１上に設けられている。 - 特許庁 - To provide an optical fiber which has an effective area larger than 100 μm^2 at a wavelength of 1,550 nm and meets constraint of G.652 standard.
１５５０ｎｍの波長で１００μｍ^２より大きな実効面積を有し、また、Ｇ．６５２規格の制約を満たす光ファイバを提供する。 - 特許庁 - This light-shielding film has an etching rate of 0.3 nm/sec or less in such a state that a substance containing fluorine is not irradiated with charged particles.
この遮光膜は、フッ素を含有する物質に対する荷電粒子の照射を受けない状態におけるエッチングレートが０．３ｎｍ／ｓｅｃ以下である。 - 特許庁 - To produce a thin film which is easily adjustable with a high reproducibility and has extremely uniform thickness in the range of <1 nm to micrometer.
再現性があり、容易に調整可能で１ｎｍ未満ないしミクロメートルの範囲で極めて一様な厚さを有する薄膜を作製する。 - 特許庁 - To provide a hardenable resin composition which can have superior surface hardenable property by irradiation with an active energy beam of 350 to 420 nm in wavelength.
波長３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの活性エネルギー線照射により優れた表面硬化性が得られる硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The wavelength of the light is set from 520 to 650 nm, and the light passes through the epidermis of the face, reaching dermis cells, to enhance the moisture-holding capacity inside the cells.
光は波長５２０〜６５０ｎｍに設定され、顔面の表皮を通過して真皮細胞に至り、細胞内の保水力を向上させる。 - 特許庁 - The operator of a photoelectron spectroscopic device inputs the wavelength λ (nm) of exciting X-rays and the density ρ (kg/m3) of a sample to be measured by using an inputting means 18.
オペレータは、入力手段１８により、励起Ｘ線の波長λ（ｎｍ）と被測定試料の密度ρ（ｋｇ／ｍ^3）を入力する。 - 特許庁 - To provide a method for producing a film by which a thin film exhibiting ≥45 nm Re (in-plane retardation) can be easily produced with high productivity.
Ｒｅを４５ｎｍ以上発現させた薄膜フィルムを簡便かつ高い生産性で製造できるフィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁 - As a result, a facet having a period ≥100 nm can be provided, and the length of a flat part of the facet can be increased relative to that of a conventional one.
その結果、一周期が１００ｎｍ以上のファセットが得られ、ファセットの平坦部分の長さを従来に比べて長くすることができる。 - 特許庁 - To provide a plated article having excellent adhesion properties and coated film strength even when a coated film layer has a thickness of ≥500 nm according to a coating method.
塗工方法によって塗膜層の厚みが５００ｎｍ以上となっても密着性や塗膜強度に優れためっき物を提供する。 - 特許庁 - To provide a phosphor which shows good light emission over the whole visible light region (wavelengths of about 450 to about 850 nm).
可視光領域（波長約４５０ｎｍ〜約８５０ｎｍ）全体にわたって良好な発光を示す蛍光体を提供することを目的とする。 - 特許庁 - There is provided a β-Si_3N_4 nanowire having a diameter of 40-1,000 nm and an aspect ratio of 50-5,000.
直径４０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であり、アスペクト比が５０以上、５０００以下であることを特徴とする、β−Ｓｉ_３Ｎ_４ナノワイヤー。 - 特許庁 - (Equation 1) t =0.9 λ/(wcos θ_B), (Equation 2)q =4π (sin θ_B)/λ, here, λ: wavelength of monochromatic X-ray used (nm), θ_B:Bragg angle.
ｔ＝０．９λ／（ｗｃｏｓθ_B）（式１）、ｑ＝４π（ｓｉｎθ_B）／λ （式２）ここで、λ：使用した単色Ｘ線の波長（ｎｍ）、θ_B：ブラッグ角である。 - 特許庁 - In the topcoat layer 14, an average thickness Dave is 2-50 nm and a variation ΔD in thickness is 40% or smaller of the average thickness Dave.
トップコート層１４は、平均厚みＤaveが２ｎｍ〜５０ｎｍであり、かつ厚みのバラツキΔＤが上記平均厚みＤaveの４０％以下である。 - 特許庁 - The electrically conductive metal particles include metal powder of ≥0.25 μm in center particle size and metal nanoparticles of ≤150 nm in center particle size.
導電性金属粒子は、中心粒径０．２５μｍ以上の金属粉と、中心粒径１５０ｎｍ以下の金属ナノ粒子とを含有する。 - 特許庁 - The protective material P has thickness ≥0.1 μm and ≤10 μm, is water-soluble, and has a property to transmit light of a wavelength of 355 nm.
保護材Ｐは、厚さが０．１μｍ以上１０μｍ以下であり、水溶性であり、３５５ｎｍの波長の光を透過する特性を有する。 - 特許庁 - To provide a multilayered film mirror which can compress the width of an optical pulse having a wavelength band of 500-770 nm to the order of several to several tens fs.
５００〜７７０ｎｍの波長帯域を有する光パルスの幅を数〜数十ｆｓオーダに圧縮可能な多層膜ミラーを提供する。 - 特許庁 - The compound has isocyanate groups on the surface of organic particles with a particle diameter of 1-50 nm and is a favorable raw material for polyureas and polyurethanes.
粒径１ｎｍ以上５０ｎｍ以下の有機粒子の表面にイソシアネート基を有する化合物で、ポリウレア、ポリウレタンの良好な原料となる。 - 特許庁 - On this layer, a semiconductor crystal layer 109 comprising an undoped Al_xGa_1-xN of 45 nm acting as a carrier supply layer is laminated.
この層の上に、キャリヤ供給層となる４５ｎｍのアンドープのＡｌ_x Ｇａ_1-x Ｎから成る半導体結晶層１０９が積層されている。 - 特許庁 - To provide a semiconductor laser element having a 600-660 nm wavelength band with improved current constriction layer and whose element surface is improved in planarity and crystallinity.
電流狭窄層の結晶性改善により特性が向上した波長６００〜６６０ｎｍ帯の半導体レーザ素子を提供する。 - 特許庁 - A slurry for finishing polish is specified to be a slurry formed by mixing colloidal silica having 70 to 140 nm particle diameter and pure water.
仕上げ研磨用のスラリーは、７０ｎｍ以上１４０ｎｍ以下の粒子径を有するコロイダルシルカと純水とが混合されたスラリーとされる。 - 特許庁 - The antireflective structure is formed as an uneven structure whose depth is between 120 and 800 nm by blackening the internal surface 15 of the housing.
反射防止構造は、筐体の内面１５を黒色化しかつ深さが１２０乃至８００ｎｍの範囲内の凹凸構造に形成した。 - 特許庁 - The fluorescent agent emits fluorescent light having a spectrum peak within a wavelength range of 400-500 nm by exciting with solar light.
ただし、この蛍光剤は太陽光の励起によりスペクトルのピークが４００〜５００ナノメートルの範囲内である蛍光を発光する蛍光剤である。 - 特許庁 - To provide a technique by which a change in a sample in the vertical direction at about 0.1 to hundreds nm can be detected in a short time in a range of several cm square and which can measure the change even in a solution.
数cm角範囲において約0.1nm〜数100nmの垂直方向の変化を短時間で検出でき、溶液中でも測定可能な手法。 - 特許庁 - The silicon-based thin film is composed of an aggregate of nano-sized silicon crystal gains having a mean particle diameter of 2-10 nm.
本発明によるシリコン系薄膜は、平均粒径２ｎｍ〜１００ｎｍのナノシリコン結晶粒子の集合体からなることを特徴とする。 - 特許庁 - The speed is reduced only temporarily, so the time for obtaining the oxide film thickness of 2.4 nm is made shorter than that of the speed-reduction unloading method.
一時的に減速するだけなので、酸化膜厚を２．４ｎｍにするための時間を減速アンロード方法よりも短くすることができる。 - 特許庁 - It is preferable that particulate iron having a particle diameter of ≥1 nm is not observed by microscopic observation with a transmission electron microscope (TEM).
好ましくは、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）観察により、粒子径１ｎｍ以上の粒子状の鉄が観測されない多孔質構造体。 - 特許庁 - To prepare a photocatalyst thin film showing high efficiency by irradiation of natural light, particularly light in a 600 to 250 nm wavelength region, and to provide a method for manufacturing the thin film.
自然光下、特に６００〜２５０ｎｍの波長域の光照射下において高効率な光触媒薄膜、及びその製造方法。 - 特許庁 - The near IR absorbing material 10 is ≤1% in the maximum voltage of the difference in the amplitude of the reflectance at a wavelength 500 to 650 nm of light.
この近赤外線吸収材１０は、光の波長５００〜６５０ｎｍにおける反射率の振幅の差の最大値が１％以下である。 - 特許庁 - This cleaning implement includes the dusting member formed of a fiber bundle, and the fiber bundle contains a filament yarn A having a monofilament diameter of 10-1,000 nm.
繊維束からなる払掃部材を有する清掃具であって、前記繊維束に、単繊維径が１０〜１０００ｎｍのフィラメント糸Ａが含まれる。 - 特許庁 - A new polyimide/silica hybrid hollow fiber and a new polyamide acid/silica hybrid hollow fiber both have an outer diameter of 10 nm-10 μm.
新規ポリイミド／シリカハイブリッド中空ファイバー及び新規ポリアミド酸／シリカハイブリッド中空ファイバーは、いずれも１０ｎｍ〜１０μｍの外径を有する。 - 特許庁 - The green fluorescent material is preferably used for emitting the light which is excited by the vacuum ultraviolet rays, for example, having the wavelength of ≤200 nm.
この緑色蛍光体は、例えば波長200nm以下の真空紫外線で励起して発光させる用途に好ましく用いられるものである。 - 特許庁 - The spherical ceramic has the maximum particle diameter of ≤20 μm, the average particle diameter of 5 nm to 10 μm, and the particle diameter distribution CV value of ≤60%.
球状セラミックは最大粒径が２０μｍ以下で、平均粒径が５ｎｍ〜１０μｍであり、その粒径分布はＣＶ値で６０％以下である。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device including a gate insulation film wherein water absorbency is reduced and the film thickness equivalent to a silicon oxide film is 1.5 nm or below.
吸水性が低減され、シリコン酸化膜等価膜厚が１．５ｎｍ以下であるゲート絶縁膜を有する半導体装置を提供する。 - 特許庁 - On the recording medium facing surface 9 of the TMR film 2, a floating surface protective layer 100 formed of a silicon nitride film having a thickness of about 2.0 nm is formed.
TMR膜２の記録媒体対向面９には、膜厚が約２．０ｎｍの窒化珪素膜からなる浮上面保護層１００が形成される。 - 特許庁 - To provide a dye covering a wavelength region of 500-560 nm in a polarizing film with high dyeability, durability and light resistance intended for liquid crystal projectors.
染色性、耐久性、耐光性に優れた液晶プロジェクター用の偏光膜において、500〜560ｎｍの範囲の領域をカバーする染料の提供。 - 特許庁 - A secondary dyestuff having the transmissivity of 15% or less in a wavelength of 590 nm and shown in the formula (1) dyes the red polarizing plate 4 of a liquid crystal color shutter 3.
波長５９０ｎｍでの透過率が１５％以下である二次的色素 で液晶カラーシャッタ３の赤色偏光板４を染色する。 - 特許庁 - An anti-reflection film 2 having λ=250 to 410 nm as a center wavelength is formed on an inner surface 1a of a lens base material 1.
レンズ基材１の内表面１ａに、λ＝２５０nm〜４１０nmを中心の波長とした反射防止膜２を成膜してなるものとしている。 - 特許庁 - An Al oxide layer 90 in the thickness of 40 nm is provided between the first semiconductor element 84A and the second semiconductor element 86.
第１の半導体素子８４Ａと第２の半導体素子８６との間には、膜厚４０ｎｍのＡｌ酸化層９０が介在している。 - 特許庁 - A light source 1 for illumination for measurement emits a light beam for illumination for measurement of which wavelength band is 600 to 900 nm via an aperture diaphragm 10.
測定用照明光源１は６００〜９００ｎｍの波長帯域の測定用照明光を開口絞り１０を介して出射する。 - 特許庁 - Ultra-fine particles 11, 14 each having a particle diameter of 1 to 100 nm are fixed on the surface of a grinding particle 13 having a particle diameter of 0.1 to several μm.
０．１乃至数μｍの粒径を有する砥粒１３の表面に、粒径が１乃至１００ｎｍの超微粒子１１、１４を固定した。 - 特許庁 - The alumina nano-tube formed of an alumina having a columnar shape of size 500 nm or less has a columnar slit 53 parallel to the columnar shape.
太さ５００ｎｍ以下の柱状形状を有するアルミナからなり、該柱状形状に平行な柱状細孔５３を有するアルミナナノチューブ。 - 特許庁 - The amorphous porous material has fine pores having 2-50 nm pore diameter and keeps a porous structure at ≤1400°C.
本アモルファス多孔質材料は、孔径が２〜５０ｎｍである細孔を有し、１４００℃以下において多孔質構造を維持できることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a material for an organic electroluminescent element, having ultraviolet organic electroluminescent ability of ≤400 nm, and also having a good carrier transport property.
４００ｎｍ以下の紫外有機電界発光能を有し、良好なキャリア輸送性を有する有機電界発光素子用材料の提供。 - 特許庁 - The adhesive double coated tape has separators having a center face average surface roughness (Sra) of ≤25 nm, laminated on both the surfaces of a tacky adhesive layer.
粘着剤層の両面に、中心面平均表面粗さ（ＳＲａ）が２５ｎｍ以下であるセパレータが積層された両面粘着テープ。 - 特許庁 - To provide a visible light-responsive photocatalyst enabling use of the light having a wavelength band longer than 640 nm, and also to provide a hydrogen generation device and an energy system using the photocatalyst.
６４０ｎｍよりも長波長域の光の利用を可能とする可視光応答型光触媒を提供することを目的とする。 - 特許庁 - (a) The average diameter of the island component in a cross section orthogonal to the axial direction of the sea-island conjugated fiber is 10 to 1,000 nm.
ａ）海島型複合繊維の繊維軸方向に直交する断面における島成分の平均直径が１０〜１０００ｎｍであること。 - 特許庁
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